Claims (26)
디스크 드라이브에 사용되는 디스크 기판에 있어서, 디스크 기판은 부분적으로 안정화된 산화 알루미늄으로 구성되며 10 옹스트롱 이하의 표면 조도(Ra)롤 가지는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.A disk substrate for use in a disk drive, wherein the disk substrate is composed of partially stabilized aluminum oxide and has a surface roughness (Ra) roll of 10 angstroms or less.
제1항에 있어서, 부분적으로 안정화된 산화 지르코늄은 산화 회토류 원소와 같은 2.5mo1% 내지 6mo1%의 회토류 원소를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.The disk substrate of claim 1, wherein the partially stabilized zirconium oxide comprises 2.5 mo1% to 6 mo1% of rare earth elements, such as a rare earth element.
제2항에 있어서, 디스크 기판은 텍스처 가공된 표면을 갖는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.The disk substrate of claim 2, wherein the disk substrate has a textured surface.
제3항에 있어서, 텍스처 가공된 표면은 열에칭, 화학적 에칭 및 플라즈마 에칭으로 구성된 그룹으로부터 선택된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.The disk substrate of claim 3, wherein the textured surface is produced by a method selected from the group consisting of thermal etching, chemical etching and plasma etching.
제1항에 있어서, 디스크 기판은 0.3% 이하의 소결 레벨 및 오염물을 갖는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.The disk substrate of claim 1, wherein the disk substrate has a sintering level of less than 0.3% and contaminants.
제1항에 있어서, 디스크 기판은 0.1% 이하의 다공성을 갖는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.The disk substrate of claim 1, wherein the disk substrate has a porosity of 0.1% or less.
디스크 드라이브에 사용되는 디스크 기판에 있어서, 디스크 기판은 부분적으로 안정화된 산화 지르코늄으로 구성되며 텍스처 가공된 표면을 갖는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.A disk substrate for use in a disk drive, wherein the disk substrate is composed of partially stabilized zirconium oxide and has a textured surface.
제7항에 있어서, 부분적으로 안정화된 산화 지르코늄은 산화 회토류원소로서 2.5mo1%와 4mo1% 사이의 회토류 원소를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.8. The disk substrate of claim 7, wherein the partially stabilized zirconium oxide comprises between 2.5mo1% and 4mo1% of rare earth elements as a rare earth element.
제8항에 있어서, 텍스처 가공된 표면은 열에칭, 화학적 에칭 및 플라즈마 에칭으로 구성된 그룹으로부터 선택된 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.The disk substrate of claim 8, wherein the textured surface is produced by a method selected from the group consisting of thermal etching, chemical etching and plasma etching.
제7항에 있어서, 디스크 기판은 0.3% 이하의 소결 레벨 및 오염물질을 갖는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.8. The disk substrate of claim 7, wherein the disk substrate has a sintering level of less than 0.3% and contaminants.
제7항에 있어서, 디스크 기판은 0.1% 이하의 다공성을 갖는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.8. The disk substrate of claim 7, wherein the disk substrate has a porosity of 0.1% or less.
헤드 및 제1항 또는 제7항의 디스크 기판으로 구성된 디스크 드라이브에 있어서, 헤드와 디스크 사이의 에어갭은 2마이크로 인치 이하인 것을 특징으로 하는 디스크 기판.A disk drive composed of a head and a disk substrate of claim 1, wherein the air gap between the head and the disk is less than 2 micro inches.
0.01um와 0.2um 사이의 그릿 크기를 갖는 다이아몬드 또는 산화 알루미늄 페이스트로 10 옹스트롱 이하의 표면 조도를 갖도록 부분적 안정화된 산화 지르코늄으로 구성된 기판을 폴리싱하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.Polishing a substrate composed of zirconium oxide partially stabilized to have a surface roughness of 10 angstroms or less with a diamond or aluminum oxide paste having a grit size between 0.01 um and 0.2 um.
제13항에 있어서, 디스크 기판을 텍스처 가공하는 단계를 부가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 13, further comprising texturing the disk substrate.
제14항에 있어서, 텍스처 가공은 열에칭, 화학적 에칭 및 플라즈마 에칭으로 구성된 그룹으로부터 선택된 방법에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 14, wherein the texturing is performed by a method selected from the group consisting of thermal etching, chemical etching, and plasma etching.
제14항에 있어서, 디스크를 형성하기 위해서 디스크 기판상에 피복을 적층하는 단계를 부가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 14, further comprising laminating a coating on the disk substrate to form the disk.
제16항에 있어서, 헤드와 디스크 사이에 2 마이크로 인치 이하의 플라잉 높이를 규정하기 위해서 헤드를 갖는 디스크 드라이브에 디스크를 설치하는 단계를 부가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.17. The method of claim 16, further comprising installing the disk in a disk drive having a head to define a flying height of 2 micro inches or less between the head and the disk.
부분적으로 산화지르코늄으로 구성된 디스크 기판이 안정화된 3um 내지 15um의 그릿 크기를 갖는 다이아몬드 산와 알루미늄 페이스트 및 그 혼합물을 가지고, 125 옹스트롱의 표면 조도를 갖도록 랩핑하는 단계와, 디스크 기판이 다이아몬드, 산화 알루미늄 및 그 혼합물에 의해 10 옹스트롱 이하의 표면 조도(Ra)를 갖도록 폴리싱되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.Wrapping the disk substrate, which is partially composed of zirconium oxide, with a diamond acid and aluminum paste having a grit size of 3 um to 15 um stabilized and a mixture thereof, having a surface roughness of 125 Angstroms, and the disk substrate being diamond, aluminum oxide and Polishing by the mixture to have a surface roughness (Ra) of 10 angstroms or less.
부분적으로 안정화된 산화 지르코늄으로 구성되며 10 옹스트롱 이하의 표면조도를 갖는 것을 특징으로 하는 부분적으로 안정화된 산화 지르코늄 기판.Partially stabilized zirconium oxide substrate, consisting of partially stabilized zirconium oxide and having a surface roughness of 10 angstroms or less.
제19항에 있어서, 부분적으로 안정화된 산화 지르코늄은 산화 회토류 원소로서, 2.5mo1%와 6mo1% 사이의 회토류 원소를 포함하는 것을 특징으로 하는 부분적으로 안정화된 산화 지르코늄 기판.20. The partially stabilized zirconium oxide substrate of claim 19, wherein the partially stabilized zirconium oxide comprises rare earth elements as the rare earth element, between 2.5 mo1% and 6 mo1%.
제20항에 있어서, 회토류 원소는 이트륨인 것을 특징으로 하는 부분적으로 안정화된 산화 지르코늄 기판.21. The partially stabilized zirconium oxide substrate of claim 20, wherein the rare earth element is yttrium.
제21항에 있어서, 회토류 원소 농도는 산화 회토류 원소로서 40mo1%인 것을 특징으로 하는 부분적으로 안정화된 산화 지르코늄 기판.22. The partially stabilized zirconium oxide substrate as recited in claim 21, wherein the rare earth element concentration is 40 mo1% as the rare earth element oxide.
디스크 드라이브에 사용되는 디스크 기판에 있어서, 디스크 기판은 탄화 붕소로 구성되는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.A disk substrate for use in a disk drive, wherein the disk substrate is made of boron carbide.
제23항에 있어서, 탄화붕소는 435GPa의 탄성 모듈러스, 0.1% 이하의 다공성 및 10 옹스트롱 이하의 표면 조도(Ra)를 가지는 것을 특징으로 하는 디스크 기판.The disk substrate of claim 23, wherein the boron carbide has an elastic modulus of 435 GPa, a porosity of 0.1% or less, and a surface roughness (Ra) of 10 angstroms or less.
디스크 드라이브에 사용되는 디스크 기판에 있어서, 디스크 기판은 10 옹스트롱 이하의 표면 조도(Ra)를 갖는 산화 알루미늄으로 안성된 산화 지르코늄으로 구성된 것을 특징으로 하는 디스크 기판.A disk substrate for use in a disk drive, wherein the disk substrate is composed of zirconium oxide stabilized with aluminum oxide having a surface roughness Ra of 10 angstroms or less.
10 옹스트롱 이하의 표면 조도(Ra)를 가지며 부분적으로 안정화된 산화 지르코늄으로 구성되며 3um과 15um 사이의 그릿을 가진 다이아몬드, 산화 알루미늄 또는 그 혼합물에 의해 125 옹스트롱의 표면 조도(Ra)를 가지도록 부분적으로 안정된 산화 지르코늄으로 구성된 디스크 기판을 랩핑하는 단계와, 디스크 기판이 0.01um과 0.2um 사이의 그릿 크기를 가진 다이아몬드, 산화알루미늄, 또는 그 혼합물에 의해 10 옹스트롱 이하의 표면 조도(Ra)를 갖도록 폴리싱하는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 기판.It has a surface roughness (Ra) of 10 angstroms or less and is composed of partially stabilized zirconium oxide and has a surface roughness (Ra) of 125 angstroms by diamond, aluminum oxide or mixtures thereof with grit between 3 um and 15 um. Wrapping a disk substrate composed of partially stable zirconium oxide, and the surface roughness (Ra) of 10 angstroms or less is reduced by diamond, aluminum oxide, or mixtures thereof having a grit size between 0.01 um and 0.2 um. A substrate, which is produced by a method comprising the step of polishing to have.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.