KR970068752A - 고전력 마이크로파 플라즈마 어플리케이터(high power microwave plasma applicator) - Google Patents

고전력 마이크로파 플라즈마 어플리케이터(high power microwave plasma applicator) Download PDF

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샹 쿠안유안
에스. 로 캄
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Abstract

플라즈마 어플리게이터는 실린더형 외부 튜브와; 상기 외부 튜브내에 배치되고, 상기 외부 튜브와 동심이며, 제 1 단부와 제 2 단부를 가지는 실린더형 플라즈마 튜브와; 상기 플라즈마 튜브의 제 1 단부에서 상기 플라즈마 튜브를 둘러싸고, 상기 플라즈마 튜브와 상기 제 1 지지대 사이에 압착되며, 상기 플라즈마 튜브의 상기 제 1 단부로부터 제 1 거리에 배치되는 시일과; 상기 플라즈마 튜브내의 제 2 거리를 연장하는 시일드를 포함한다.

Description

고전력 마이크로파 플라즈마 어플리케이터(HIGH POWER MICROWAVE PLASMA APPLICATOR)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
도 1은 본 발명에 따른 마이크로파 플라즈마의 단면도, 도 2는 도 1로부터의 상부 칼라의 단면도, 도 3은 플라즈마 어플리케이터의 입력단을 도시하는 도면, 도 4는 도 1에 도시된 플라즈마 어플리케이터를 사용하는 플라즈마 처리 시스템의 블록도.

Claims (9)

  1. 실린더형 외부 튜브와; 상기 외부 튜브내에 배치되고, 상기 외부 튜브와 동심이며, 제 1 단부와 제 2 단부를 가지는 실린더형 플라즈마 튜브와; 상기 플라즈마 튜브의 제 1 단부에서 상기 플라즈마 튜브를 둘러싸고, 상기 플라즈마 튜브와 상기 제 1 지지대 사이에 압착되며, 상기 플라즈마 튜브의 상기 제 1 단부로부터 제 1 거리에 배치되는 시일과; 상기 플라즈마 튜브내의 제 2 거리를 연장하는 시일드를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 어플리케이터.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 거리는 상기 제 1 거리보다 더 큰 것을 특징으로 하는 플라즈마 어플리케이터.
  3. 실린더형 외부 튜브와; 상기 외부 튜브내에 배치되고, 상기 외부 튜브와 중심이 같고, 내부 벽을 가지는 실린더형 플라즈마 튜브와; 상기 플라즈마 튜브내로 연장하는 플러그를 가지고, 상기 플라즈마 튜브와 상기 플라즈마 튜브의 상기 내부 벽내로 연장하는 상기 플러그의 부분 사이의 환형 갭 영역을 한정하는 어댑터를 포함하며, 상기 어댑터는 처리 가수가 작동 동안 상기 플라즈마내로 흐르는 루트를 형성하도록 그 안에 형성되고 상기 환형 갭 영역과 통하는 통로를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 어플리케이터.
  4. 실린더형 외부 튜브와; 상기 외부 튜브내에 배치되고 상기 외부 튜브와 축방향으로 정렬되는 실린더형 플라즈마 튜브를 포함하고, 상기 실린더형 플라즈마 튜브와 상기 외부 튜브는 냉각제가 작동 동안 흐르는 환형 갭 영역을 형성하고; 상기 플라즈마 튜브의 상기 제 1 단부에 배치되는 제 1 지지대를 포함하고, 상기 제 1 지지대는 그 안에 형성된 제 1 홀을 가지고 상기 플라즈마 튜브와 상기 외부 튜브를 둘 다 수용하며, 상기 홀은 내부벽을 가지고; 상기 플라즈마 튜브의 상기 제 1 단부에서 상기 플라즈마 튜브를 둘러싸고 상기 플라즈마 튜브와 상기 제 1 홀의 내부 벽 사이로 연장하는 제 1 시일과; 상기 외부 튜브를 둘러싸고 상기 외부 튜브와 상기 제 1 홀의 내부 벽 사이로 연장하는 제 2 시일을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 어플리케이터.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 플라즈마 튜브의 상기 제 2 단부에 배치되고, 그 안에 형성되고 내부벽을 가지는 제 2 홀을 구비하며, 상기 플라즈마 튜브와 상기 외부 튜브를 둘 다 수용하는 제 2 지지대와; 상기 플라즈마 튜브의 제 2 단부에서 상기 플라즈마 튜브를 둘러싸고 상기 외부 튜브와 상기 제 2 홀의 상기 내부 벽 사이로 연장하는 제 3 시일과; 상기 외부 튜브를 둘러싸고 상기 외부 튜브와 상기 제 2 홀의 상기 내부 벽 사이로 연장하는 제 4 시일을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 어플리케이터.
  6. 제 4항에 있어서, 상기 플라즈마 튜브는 제 1 길이를 가지고, 상기 외부 튜브는 제 2 길이를 가지며, 상기 제 1 길이는 상기 제 2 길이보다 더 큰 것을 특징으로 하는 플라즈마 어플리케이터.
  7. 제 6항에 있어서, 상기 플라즈마 튜브는 상기 외부 튜브의 둘 다의 외부로 연장하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 어플리케이터.
  8. 제 4항에 있어서, 상기 제 1 지지대는 그것에 형성된 상기 홀을 통과하고 상기 홀내로 연장하는 다수의 냉각제 유입 포트를 포함하고, 냉각제가 상기 환형 갭 영역내의 상기 다수의 냉각제 유입 포트를 통해 주입될 때 0의 방사 방향으로 상기 플라즈마 튜브에 대한 최종적인 힘을 형성하도록 상기 다수의 냉각제 유입 포트는 상기 플라즈마 튜브의 축 둘레에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 어플리케이터.
  9. 실린더형 외부 튜브와; 상기 외부 튜브내에 배치되고 상기 외부 튜브와 축방향으로 정렬되는 실린더형 플라즈마 튜브를 포함하고, 상기 플라즈마 튜브는 제 1 단부와 제 2 단부를 가지고, 상기 실린더형 플라즈마 튜브와 상기 외부 튜브는 냉각제가 작동 동안 흐르는 환형 갭 영역을 형성하고; 상기 플라즈마 튜브의 상기 제 1 단부에 배치되는 제 1 지지대를 포함하고, 상기 제 1 지지대는 그 안에 형성된 실린더형 제 1 홀을 가지고 상기 플라즈마 튜브와 상기 외부 튜브를 둘 다 수용하며, 상기 실린더형 홀은 내부 벽을 가지고; 상기 플라즈마 튜브의 제 1 단부에서 상기 플라즈마 튜브를 둘러싸고 상기 플라즈마 튜브와 상기 실린더형 홀의 상기 내부 벽 사이로 연장하며, 상기 플라즈마 튜브의 상기 제 1 단부로부터의 제 1 거리에 배치되는 제 1 시일과; 상기 외부 튜브를 둘러싸고 상기 외부 튜브와 상기 실린더형 홀의 상기 내부 벽 사이로 연장하는 제 2 시일을 포함하며; 상기 제 1 지지대는 그것을 통해 통과하고 그 안에 형성된 상기 홀내로 연장하며, 상기 플라즈마 튜브의 축 둘레레 대칭적으로 위치되는 다수의 냉각제 유입 포트를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 어플리케이터.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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