KR970028865A - 노광장치 및 노광방법 - Google Patents
노광장치 및 노광방법 Download PDFInfo
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Abstract
레티클의 패턴영역의 설계값에 대한 위치오차, 투과율 또는 팽창율을 미리 측정하여 기억장치에 기억하여 두고, 주제어장치에서는 노광에 사용하는 레티클상에 바코드에 기록된 식별정보를 리더로 읽어내어, 이 식별정보에 대응하는 레티클의 팽창율의 정보 또는 위치 오차의 정보를 기억장치로부터 읽어낸다. 팽창율의 정보와 측정된 노광광의 광량에 기초하여 레티클의 팽창량을 연산하여 배율 조정기에 의하여 투영렌즈의 배율을 보정한다. 또 위치 오차의 정보에 기초하여 레티클과 감광기판의 위치 오차량을 연산하고 얼라인먼트계에서 보정한다. 레티클의 교환때마다 투과율 등을 측정할 필요가 없기 때문에 생산성이 향상하는 것과 함께 마스크의 열변형에 기인하는 중첩 맞춤 정도와 선폭 정도의 저하가 방지된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 관련된 노광장치의 개략 구성을 나타내는 도면.
제2도는 본 발명의 제2실시예에 관련된 노광장치의 개략 구성을 나타내는 도면.
Claims (21)
- 마스크에 형성된 패턴을 투영 광학계를 통하여 감광기판상에 전사하는 노광장치에 있어서, 상기 마스크상의 일부영역에 설치되고 그 마스크의 식별정보가 기억된 정보 기록부와; 상기 식별 정보를 읽어들이는 읽어들임 장치와; 미리 측청된 복수개의 마스크상의 패턴의 위치오차에 관한 정보가 기억된 기억장치와; 상기 마스크와 감광기판과의 상대적 위치 맞춤을 행하는 위치맞춤 기구와; 상기 읽어들임 장치에 의하여 읽어들인 식별정보에 대응하는 마스크상의 패턴의 위치오차에 관한 정보를 상기 기억장치로부터 읽어내어 이 읽어낸 정보를 사용하여 마스크와 감광기판의 상대위치 오차량을 연산하는 연산기와; 상기 연산기에서 연산된 상대위치 오차량이 보정되도록 상기 위치맞춤 기구를 제어하는 제어수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 투영 광학계의 배율을 조정하는 배율저정계를 또한 가지며, 상기 연산기가 상기 읽어들임 장치에 의하여 읽어들여진 식별정보에 대응하는 마스크상의 패턴의 위치오차에 관한 정보를 상기 기억 장치로부터 읽어내고, 이 읽어낸 정보를 사용하여 마스크와 감광기판의 상대위치 오차량 및 마스크의 신축량을 연산하고, 상기 제어수단이 상기 연산기에서 연산된 상대위치 오차량이 보정되도록 상기 위치맞춤 기구를 제어함과 함께 상기 마스크의 신축량에 대응하여 상기 배율조정계를 제어하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 정보 기록부가 상기 기억장치로서 기능하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제3항에 있어서, 상기 정보 기록부가 저기 기록매체 또는 광자기 기록매체로 구성되어 있고, 상기 읽어들임장치가 자기 헤드 또는 광자기 헤드인 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제1항에 있어서, 상기 정보 기록부가 바코드 형태로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 마스크에 형성된 패턴을 투영 광학계를 통하여 감광기판상에 전사하는 노광방법에 있어서, 노광공정 전에 각종 마스크 패턴의 설계값에 대한 위치오차를 측정하고 측정된 위치오차에 관한 정보를 각각 측정한 마스크의 식별정보와 함께 기억하고; 노광에 사용되는 마스크에 기록된 그 마스크의 식별정보를 읽어들이고; 상기 기억된 마스크의 식별정보와 패턴의 설계값에 대한 위치오차에 관한 정보로부터 읽어들인 그 마스크의 식별정보에 대응하는 패턴의 설계값에 대한 위치오차에 관한 정보를 읽어내고 그 읽어낸 정보를 사용하여 마스크와 감광기판의 상대위치 오차량을 연산하고; 상기 연산된 상대위치 오차량이 보정되도록 마스크와 감광기판의 위치 맞춤을 행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
- 제6항에 있어서, 상기 읽어낸 정보를 사용하여 마스크와 감광기판의 상대위치 오차량과 마스크의 신축량을 연산하고, 상기 연산된 상대위치 오차량 및 마스크의 신축량이 보정되도록 마스크와 감광기판의 위치 맞춤 및 투영광학계의 배율 변경을 하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
- 제6항에 있어서, 상기 위치 오차에 관한 정보와 마스크의 식별정보를 마스크상의 정보 기록부에 기록시키는 것을 특징으로 하는 노광방법.
- 마스크에 노광광을 조사하여 마스크에 형성된 패턴을 투영 광학계를 통하여 감광기판상에 전사하는 노광장치에 있어서, 상가 마스크에 조사되는 상기 노광광의 광량을 측정하는 광량 측정기와; 상기 마스크상의 일부영역에 설치된 그 마스크의 식별정보가 기억된 정보 기록부와; 상기 식별정보를 읽어들이는 읽어들임 장치와; 미리 측정된 복수의 마스크 패턴 영역의 투과율 및 투과율에 관련된 물리량의 적어도 한 종류의 정보가 기억된 기억장치와; 상기 투영 광학계의 결상특성을 조정하는 결상특성 조정계와; 상기 읽어들임 장치에 의하여 읽어들여진 식별정보에 대응하는 상기 마스크 패턴 영역의 투과율 및 투과율에 관련되는 물리량의 적어도 한 종류의 정보를 상기 기억장치로부터 읽어내고 이 읽어낸 정보와 상기 광량 측정기에 의하여 측청된 광량에 기초하여 그 마스크의 팽창량을 연산하는 연산기와; 상기 연산기에 의하여 연산된 팽창량에 기초하여 마스크의 팽창에 따라서 배율변동이 보정되도록 상기 결상특성 조정계를 제어하는 제어수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제9항에 있어서, 상기 정보 기록부가 상기 기억장치로서 기능하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제10항에 있어서, 상기 정보 기록부가 자기 기록매체 또는 광자기 기록매체로 구성되어 있고, 상기 읽어들임 장치가 자기 헤드 또는 광자기 헤드인 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제9항에 있어서, 상기 정보 기록부가 바코드의 형태로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 마스크에 노광광을 조사하여 마스크에 형성된 패턴을 투영 광학계를 통하여 감광기판상에 전사하는 노광장치에 있어서, 상기 마스크에 조사되는 상기 노광광의 광량을 측정하는 광량 측정기와; 상기 마스크상의 일부영역에 설치된 그 마스크의 식별정보가 기록된 정보 기록부와; 상기 식별정보를 읽어들이는 읽어들임 장치와; 미리 측정된 복수의 마스크 패턴영역의 투과율 및 투과율에 관련되는 물리량의 적어도 한 종류의 정보가 기억된 기억장치와; 상기 투영 광학계의 결상특성을 조정하는 결상특성 조정계와; 상기 읽어들임 장치에 의하여 읽어들여진 식별정보에 대응하는 마스크 패턴영역의 투과율 및 투과율에 관련되는 물리량의 적어도 한 종류의 정보를 상기 기억 장치로부터 읽어내고, 이 읽어낸 정보와 상기 광량 측정기에 의하여 측정된 광량에 기초하여 상기 투영 광학계의 결상특성의 변동량을 연산하는 연산기와; 상기 연산기에 의하여 연산된 결상특성의 변동량에 기초하여 투영 광학계의 배율 및 포커스 위치가 보정되도록 상기 결상특성 조정계를 제어하는 제어수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제13항에 있어서, 상기 연산기가 상기 읽어들임장치에 의하여 읽어들여진 식별정보에 해당하는 마스크 패턴영역의 투과율 및 투과율에 관련되는 물리량의 적어도 한 종류의 정보를 상기 기억장치로부터 읽어내어, 이 읽어낸 정보와 상기 광량 측정기에 의하여 측정된 광량에 기초하여 그 마스크의 팽창량과 상기 투영 광학계의 결상특성의 변동량을 연산하고, 상기 제어수단은 상기 연산기에 의하여 연산된 팽창량과 상기 투영 광학계의 결상특성의 변동량에 기초하여 마스크의 팽창에 따르는 배율변동과 투영 광학계의 배출 및 포커스 위치가 보정되도록 상기 결상특성 조정계를 제어하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제13항에 있어서, 상기 정보 기록부가 상기 기억장치로서 기능하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제15항에 있어서, 상기 정보 기록부가 자기 기록매체 또는 광자기 기록매체로 구성되어 있고, 상기 읽어들임장치는 자기 헤드 또는 광자기 헤드인 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제13항에 있어서, 상기 정보 기록부가 바코드의 형태로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 마스크에 노광광을 조사하여 마스크에 형성된 패턴을 투영 광학계를 통하여 감광 기판상에 전사하는 노광방법에 있어서, 노광 공정 전에 각종 마스크 패턴영역의 투과율 및 투과율에 관련되는 물리량의 적어도 한 종류의 정보를 이들 마스크의 식별정보와 함께 기억하고; 노광에 사용되는 마스크에 기록된 그 마스크의 식별정보를 읽어들이고; 상기 노광광의 광량을 측정하고; 상기 기억된 마스크의 식별정보와 상기 각종 마스크패턴영역의 투과율 및 투과율에 관련되는 물리량의 적어도 한 종류의 정보로부터 읽어들인 그 마스크의 식별정보에 대응하는 마스크 패턴 영역의 투과율 및 투과율에 관련되는 물리량의 적어도 한 종류의 정보를 읽어내고, 이 읽어낸 정보와 상기 측정된 광량에 기초하여 그 마스크의 팽창량과 투영 광학계의 결상특성의 변동량의 적어도 한 종류를 연산하고; 상기 연산된 마스크의 팽창량과 투영 광학계의 결상특성의 변동량의 적어도 한 종류가 보정되도록 투영 광학계의 결상특성을 조정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
- 제18항에 있어서, 상기 노광공정 전에 각종 마스크 패턴영역의 투과율 및 투과율에 관련되는 물리량의 적어도 한 종류를 미리 측정하고, 측정결과를 이들 마스크의 식별정보와 함께 기억하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
- 제18항에 있어서, 상기 투과율에 관련되는 물리량이 마스크에 조사되는 조사광량의 적분값에 대한 마스크의 팽창율인 것을 특징으로 하는 노광방법.
- 제18항에 있어서, 상기 각종 마스크 패턴영역의 투과율 및 투과율에 관련되는 물리량의 적어도 한 종류의 정보와 마스크의 식별정보를 마스크상의 정보 기록부에 기록시키는 것을 특징으로 하는 노광방법.※ 참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970028865A true KR970028865A (ko) | 1997-06-24 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| KR1019960054159A KR970028865A (ko) | 1995-11-16 | 1996-11-15 | 노광장치 및 노광방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970028865A (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100819240B1 (ko) * | 2005-04-20 | 2008-04-02 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광장치의 조명광학계의 유효광원분포 측정장치 및 그것을 가지는 노광장치 |
| KR101427983B1 (ko) * | 2007-05-25 | 2014-09-23 | 구완회 | 얼라인먼트 방법 및 장치 |
-
1996
- 1996-11-15 KR KR1019960054159A patent/KR970028865A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100819240B1 (ko) * | 2005-04-20 | 2008-04-02 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광장치의 조명광학계의 유효광원분포 측정장치 및 그것을 가지는 노광장치 |
| KR101427983B1 (ko) * | 2007-05-25 | 2014-09-23 | 구완회 | 얼라인먼트 방법 및 장치 |
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