KR970021001A - 증착튜브의 증착층 균일화 방법 - Google Patents

증착튜브의 증착층 균일화 방법 Download PDF

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KR970021001A
KR970021001A KR1019950037675A KR19950037675A KR970021001A KR 970021001 A KR970021001 A KR 970021001A KR 1019950037675 A KR1019950037675 A KR 1019950037675A KR 19950037675 A KR19950037675 A KR 19950037675A KR 970021001 A KR970021001 A KR 970021001A
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laser beam
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KR1019950037675A
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조준형
오경환
송영휘
박래혁
박형주
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권문구
Lg 전선주식회사(전선)
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563—Gas nozzles
    • C23C16/45578—Elongated nozzles, tubes with holes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

본 발명은 MCVD법을 이용한 증착튜브의 증착공정 중에서 증착튜브의 내경을 측정하여 분석함으로써 증착 튜브 내부에 증착되는 증착층 두께의 균일성을 향상시키는 방법 관한 것으로, 본 발명에 따른 증착튜브의 증착층 균일화 방법을 헬륨-네온 레이져 빔을 이용한 증착 튜브의 내경을 측정하는 방법을 이용하는 것으로 증착 튜브의 내경 측정은 증착튜브내에 흘러다니는 화학가스에 의해 산란되는 레이져 빔의 감지를 통해 화학가스의 속도 분포를 측정하여 상기 속도가 0이되는 두 부분 사이의 거리 측정에 의해 이루어지며, 이러한 증착튜의 내경 측정에 따라 중착튜브의 내경 변화가 파악되고 이에 따라 이어지는 증착공정시에 토치램프의 온도 및 이송속도, 증착튜브의 회전속도, 또는 원료 가스의 유입량을 조절하여 증착튜브 내부에 증착되는 증착량의 두께를 보다 균일하게 하는 것을 특징으로 하고 있다.

Description

증착튜브의 증착층 균일화 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (4)

  1. MCVD증착 공정을 통해 증착튜브내에 형성되는 증착층의 두께를 균일하게 유지시켜주는 과정에 있어서, 화학가스에 의해 산란되는 레이져 빔을 이용하여 증착튜브의 내경을 측정하는 것을 특징으로 하는 증착튜브의 증착층 균일화 방법.
  2. 제1항에 있어서, 증착튜브의 내경 측정은, 증착튜브내에 흘러다니는 화학가스에 의해 산란되는 레이져 빔의 감지를 통해 화학가스의 속도 분포를 측정하여 상기 속도가 0이 되는 두 부분 사이의 거리측정에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 증착튜브의 증착층 균일화 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 증착튜브에 투사되는 레이져 빔이 헬륨-네온 레이져 빔인 것을 특징으로 하는 증착튜브의 증착층 균일화 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서 증착튜브의 내경 변화에 따라, 이어지는 증착 공정시에 토치램프의 온도 및 이송속도, 증착튜브의 회전속도, 또는 증착 원료 가스의 유입량을 조절하는 것을 특징으로 하는 증착튜브의 증착층 균일화 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950037675A 1995-10-27 1995-10-27 증착튜브의 증착층 균일화 방법 KR970021001A (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100641941B1 (ko) * 2005-04-08 2006-11-06 엘에스전선 주식회사 길이방향으로 균일성을 갖는 기가비트급 전송시스템용다중모드 광섬유의 제조방법
KR20060130845A (ko) * 2005-06-09 2006-12-20 엘에스전선 주식회사 수정화학기상 증착을 이용한 광섬유 모재의 제조 방법 및이를 위한 장치

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KR100641941B1 (ko) * 2005-04-08 2006-11-06 엘에스전선 주식회사 길이방향으로 균일성을 갖는 기가비트급 전송시스템용다중모드 광섬유의 제조방법
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