KR970018004A - 액체 화학 기상 증착 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 LSCVD(liquid source chemical vapor deposition;액체 화학 기상 증착) 장치에 관한 것으로서, 특히 LSCVD 장치의 기화기(vaporizor)에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반드체 기판에 소정의 소스를 증착하는 액체 화학 기상 증착 장치에 있어서, 액체로 용해된 액체 소스를 공급하는 다수의 액체 소스 공급관; 상기 다수의 액체 소스 공급관으로부터 각각 액체 소스를 유입하여 액체소스를 기화시키는 다수의 기화기; 상기 기화기에서 기화된 소스를 균일한 양으로 통과시키는 샤워헤드 및 상기 기화기에서 기화된 소스가 안정될 때까지 소스공급을 차단하는 셔터를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 LSCVD 장치는 기화기에서 반응 챔버(150)까지의 거리를 근본적으로 단축시켰기 때문에 동작조건에 따라 민감하게 기화된 소스가 응축되는 현상을 방지한다.
또한, 샤터의 동작으로 초기에 안정되지 못한 기상 소스를 차단하는 효과를 제공한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 액체 화학 기상 증착 장치의 기화기를 설명하기 위한 도면이다.
Claims (3)
- 반도체 기판에 소정의 소스를 증착하는 액체 화학 기상 증착 장치에 있어서, 액체로 용해된 액체 소스를 공급하는 다수의 액체 소스 공급관; 상기 다수의 액체 소스 공급관으로부터 각각 액체 소스를 유입하여 액체소스를 기화시키는 다수의 기화기; 상기 기화기에서 기화된 소스를 균일한 양으로 통과시키는 샤워헤드 및 상기 기화기에서 기화된 소스가 안정될 때까지 소스공급을 차단하는 셔터를 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 화학 기상 증착 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 액체 화학 기상 증착 장치는 기화기의 메탈(metal) 스폰지를 통해 나온 기화된 소스를 바로 반응기로 분사하는 것을 특징으로 하는 액체 화학 기상 증착 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기화기는 상기 기화기와 반응기 간에 라인으로 연결하지 않는 것을 특징으로 하는 액체 화학 기상 증착 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950033003A KR970018004A (ko) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 액체 화학 기상 증착 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950033003A KR970018004A (ko) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 액체 화학 기상 증착 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970018004A true KR970018004A (ko) | 1997-04-30 |
Family
ID=66582242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950033003A KR970018004A (ko) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 액체 화학 기상 증착 장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970018004A (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100401544B1 (ko) * | 2001-02-06 | 2003-10-17 | 삼성전자주식회사 | 반도체 공정에 사용되는 가스를 제공하는 방법 및 장치그리고 이를 갖는 가공 장치 |
| KR20190123380A (ko) * | 2018-04-23 | 2019-11-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 성막 장치 및 성막 방법 |
-
1995
- 1995-09-29 KR KR1019950033003A patent/KR970018004A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100401544B1 (ko) * | 2001-02-06 | 2003-10-17 | 삼성전자주식회사 | 반도체 공정에 사용되는 가스를 제공하는 방법 및 장치그리고 이를 갖는 가공 장치 |
| KR20190123380A (ko) * | 2018-04-23 | 2019-11-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 성막 장치 및 성막 방법 |
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