KR970007070Y1

KR970007070Y1 - Prefabricated illumination apparatus in photolithography

Info

Publication number: KR970007070Y1
Application number: KR2019940005793U
Authority: KR
Inventors: 배상만
Original assignee: 현대전자산업 주식회사; 김주용
Priority date: 1994-03-22
Filing date: 1994-03-22
Publication date: 1997-07-15
Also published as: KR950028647U

Abstract

내용없음No content

Description

Prefabricated rotary lighting device

제1도는 종래에 의한 윤대조명기구 장치의 구성도.1 is a block diagram of a conventional lighting device according to the prior art.

제2도는 본 고안에 의한 조립식 윤대조명기구 장치의 일실시예를 나타낸 전체 구성도.Figure 2 is an overall configuration showing an embodiment of a prefabricated circular lighting apparatus according to the present invention.

제3도는 본 고안에 의한 외측동판의 결합구성도.3 is a coupling configuration of the outer copper plate according to the present invention.

제4도는 본 고안에 의한 내측동판의 작용상태도.4 is a working state of the inner copper plate according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1 : 외측동판1' : 내측동판1: outer copper plate 1 ': inner copper plate

2 : 내측동판 지지대3 : 외측동판 받침대2: inner copper plate support 3: outer copper plate support

4 : 돌출편5 : 안내홈4: protrusion 5: guide groove

본 고안은 반도체 제조시 미세패턴 형성을 위한 리소그래피 공정에서 조광장치의 변형조명기구에 관한 것으로, 특히 조명기구 형태를 마스크의 패턴형상에 맞도록 가변되는 조립식 윤대조명기구 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a deformed illumination device of a light control device in a lithography process for forming a fine pattern in the manufacture of a semiconductor, and more particularly, to a prefabricated circumferential illumination device device in which the shape of the luminaire is varied to match the pattern of the mask.

리소그래피 공정에서 미세패턴 정도 및 주문형 반도체 등과 같은 복잡한 마스크 패턴 형성시 패턴의 형태, 패턴선폭의 라인/스페이스에 따라서 여러 가지의 변형조명기구를 특수하게 제작하여 그때마다 적절한 것을 사용하였다.In the lithography process, various deformation lighting apparatuses were specially manufactured according to the shape of the pattern and the line / space of the pattern line when forming complex mask patterns such as the degree of fine patterns and custom semiconductors.

즉, 감광막이 도포되어 있는 웨이퍼에 패턴을 형성하기 위해서는 우선, 마스크의 미세패턴에 따라 그 형상에 맞게 변형조명기구를 선택하여 빛을 투영해야만 미소패턴에 따른 정확한 분해능을 얻을 수 있기 때문에 상기와 같은 여러종류의 패턴형태에 알맞도록 고정식 형태로 여러타입의 조명기구를 미리 만들어 둔 후에 이를 사용목적에 따라 교체하여 사용하였던 것이다.That is, in order to form a pattern on a wafer coated with a photoresist film, first, a deformation lighting apparatus is selected according to the shape of a mask according to a fine pattern of the mask, and light is projected to obtain accurate resolution according to the micropattern. Various types of lighting fixtures were made in advance in a fixed form to suit various types of patterns, and then used according to the purpose of use.

그 대표적인 예가 제1도에 나타낸 바와 같이, 원형의 절개부를 형성한 외측동판(1)의 원형부에 내측동판(1')을 고정끈 등의 지지대(2)로 고정시킨 환형 형태의 조명기구로 상기 외측동판의 원형부의 오픈된 지역을 통과한 빛이 고리형태의 조명이 되도록 하여 웨이퍼 패턴 형성에 이용된다. 상기와 같은 조명기구는 보통 형상에 다른 6개 정도의 타입을 준비해 두고 사용하는 실정이다.As a representative example thereof, as shown in FIG. 1, an annular lighting device in which an inner copper plate 1 'is fixed to a circular portion of an outer copper plate 1 having a circular cutout by a support 2 such as a fixing strap. The light passing through the open area of the circular part of the outer copper plate is used to form a wafer pattern by making the ring-shaped illumination. Lighting fixtures as described above are usually used to prepare six types of different shapes.

그런데, 웨이퍼에 패턴을 형성하는 리소그래피 공정에서 패턴밀도나 마스크의 놓인 위치에 따라 조명장치의 형태를 달리하여야 할 필요가 있을 때에는 미리 준비해 두었던 타입중 그에 맞는 것을 선택하여 사용하거나, 없을시는 조명기구를 새로 제작하여야 하기 때문에 다양한 조명원리를 확보하기가 어려웠다. 또한, 상기 마스크의 다양한 패턴 형성의 요구에 따라 투영되는 상기 변형조명기구들은 모양이 한정되어 있어서 사용 및 선택이 다양하지 못하여 노광원리를 최대한 만족시킬 수 없었다.By the way, in the lithography process of forming a pattern on a wafer, when the shape of the lighting device needs to be changed according to the pattern density or the position of the mask, a suitable type of the previously prepared type is used or the lighting fixture is not present. It was difficult to secure a variety of lighting principles because the new must be produced. In addition, the deformation lighting apparatuses projected according to the requirements of forming various patterns of the mask are limited in shape, so that the use and selection thereof are not varied, and thus, the principle of exposure cannot be fully satisfied.

따라서, 종래의 변형조명기구는 미세패턴의 형태에 따라 다양한 종류의 조명기구를 만들어 두어야 하며, 이를 위하여는 제작시간 및 비용이 많이 들고, 여러개의 조명기구의 설치공간을 차지하는 부피가 큰 문제점을 내포하고 있었다.Therefore, the conventional lighting fixtures have to make various kinds of lighting fixtures according to the shape of the micropattern. For this purpose, the manufacturing time and cost are high, and the bulky lighting occupies the installation space of several lighting fixtures. Was doing.

본 고안은 상기의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로써, 마스크의 미세패턴 형성에 따라 그의 형태에 알맞도록 자유로이 변화시켜 조명하므로 미세패턴 형성 및 분해능을 향상시키는 조립식 윤대조명기구를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention has been devised to solve the above problems, and to provide a prefabricated circular illumination device that improves the fine pattern formation and resolution because the illumination is freely changed to suit its shape according to the formation of the fine pattern of the mask. There is this.

상기 문제점을 해결하기 위하여 본 고안은, 광원으로부터 나온 빛을 포토마스크의 형상에 맞게 투과시키므로서 웨이퍼의 감광막과 반응하여 패턴을 형성하는 축소노광장치에 적용되는 윤대조명기구 장치에 있어서, 그 중앙에 소정크기의 원형부가 형성되도록 부채꼴 형상을 갖는 다수의 조각편으로 형성되며, 상기 각각의 조각편 하단부 소정위치에 돌출편이 일체로 구비된 외측동판; 상기 외측동판의 원형부 내측에 구비되며, 원을 소정각도로 등분하여 절개시킨 다수의 절개편으로 형성되며, 상기 각각의 절개편이 서로 교차로 소정크기 만큼 포개지도록 형성된 내측동판; 상기 각각의 외측동판에 대응되도록 그의 하단에 각각 구비되며, 상기 외측동판의 돌출편을 안내하는 소정크기의 안내홈을 각각 형성한 외측동판 받침수단; 및 상기 각각의 외측동판과 내측동판을 연결, 지지하며, 필요에 따라 이동시켜 상기 내측동판의 반경을 조절하는 지지수단을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention, in the center of the circular illumination device device is applied to a reduction exposure apparatus for forming a pattern by reacting with the photosensitive film of the wafer while transmitting the light from the light source to the shape of the photomask, An outer copper plate which is formed of a plurality of pieces having a fan shape so that a circular portion having a predetermined size is formed, and a protrusion piece is integrally provided at a predetermined position of the lower end of each piece; An inner copper plate provided inside the circular part of the outer copper plate and formed of a plurality of cut pieces that are cut by dividing a circle at a predetermined angle, and the cut pieces are overlapped with each other by a predetermined size; Outer copper plate support means which are respectively provided at a lower end of the outer copper plate so as to correspond to the outer copper plate, and each having guide grooves of a predetermined size for guiding the protruding pieces of the outer copper plate; And supporting means for connecting and supporting each of the outer copper plate and the inner copper plate, and moving as necessary to adjust the radius of the inner copper plate.

이하, 첨부된 제2도 내지 제4도의 도면을 참조하여 본 고안의 일실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings of FIGS. 2 to 4.

제2도는 본 고안에 의한 조립식 윤대조명기구 장치의 일실시예를 나타낸 전체 구성도이고, 제3도는 본 고안에 의한 외측동판의 결합구성도이고, 제4도는 본 고안에 의한 내측동판의 작용상태를 각각 나타낸다.2 is an overall configuration diagram showing an embodiment of a prefabricated circular lighting apparatus according to the present invention, Figure 3 is a coupling configuration of the outer copper plate according to the present invention, Figure 4 is an operating state of the inner copper plate according to the present invention Respectively.

도면에서 1은 외측동판, 2는 지지대, 3은 외측동판 받침대, 4는 돌출편, 5는 안내홈, 6은 내측동판을 각각 나타낸 것이다.In the drawings, 1 is an outer copper plate, 2 is a support plate, 3 is an outer copper plate support, 4 is a protruding piece, 5 is a guide groove, and 6 is an inner copper plate.

광원으로부터 나온 빛을 포토마스크의 형상에 맞게 투과시키므로서 웨이퍼의 감광막과 반응하여 패턴을 형성하는 축소노광장치에 적용되는 본 고안의 윤대조명장치는 개략적으로 내측원형동판(6)의 크기(반경:r) 또는 외측동판(1) 홀의 반경(R)의 크기를 가변시킬 수 있도록 한 것으로, 도면에 도시한 바와 같이, 상기 조명기구의 외측동판(1)은 중심부에 원형이 생기도록 부채꼴 형상의 4개의 조각편으로 분리 제작되고, 상기 각각의 외측동판(1)의 하단에는 나선형으로 형성된 소정크기의 돌출편(4)이 일체로 구비된다.The circular illumination device of the present invention, which is applied to a reduction exposure apparatus that transmits light from a light source to a shape of a photomask and forms a pattern by reacting with a photosensitive film of a wafer, roughly has a size (radius: r) or the size of the radius (R) of the outer copper plate (1) hole to be variable, as shown in the figure, the outer copper plate (1) of the luminaire has a fan-shaped 4 to form a circle in the center Produced separately into pieces, the lower end of each of the outer copper plate (1) is provided with a protrusion piece 4 of a predetermined size formed in a spiral.

그리고, 상기 각각의 외측동판(1) 하단에는 그의 돌출편(4)이 삽입되어 이동되도록 소정크기의 안내홈(5)이 형성된 외측동판 받침대(3)가 구비된다.And, the lower end of each outer copper plate (1) is provided with an outer copper plate support (3) formed with a guide groove (5) of a predetermined size so that the protruding piece (4) is inserted and moved.

따라서, 외부의 힘에 의해 상기 외측동판(1)이 구동을 하면 상기 안내홈(5)을 따라 돌출편(4)이 나선형으로 이동되므로서 상기 외측동판(1)이 가변되어 그의 내측으로 형성된 홀의 반경(R)을 조절하게 되는 것이다.Therefore, when the outer copper plate 1 is driven by an external force, the protruding pieces 4 are helically moved along the guide groove 5, so that the outer copper plate 1 is variable so that the outer copper plate 1 is moved inwardly. It is to adjust the radius (R).

또한, 상기 외측동판(1)의 원형부 내측에는 원을 4등분한 소정크기의 원호형상으로 절개된 4개의 내측동판(6)이 구비되는데, 상기 각각의 내측동판(6)은 서로 소정넓이만큼 서로 교대로 포개진 상태로 설치된다.In addition, inside the circular portion of the outer copper plate (1) is provided with four inner copper plate 6 cut into an arc shape of a predetermined size by dividing the circle into four, each inner copper plate (6) by a predetermined width to each other They are installed alternately stacked on each other.

상기 각각의 외측동판(1)과 내측동판(6)은 소정의 철선, 혹은 끈으로 형성된 지지대(2)에 의해 양측이 연결되며, 상기 각각의 내측동판(6)도 그의 중앙부측에 구멍을 형성하고 지지대(2)를 서로 연결하여 고정시키므로서 상기 지지대(2)의 이동에 따라 상기 내측동판(1)의 반경(r)을 조절한다. 또한, 상기 내측동판(6)의 조각편중 어느 한 조각편만 막대형으로 형성된 고정체로 고정하여 이동되게 하므로서 마스크의 패턴에 따른 다양한 형상을 구현할 수 있도록 한다.The outer copper plate 1 and the inner copper plate 6 are connected to both sides by a support wire 2 formed of a predetermined iron wire or a string, and each inner copper plate 6 also forms a hole in the center side thereof. And by fixing the support (2) to each other by adjusting the radius (r) of the inner copper plate (1) in accordance with the movement of the support (2). In addition, only one of the pieces of the piece of the inner copper plate (6) is fixed to the fixed body formed in the bar shape to be moved so as to implement a variety of shapes according to the pattern of the mask.

상기와 같이 구성되는 본 고안의 작용상태를 살펴보면, 상기 외측동판(1)에 외부의 물리적 힘을 가하면 그의 하단에 구비된 나선돌기(4)가 외측동판 받침대(3)의 안내홈(5)을 따라 슬라이딩하면서 이동하여 외측반경(R)을 조절한다.Looking at the operating state of the present invention configured as described above, when the external physical force applied to the outer copper plate 1, the spiral projection (4) provided at its lower end guide groove (5) of the outer copper plate support (3) Sliding along it moves to adjust the outer radius (R).

또한, 상기 내측동판(6)은 지지대(2)를 중심축 O를 향하여 좌우 직선이동시키므로서 내측동판(6)의 반경(r)을 조절하게 되는 것이다.In addition, the inner copper plate 6 is to adjust the radius (r) of the inner copper plate 6 by moving the support 2 to the left and right linear movement toward the central axis O.

상기와 같이 구성되어 작용하는 본 고안은 외측동판 및 내측동판을 간단한 조작으로 가변시키므로서 다양한 패턴을 갖는 마스크의 패턴형상에 알맞는 조명기구의 형태를 만들므로서 초미세 패턴형성이 가능하고, 공정마진을 향상시킬 수 있으며, 간단히 제작, 조립하기 때문에 설치공간을 최소화하고, 제작비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.The present invention constructed and acting as described above makes it possible to form an ultrafine pattern by varying the outer copper plate and the inner copper plate by simple operation, thereby making the shape of a luminaire suitable for the pattern of the mask having various patterns, and the process. Margin can be improved, and since it is simply manufactured and assembled, there is an effect of minimizing installation space and reducing manufacturing cost.

Claims

In the illumination device of the present invention, applied to a reduction exposure apparatus that transmits the light from the light source to the shape of the photomask to form a pattern by reacting with the photosensitive film of the wafer,

An outer copper plate (1) formed of a plurality of pieces having a fan shape such that a circular portion having a predetermined size is formed in the center thereof, and having a protruding piece (4) integrally formed at a predetermined position of each of the lower pieces of the piece pieces;

An inner copper plate (6) provided inside the circular part of the outer copper plate (7) and formed into a plurality of cut pieces which are cut by dividing a circle into predetermined angles, and each cut piece is overlapped with each other by a predetermined size;

The outer copper plate supporting means which is provided at the lower end thereof so as to correspond to the outer copper plate 1, respectively, and has guide grooves 5 of a predetermined size for guiding the protruding pieces 4 of the outer copper plate 1 ( 3); And

And supporting means (2) for connecting and supporting each of the outer copper plate (1) and the inner copper plate (6) and moving as necessary to adjust the radius (r) of the inner copper plate (6). Prefabricated lighting fixtures.

The method of claim 1, wherein the protruding piece (4) of the outer copper plate (12) is a prefabricated ring illumination, characterized in that the protruding piece formed spirally so that the radius (R) of the hole formed inside the outer copper plate (1) is variable. Appliance device.

The device according to claim 1 or 2, wherein the support means (2) is support means formed by a string so as to easily connect the outer copper plate (1) and the inner copper plate (6).

The radius (r) of the inner copper plate (6) according to claim 1 or 2, wherein the support means (2) is fixed to any one of the inner copper plates (6) to move to the center or to the outside. Prefabricated illumination device according to claim 1, characterized in that the support means formed of a rod for adjusting).