KR970000640B1 - 표면에 탄산동이 피복된 입자체염화제 1동의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음.
Description
본 발명은 표면에 탄산동이 피복된 입자체염화제 1 동의 제조방법에 관한 것으로 동을 염소가스와 발열반응시켜 용해한 융체를 동과 접촉시킨 다음 공기와 탄산가스를 분산시켜 표면에 탄산동이 피막된 작은 구형 입자체염화제일동을 얻는데 그 특징이 있다.
일반적으로 염화제일동은 주로 프탈로시아닌계 안료의 원료 또는 유기합성시 촉매로 널리 사용되고 있는 유독성 동화합물로서 사용이 편리하도록 분말체로 만들어 상품화되고 있다.
이와같은 염화제일동 제조방법은 크게 나누어 동을 염산에 직접 녹여서 생성시키는 습식제법과, 동의 융체에 염소가스를 유입시켜 발열반응으로 생성시키는 건식제법이 있다.
그러나 양방법에 의해 만들어지는 염화제일동은 분말상태이므로 사용 및 취급시 분진의 발생으로 작업자의 건강을 해치거나 작업상 취급이 불편하여 작업능률이 저하될 뿐 아니라 장기 저장상태에서는 습기를 흡수하여 염화제 2 동으로 산화되어 제품에 이용하였을때 품질저하의 문제점이 있었다.
따라서 염화제 1 동은 표면에 보호피막이 요구되고 있다.
본 발명에서는 상기와 같은 문제점을 해결하고 염화제 1 동의 품질보존상태가 양호하도록 하기 위하여 일정크기의 동을 염소가스와 발열반응시켜 용해된 용융상태의 염화동을 접촉이동시키면서 염화제 1 동을 만들고 이를 챔버내에서 공기와 탄산가스로 혼합된 가스로 분산시켜 표면에 탄산동이 피복된 작은 구상 입자체 염화제일동을 얻는데 성공한 것이다.
본 발명방법을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
먼저 그 생성과정을 설명하면 공지의 용해로(일명 반응로)에 일정크기의 순도 99.9% 이상의 동을 적정량 적층장입하여 적정온도로 예열한 다음, 장입된 동층 표면의 한부위에 염소가스 자체를 주입하면 동과 염소가스가 자제발열 반응하면서 융체의 순도가 낮은 염화제 1 동이 생성된다. 이렇게 해서 얻어진 융체를 450~650℃로 유지되면서 로내에 있는 고상의 동층을 통과하게 되고, 이때 고상의 동과 화학반응을 일으켜 발열융체중의 염화제 2 동이 염화제일동으로 환원되면서 융체의 순도가 향상된다.
또한 반응에 의해서 감소된 해당량의 동을 지속적으로 장입하면서 고상의 동층에 형성시킨 형태의 융로와 로내의 동층의 레벨을 일정하게 유지시켜준다.
한편 유출구를 나온 융체는 탕도를 따라 챔버내로 유입되는바 이때 탕도의 한부위에는 용융체의 일정온도 유지와 미환원염화제이동(CuCl2)의 잔량을 제거키 위하여 공지의 보온 및 가열장치를 설치한 후, 일정 크기의 동의 적층 사이로 로내에서 유출되는 융체가 용해로내의 온도를 유지하면서 고상의 동과 화학반응을 하여 미량의 미환원 염화제 2 동(CuCl2)잔량을 환원시켜 염화제일동의 순도를 더욱 향상시키게 된다.
이와같이 하여 생성된 미환원된 염화제이동을 완전히 환원된 융체가 챔버내로 유입되는 순간 챔버내에서는 탄산가스와 공기를 일정 비율로 조성시킨 혼합탄산가스 또는 탄산가스를 챔버내에 설치한 다단식조절노즐을 통하여 분사함으로써 챔버내의 온도는 융체의 온도보다 낮은 30℃∼50℃의 저온의 냉각 분위기에서 구상의 입자체로 형성시키고 그 표층은 분사되는 혼합탄산가스에 의해 탄산동으로 반응하여 피복이 되면서 목적하는 탄산동이 피복된 염화제일동의 구상입자를 생성하게 된다.
이렇게 하여 얻어진 탄산동 피복 염화제일동을 모두에서 설명한 바와같이 종전의 방법으로 얻은 분체의 염화제일동과 비교하여 볼때 표(1)에서 보는 바와같이 탄산동 피복 염화제일동의 제반효과와 우수성을 알 수 있다.
한편 염화제일동에 피복층을 형성시키는데는 여러종류의 방법에 의한 화합물에 의해서 형성될 수 있음을 실시예에서 알 수 있었다.
[실시예 1]
450℃∼600℃의 융체염화제일동을 100~150kg/H량으로 낙하시키면서 7:3의 비율로 CO와 HO 혼합가스를 2m3/Min으로 분사시킨 결과 CuCoCu(OH)로 피복되었다.
[실시예 2]
같은 온도 및 조건에서 융체염화제일동에 Air와 산소를 7:3으로 혼합된 2m /Min으로 분사시킨 결과 CuO로 피복되었다.
[실시예 3]
같은 온도 및 조건에서 융체염화제일동에 8:2의 비율로 Air와 HO를 2m /min으로 분사시킨 결과 3CuCl·2Cu(OH)또는 2CuCl2·3Cu(OH)로 피복되었다.
[실시예 4]
같은 온도 및 조건에서 융체염화제일동에 7:3의 비율로 Co2와 Air를 3m /min으로 분사시킨 결과 CuCo로 피복되었다.
상기 실시예에서 얻은 피보된 염화제일동 구상입자체를 상대습도 100%에서 15∼20일간 방치하여서 시험한 결과 본 발명품인 CuCO가 CuO로 피복된 염화제일동 및 상대적으로 실시예(1)(3)에 비해 습기에 대하여 안정성을 나타내었다.
또 상기 실시예에서 얻은 피복된 염화제일동을 뇨소와 프탈산으로 반응시킨 결과 실시예(2)와 (3)에 비해 상대적으로 (1)과 (4)가 반응성이 좋았다.
이상과 같이 분사되는 혼합가스 바꿔가면서 시험해본 결과 장기 보존시의 안정성과 반응성에서 CuCO로 피복된 염화제 1 동의 구상입자체가 가장 우수함을 알 수 있었다. 이렇게 하여 생성된 구상입자체의 크기는 0.04~4M/M의 크기이며 엷게 피복된 탄산동의 두께는 0.005~0.05㎛임을 XPS(X-rayphotoelectron scopyscope)의 측정기에 의한 측정결과 도표 1에서 보는 바와같이 탄소와 산소의 peak를 확인하였다.
본 발명은 위에서 상세히 설명한 바와같은 과정을 거쳐 목적하는 본 발명의 탄산동 피복 염화제일동의 화합물의 물질을 얻게 되는 것이다
Claims (2)
- 일정크기의 순도 99.9% 이상의 동을 적층투입한 용해로 내에 염소가스를 주입시켜 발열반응으로 용해된 염화동 융체를 고상의 동과 접촉이동시켜 염화제 1 동을 만들고 상기 염화제 1 동 융체를 챔버내에 유입시켜 공기와 탄산가스를 혼합분산시켜 표면에 탄산동이 피복된 입자체 염화제 1 동의 제조방법.
- 탄산동 피막층의 두께가 0.005μ내지 0.05μ이고, 입자의 크기가 0.04mm 내지 4mm인 것을 특징으로 하는 제 1 항의 방법에 의해 제조된 탄산동이 피복된 염화제 1 동 입자체.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019940003480A KR970000640B1 (ko) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | 표면에 탄산동이 피복된 입자체염화제 1동의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019940003480A KR970000640B1 (ko) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | 표면에 탄산동이 피복된 입자체염화제 1동의 제조방법 |
Publications (2)
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KR950024972A KR950024972A (ko) | 1995-09-15 |
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KR1019940003480A KR970000640B1 (ko) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | 표면에 탄산동이 피복된 입자체염화제 1동의 제조방법 |
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KR (1) | KR970000640B1 (ko) |
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1994
- 1994-02-25 KR KR1019940003480A patent/KR970000640B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
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KR950024972A (ko) | 1995-09-15 |
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