Claims (19)
산소와 질소로 된 처리하고자 하는 기체상 혼합물로부터 질소를 제조하는 방법으로서, 상기 혼합물을 하나 이상의 막 유닛(9)에서 기체상 투과에 의해 분리하여 질소가 농후한 가스와 산소가 농후한가스를 생성하는 제1분리 단계, 및 흡착 기구(A,B)에서 산소와 흡착에 의해 상기 질소가 농후한 가스를 분리하는 제2분리 단계를 포함하는 방법에 있어서, 포화된 흡착 기구를 감압시키기 위해, 흡착 기구내에 보유된 잔류 가스의 제1부분을 대기로 급송하고 상기 잔류 가스의 제2부분은 상기 제1분리 단계로 재순환시키는 것을 특징으로 하는 방법.A method of producing nitrogen from a gaseous mixture to be treated with oxygen and nitrogen, the mixture being separated by gas phase permeation in one or more membrane units (9) to produce a gas rich in nitrogen and a gas rich in oxygen. 1. A method comprising a first separation step, and a second separation step of separating the nitrogen-rich gas by adsorption with oxygen in the adsorption mechanisms A and B, in order to depressurize the saturated adsorption mechanism. Feeding the first portion of residual gas retained in the instrument to the atmosphere and recycling the second portion of residual gas to the first separation step.
제1항에 있어서, 상기 잔류 가스와 제1부분을 대기로 급송한 후에 상기 잔류 가스의 제2부분을 상기 제1분리 단계로 재순환시키는 방법.The method of claim 1, wherein after feeding the residual gas and the first portion to the atmosphere, the second portion of the residual gas is recycled to the first separation step.
제1항에 있어서, 상기 잔류 가스의 제1부분을 대기로 급송함과 동시에 상기 잔류 가스의 제2부분을 재순환시키는 방법.The method of claim 1, wherein the second portion of the residual gas is recycled while simultaneously feeding the first portion of the residual gas to the atmosphere.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 잔류 가스의 제1부분이 상기 잔류 가스의 제2부분보다 산소가 농후한 방법.The method of any one of claims 1 to 3, wherein the first portion of the residual gas is richer in oxygen than the second portion of the residual gas.
제4항에 있어서, 상기 잔류 가스의 제1부분이 상기 처리하고자 하는 혼합물의 산소 함량보다 높은 산소 함량을 가지며, 상기 잔류 가스의 제2부분은 상기 처리하고자 하는 혼합물의 산소 함량보다 낮은 산소 함량을 갖는 방법.The method of claim 4, wherein the first portion of the residual gas has an oxygen content higher than the oxygen content of the mixture to be treated, and the second portion of the residual gas has an oxygen content lower than the oxygen content of the mixture to be treated. How to have.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 잔류 가스의 제2부분의 하나 이상의 분획을 상기 처리하고자 하는 혼합물과 혼합시키므로써 재순환시키는 방법.The process according to claim 1, wherein at least one fraction of the second portion of the residual gas is recycled by mixing with the mixture to be treated.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2부분의 하나 이상의 분획을 하나 이상의 막 유닛(9)을 소제하는데 사용하므로써 재순환시키는 방법.7. Process according to any one of the preceding claims, wherein at least one fraction of the second part is recycled by using to clean one or more membrane units (9).
제6항 내지 제7항에 있어서, 상기 잔류 가스의 제2부분의 제1분획은 상기 처리하고자 하는 혼합물과 혼합시키므로써 재순환시키고, 상기 잔류 가스의 제2부분의 제2분획은 하나 이상의 막 유닛을 소제하는데 사용하므로써 처리하는 방법.The process of claim 6, wherein the first fraction of the second portion of the residual gas is recycled by mixing with the mixture to be treated and the second fraction of the second portion of the residual gas is one or more membrane units. How to process by using to clean.
제8항에 있어서, 상기 제1분획이 상기 제2분획보다 더욱 산소가 농후한 것인 방법.9. The method of claim 8, wherein said first fraction is richer in oxygen than said second fraction.
제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 잔류 가스의 제1분획의 한 분자가 흡착 기구(A,B)의 배출구와 상기 흡착 기구의 주입구 사이를 통과하는 시간이 평균적으로 상기 기구의 ½주기로부터 평형 시간 및 상기 잔류 가스의 제1부분을 대기로 배기시키는데 소요되는 시간을 감산한 시간인 방법.10. A device according to any one of claims 6 to 9, wherein the time for which one molecule of the first fraction of the residual gas passes between the outlets of the adsorption mechanisms (A, B) and the inlet of the adsorption mechanism is on average And subtracting the equilibration time from the ½ cycle of and the time taken to evacuate the first portion of residual gas to the atmosphere.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 흡착 단계와 기체상 투과 단계와의 사이에 상기 질소가 농후한 가스를 냉각시키는 단계(19)를 포함하는 방법.The method according to any one of the preceding claims, comprising cooling (19) the nitrogen-rich gas between the adsorption step and the gas phase permeation step.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 질소가 농후한 가스의 산소화도가 2 내지 20 범위인 방법.The method according to any one of claims 1 to 11, wherein the degree of oxygenation of the nitrogen enriched gas ranges from 2 to 20.
제12항에 있어서, 상기 질소가 농후한 가스의 산소화도가 4 내지 10 범위인 방법.13. The method of claim 12 wherein the degree of oxygenation of said nitrogen enriched gas ranges from 4 to 10.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 잔류 가스의 제2부분의 재순환을 흡착기(A,B)가 완전히 감압되기 전에 중단하는 방법.14. A method according to any one of the preceding claims, wherein the recycling of the second portion of the residual gas is stopped before the adsorber (A, B) is fully depressurized.
-투과에 의한 분리에 사용되는 제1기구(9); -흡착에 의한 분리에 사용되는 제2기구(A,B); -처리하고자 하는 혼합물을 상기 제1기구로 공급하기 위한 수단; -상기 제1기구로부터 얻은 질소-농후 가스를 상기 제2기구로 급송하기 위한 수단; 및 -상기 제2기구로부터 얻은 기체상의 잔류물을 제거하기 위한 수단(11,13,15)을 포함하여, 처리하고자 하는 산소와 질소의 기체상 혼합물로부터 질소를 제조하기 위한 장치에 있어서, 상기 잔류 가스의 제1부분을 대기로 급송하기 위한 수단(13,15), 및 상기 잔류 가스의 제2부분을 제1기구(9)로 재순환시키기 위한 수단(11,17)을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.A first mechanism 9 used for separation by permeation; Second mechanisms (A, B) used for separation by adsorption; Means for feeding the mixture to be treated into the first apparatus; Means for feeding a nitrogen-rich gas obtained from the first device to the second device; And means (11, 13, 15) for removing gaseous residue obtained from said second device, said apparatus for producing nitrogen from a gaseous mixture of oxygen and nitrogen to be treated. Means (13, 15) for feeding the first portion of the gas to the atmosphere, and means (11, 17) for recycling the second portion of the residual gas to the first mechanism (9). Device.
제15항에 있어서, 상기 제2부분을 상기 처리하고자 하는 혼합물과 혼합하기 위한 수단(11,17)을 포함하는 장치.Device according to claim 15, comprising means (11,17) for mixing the second part with the mixture to be treated.
제15항 또는 제16항에 있어서, 상기 잔류 가스의 제2부분을 소제 가스로서 작용하도록 상기 제1기구의 하나 이상의 막 유닛(9)의 투과측에 역류식으로 급송하는 수단(17)을 포함하는 장치.17. The device (1) according to claim 15 or 16, comprising means (17) for feeding back to the permeate side of at least one membrane unit (9) of said first mechanism to act as a purge gas for a second portion of said residual gas. Device.
제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1기구로부터 상기 제2기구로 통과되는 질소가 농후한 가스를 냉각시키기 위한 냉각 수단(21)을 포함하는 장치.18. The apparatus according to any one of claims 15 to 17, comprising cooling means (21) for cooling the gas enriched with nitrogen passing from the first mechanism to the second mechanism.
제15항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 잔류 가스의 제2부분의 한 분자가 상기 흡착 기구의 배출구와 상기 기구의 주입구 사이를 통과하는 시간이 평균적으로 상기 기구의 ½주기로부터 평형 시간 및 상기 잔류 가스의 제1부분을 대기로 배기시키는데 소요되는 시간을 감산한 시간인 장치.19. The method of any one of claims 15 to 18, wherein the time at which a molecule of the second portion of the residual gas passes between the outlet of the adsorption device and the inlet of the device is on average equilibrated from ½ cycle of the device. A time subtracted from the time and the time taken to exhaust the first portion of the residual gas to the atmosphere.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.