KR960700360A - METHOD FOR DISSOLVING OXIDES DEPOSITED ON A METAL SUBSTRATE - Google Patents

METHOD FOR DISSOLVING OXIDES DEPOSITED ON A METAL SUBSTRATE

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엉리 스삐샤라
디디에 노엘
쟉끄 그레그와르
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로베르 프로리크
엘렉트리시떼 드 프랑스
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Abstract

본 발명은 금속 기판상에 점착된 산화물을 용해하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of dissolving an oxide deposited on a metal substrate.

본 발명의 목적은 방사능 물질의 점착에 의해 오염된 기판을, 심각한 에칭작용이 없이 그 오염을 제거하는 것이다.It is an object of the present invention to remove the contamination of a substrate contaminated by the adhesion of radioactive material without serious etching.

이러한 목적은 아래 사이클을 적어도 1회 포함하는 방법에 의해 달성된다.This object is achieved by a method comprising at least one of the following cycles.

a)80 내지 85℃ 사이의 온도에서, 적어도 과망간산염을 포함한 용액을 사용해 산화작용을 수행하는 단계;및 b)2 이하의 pH 및 80 내지 85℃ 사이의 온동서, 환원제 및 질산을 혼합한 용액으로써 환원작용을 수행하는 단계.a) performing oxidation using a solution containing at least permanganate at a temperature between 80 and 85 ° C .; and b) a mixture of a pH of less than or equal to 2 and a temperature of between 80 and 85 ° C., a reducing agent and nitric acid. Performing a reduction reaction.

Description

금속기판상에 점착된 산화물을 용해하는 방법 (METHOD FOR DISSOLVING OXIDES DEPOSITED ON A METAL SUBSTRATE)METHOD FOR DISSOLVING OXIDES DEPOSITED ON A METAL SUBSTRATE

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음As this is a public information case, the full text was not included.

Claims (16)

금속 기판상에 점착된 산화물을 용해하는 방법에 있어서, a)80 내지 85℃사이의 온도 및 산화작용 동안 계속 그 간이 1.8내지 2.3사이로 유지되는 pH에서 과망간산염 음이온 및 질산을 포함한 산화용액을 이용하여 산화작용을 수행하는 단계; 및 b)80 내지 85℃사이의 온도 및 2 이하의 pH에서 환원제와 질산을 혼합한 환원용액을 이용하여 환원작용을 수행하는 단계로 구성된 사이클을 적어도 1회 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 기관상에 점착된 산화물 용해방법.A method of dissolving an oxide deposited on a metal substrate, comprising the steps of: a) using an oxidation solution containing permanganate anion and nitric acid at a temperature between 80 and 85 ° C. and at a pH maintained between 1.8 and 2.3 during the oxidation process. Performing oxidation; And b) at least one cycle comprising the step of performing a reduction action using a reducing solution mixed with a reducing agent and nitric acid at a temperature between 80 and 85 ° C. and a pH of 2 or less. Tackified oxide dissolution method. 제1항에 있어서, 상기 산화작용은 1.8-2 사이의 pH에서 수행되는 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 점착된 산화물 용해방법.The method of claim 1 wherein the oxidation is carried out at a pH between 1.8-2. 제1항에 있어서, 상기 처리되는 금속 기판은 INCONEL로 만들어진 적어도 하나의 부품을 포함하고, 단계 a)는 12 또는 그 이상의 pH에서 과망간산염 음이온 및 수산화나트륨을 혼합한 용액을 이용하여 산화작용을 수행하는 것으로 구성되며 상기 pH는 산화작용이 지속되는 동안 계속 유지되는 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 정착된 산화물 용해방법.The method of claim 1, wherein the metal substrate to be treated includes at least one component made of INCONEL, and step a) performs oxidation using a solution of permanganate anion and sodium hydroxide at a pH of 12 or more. Wherein the pH is maintained for the duration of the oxidation process. 제1항에 있어서, 상기 환원제는 아스코르빈산인 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 점착된 산화물 용해방법.The method of claim 1 wherein the reducing agent is ascorbic acid. 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 과망간산염 음이온은 과망간산칼륨의 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 정착된 산화물 용해방법.4. The method of claim 1 or 3, wherein the permanganate anion is provided in the form of potassium permanganate. 제1항 및 제5항에 있어서, 상기 산화용액은 약 0.5 내지 1g/1의 질산 및 약 0.7 내지 1g/1의 과망간산칼륨을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 정착된 산화물 용해방법.6. The method of claim 1, wherein the oxidizing solution comprises about 0.5-1 g / 1 nitric acid and about 0.7-1 g / 1 potassium permanganate. 7. 제6항에 있어서, 상기 산화용액은 약 1g/1의 질산 및 1g/1의 과망간산칼륨을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 점착된 산화물 용해방법.7. The method of claim 6 wherein the oxidizing solution comprises about 1 g / 1 nitric acid and 1 g / 1 potassium permanganate. 제3항 및 제5항에 있어서, 상기 산화용액은 약 0.5-lg/l 사이의 과망간산칼륨 및 적어도 1g/1의 수산화 나트륨을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 점착된 산화물 용해방법.The method of claim 3, wherein the oxidation solution comprises between about 0.5-lg / l potassium permanganate and at least 1 g / 1 sodium hydroxide. 제8항에 있어서, 상기 산화용액은 약 1g/1의 과망간산칼륨 및 1g/1의 수산화나트륨을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 점착된 산화물 용해방법.9. The method of claim 8 wherein the oxidizing solution comprises about 1 g / 1 of potassium permanganate and 1 g / 1 of sodium hydroxide. 제4항에 있어서, 상기 환원용액은 약 0.5 내지 1g/1외 질산 및 0.7 내지 2g/1의 아스코르빈산을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 기관상에 정착된 산화물 용해방법.The method of claim 4 wherein the reducing solution comprises about 0.5 to 1 g / 1 nitric acid and 0.7 to 2 g / 1 ascorbic acid. 제10항에 있어서, 상기 환원용액은 약 1g/1의 질산 및 1g/1의 아스코르빈산을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 점착된 산화물 용해방법.The method of claim 10 wherein the reducing solution comprises about 1 g / 1 nitric acid and 1 g / 1 ascorbic acid. 제1항. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 산화작용 및 환원작용 각각의 지속시간이 약 5시간인 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 점착된 산화물 용해방법.Article 1 4. The method of claim 2 or 3 wherein the duration of each of the oxidation and reduction actions is about 5 hours. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 산화 및 환원단계의 온도는 약 80℃인 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 점착된 산화물 용해방법.4. The method of claim 1, 2 or 3, wherein the temperature of the oxidation and reduction steps is about 80 ° C. 새로운 사이클에 앞서, 방사능 원소들을 수집하고 pH를 낮추기 위해 이미 사용된 환원용액이 양이온 교환 수지에서 별도로 처리되는 것을 특징으로 하는 금속 기판상에 점착된 산화물 용해방법.Prior to a new cycle, a method of dissolving oxides adhered onto a metal substrate, wherein the reducing solution already used to collect radioactive elements and lower the pH is treated separately in a cation exchange resin. 제1항에 있어서, 최종 처리 사이클이 끝난 때에, 상기 산화 및 환원용액은 혼합되어 증발기에서 처리되는 것을 특징으로 하는 금속 기관상에 정착된 산화물 용해방법.The method of claim 1, wherein at the end of the final treatment cycle, the oxidation and reduction solution is mixed and processed in an evaporator. 제1항에 있어서, 최종 처리 사이클이 끝난 때에, 상기 산화 및 환원용액은 혼합되어 양이온 교환 수지에서 처리되는 것을 특징으로 하는 금속 기관상에 점착된 산화물 용해방법.The method of claim 1, wherein at the end of the final treatment cycle, the oxidation and reduction solution is mixed and treated in a cation exchange resin. ※ 참고사항 :최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.
KR1019950702622A 1992-12-24 1993-12-23 Method for dissolving oxide adhered on metal plate KR100313971B1 (en)

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FR9215722 1992-12-24
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US4481040A (en) * 1981-06-17 1984-11-06 Central Electricity Generating Board Of Sudbury House Process for the chemical dissolution of oxide deposits

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