KR960041215A - 개량된 광중합성 조성물 - Google Patents
개량된 광중합성 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960041215A KR960041215A KR1019960014371A KR19960014371A KR960041215A KR 960041215 A KR960041215 A KR 960041215A KR 1019960014371 A KR1019960014371 A KR 1019960014371A KR 19960014371 A KR19960014371 A KR 19960014371A KR 960041215 A KR960041215 A KR 960041215A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- weight
- alkyl
- composition
- ethylenically unsaturated
- carbon atoms
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract 26
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract 11
- CNGYZEMWVAWWOB-VAWYXSNFSA-N 5-[[4-anilino-6-[bis(2-hydroxyethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2-[(e)-2-[4-[[4-anilino-6-[bis(2-hydroxyethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2-sulfophenyl]ethenyl]benzenesulfonic acid Chemical compound N=1C(NC=2C=C(C(\C=C\C=3C(=CC(NC=4N=C(N=C(NC=5C=CC=CC=5)N=4)N(CCO)CCO)=CC=3)S(O)(=O)=O)=CC=2)S(O)(=O)=O)=NC(N(CCO)CCO)=NC=1NC1=CC=CC=C1 CNGYZEMWVAWWOB-VAWYXSNFSA-N 0.000 claims abstract 7
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 8
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 7
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 4
- -1 6-membered heterocyclic radical Chemical class 0.000 claims 4
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims 2
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 claims 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 claims 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 2
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 claims 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 claims 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims 2
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 claims 2
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 claims 2
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 claims 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims 2
- IORNPTDHRCBFER-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(C(C)(C)C)=NC2=C1 IORNPTDHRCBFER-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- POIJNSHIXHXRFA-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-2-[2-(4-tert-butyl-1,3-benzoxazol-2-yl)thiophen-3-yl]-1,3-benzoxazole Chemical group C1=CC=C2OC(C=3SC=CC=3C=3OC=4C=CC=C(C=4N=3)C(C)(C)C)=NC2=C1C(C)(C)C POIJNSHIXHXRFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F3/00—Colour separation; Correction of tonal value
- G03F3/10—Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F257/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of aromatic monomers as defined in group C08F12/00
- C08F257/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of aromatic monomers as defined in group C08F12/00 on to polymers of styrene or alkyl-substituted styrenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
- C08F4/28—Oxygen or compounds releasing free oxygen
- C08F4/32—Organic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/116—Redox or dye sensitizer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/134—Brightener containing
Abstract
본 발명은 A) 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체; B) 1종 이상의 유기 결합제; 및 C) 형광성 광택제와의 배합물 형태의 아실 또는 디아실 포스핀 옥사이드인 1종 이상의 광개시제를 포함하는 광중합성 조성물 및 그러한 광중합성 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (26)
- A) 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체; B) 1종 이상의 유기 결합제; 및 C) 형광성 광택제와의 배합물 형태의 아실 또는 디아실 포스핀 옥사이드인 1종 이상의 광개시제를 포함하는 광중합성 조성물.
- 제1항에 있어서, 약20중량% 내지 약 50중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체; 약 40중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 유기 결합제; 및 약 5중량% 내지 약 15중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 조성물.
- 제2항에 있어서, 약 10중량% 내지 약 60중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체를 포함하는 조성물.
- 제2항에 있어서, 약 5중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체를 포함하는 조성물.
- 제2항에 있어서, 약 20중량% 내지 약 80중량%의 1종 이상의 유기 결합제를 포함하는 조성물.
- 제2항에 있어서, 약 30중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 유기 결합제를 포함하는 조성물.
- 제2항에 있어서, 약 3중량% 내지 약 20중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 광중합성 조성물.
- 제2항에 있어서, 약 1중량% 내지 약 30중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 광중합성 조성물
- 제1항에 있어서, 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체가 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트인 조성물.
- 제1항에 있어서, 1종 이상의 유기 결합제가 스티렌/말레인산 무수물 공중합체 및 그들의 반에스테르; 아크릴 중합체 및 공중합체; 폴리아미드; 폴리비닐 피롤리돈; 셀룰로스 수지; 페놀 수지; 폴리비닐 아세탈; 폴리비닐 아세테이트 및 그 공중합체; 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 아실 및 디아실 포스핀 옥사이드가 하기 일반식(Ⅰ,Ⅱ)로 표시되는 조성물 :상기 일반식들에서, R1및 R6는 탄소수 1 내지 18의 분지형 또는 비분지형 알킬, 탄소수 5 또는 6의 치환 또는 비치환된 시클로알킬, C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시로 치환 또는 비치환된 C6-C18아릴, 또는 S-함유 또는 N-함유 5원 또는 6원 헤테로고리형 라디칼이며, R1및 R6는 동일하거나 또는 상이하고, R2는 R1과 동일하거나, 또는 C1-C18알콕시, C6-C18아릴옥시 또는 아르알콕시(C6-C18아릴, C1-C18알킬)이며, R1및 R2는 동일하거나 또는 상이하거나 함께 고리를 이루며, R3, R4및 R5는 탄소수 4 내지 18의 3차 알킬, 또는 탄소수 5 또는 6의 3차 시클로알킬이거나, 또는 C6-C18시클로알킬, C6-C18아릴, 또는 이종원자(heteroatoms)로서, S, N 또는 O를 함유하는 5원 또는 6원 헤테로고리형 라디칼이며, 이때 상기 라디칼은 치환 가능하며 R3기의 카르보닐기에 부착하는 점에 인접해 있는 적어도 두 개의 고리 탄소 원자에 결합된 치환체 A 및 B를 포함하는데, A 및 B는 동일하거나 또는 상이하며, 각각 C1-C18알킬, C1-C18알콕시, C1-C18알콕시, C1-C18알킬, C1-C18알킬티오, C6-C18시클로알킬, C6-C18아릴 또는 할로겐이고, R3, R4및 R5는 동일하거나 또는 상이할 수 있다.
- 제1항에 있어서, 형광성 광택제가 2,2'-(티오펜디일)-비스-(t-부틸 벤즈옥사졸); 2-(스티빌-4″)-(나프토-1',2',4,5)-1,2,3-트리아졸-2"-설폰산 페닐 에스테르 및 7-(4'-클로로 -6"-디에틸아미노-1',3',5'-트리아진-4'-일)아미노-3-페닐 쿠마린으로 구성된 군에서 선택되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 형광성 광택제가 스틸벤, 트리아진, 티아졸, 벤즈옥사졸, 쿠마린, 크산텐, 트리아졸, 옥사졸, 티오펜 또는 피라졸린중 1종 이상의 빌딩 블록(building block)을 가지는 화합물들로 구성된 군에서 선택되는 조성물.
- A) 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체; B) 1종 이상의 유기 결합제; 및 C) 아실 또는 디아실 포스핀 옥사이드와 형광성 광택제의 배합물의 혼합물을 제공하므로써 광중합성 조성물을 제조하는 방법.
- 제14항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 20중량% 내지 약 50중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체; 약 40중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 유기 결합제; 및 약 5중량% 내지 약 15중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 방법.
- 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 10중량% 내지 약 60중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체를 포함하는 방법.
- 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 5중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체를 포함하는 방법.
- 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 20중량% 내지 약 80중량%의 1종 이상의 유기 결합제를 포함하는 방법.
- 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 30중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 유기 결합제를 포함하는 방법.
- 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 3중량% 내지 약 20중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 방법.
- 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 1중량% 내지 약 30중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 방법.
- 제14항에 있어서, 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체가 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트인 방법.
- 제14항에 있어서, 1종 이상의 유기 결합제가 스티렌/말레인산 무수물 공중합체 및 그들의 반에스테르; 아크릴 중합체 및 공중합체; 폴리아미드; 폴리비닐 피롤리돈; 셀룰로스 수지; 페놀 수지; 폴리비닐 아세탈; 폴리비닐 아세테이트 및 그 공중합체 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 방법.
- 제14항에 있어서, 아실 및 디아실 포스핀 옥사이드가 하기 일반식(Ⅰ,Ⅱ)로 표시되는 방법 :상기 일반식들에서, R1및 R6는 탄소수 1 내지 18의 분지형 또는 비분지형 알킬, 탄소수 5 또는 6의 치환 또는 비치환된 시클로알킬, C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시로 치환 또는 비치환된 C6-C18아릴, 또는 S-함유 또는 N-함유 5원 또는 6원 헤테로고리형 라디칼이며, R1및 R6는 동일하거나 또는 상이하고, R2는 R1과 동일하거나, 또는 C1-C18알콕시, C6-C18아릴옥시 또는 아르알콕시(C6-C18아릴, C1-C18알킬)이며, R1및 R2는 동일하거나 또는 상이하거나 함께 고리를 이루며, R3, R4및 R5는 탄소수 4 내지 18의 3차 알킬, 또는 탄소수 5 또는 6의 3차 시클로알킬이거나, 또는 C6-C18시클로알킬, C6-C18아릴, 또는 이종원자로서, S, N 또는 O를 함유하는 5원 또는 6원 헤테로고리형 라디칼이며, 이때 상기 라디칼은 치환 가능하며 R3기의 카르보닐기에 부착하는 점에 인접해 있는 적어도 두 개의 고리 탄소 원자에 결합된 치환체 A 및 B를 포함하는데, A 및 B는 동일하거나 또는 상이하며, 각각 C1-C18알킬, C1-C18알콕시, C1-C18알콕시, C1-C18알킬, C1-C18알킬티오, C6-C18시클로알킬, C6-C18아릴 또는 할로겐이고, R3, R4 및 R5는 동일하거나 또는 상이할 수 있다.
- 제14항에 있어서, 형광성 광택제가 2,2'-(티오펜디일)-비스-(t-부틸 벤즈옥사졸); 2-(스티빌-4")-(나프토-1',2',4,5)-1,2,3-트리아졸-2"-설폰산 페닐 에스테르 및 7-(4'-클로로-6"-디에틸아미노-1',3',5'-트리아진-4'-일)아미노-3-페닐 쿠마린으로 구성된 군에서 선택되는 방법.
- 제14항에 있어서, 형광성 광택제가 스틸벤, 트리아진, 티아졸, 벤즈옥사졸, 쿠마린, 크산텐, 트리아졸, 옥사졸, 티오펜 또는 피라졸린중 1종 이상의 빌딩 블록을 가지는 화합물들로 구성된 군에서 선택되는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/435,560 | 1995-05-05 | ||
US08/435,560 US5707781A (en) | 1995-05-05 | 1995-05-05 | Photopolymerizable compositions having acyl or diacyl phosphine oxide and a fluorescent optical brightner |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960041215A true KR960041215A (ko) | 1996-12-19 |
Family
ID=23728891
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960014371A KR960041215A (ko) | 1995-05-05 | 1996-05-03 | 개량된 광중합성 조성물 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5707781A (ko) |
EP (1) | EP0741333B2 (ko) |
JP (1) | JPH08305018A (ko) |
KR (1) | KR960041215A (ko) |
AU (1) | AU695703B2 (ko) |
BR (1) | BR9602141A (ko) |
CA (1) | CA2175759A1 (ko) |
DE (1) | DE69609242T3 (ko) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6080450A (en) * | 1996-02-23 | 2000-06-27 | Dymax Corporation | Composition exhibiting improved fluorescent response |
GB9605712D0 (en) * | 1996-03-19 | 1996-05-22 | Minnesota Mining & Mfg | Novel uv-curable compositions |
US6106992A (en) * | 1996-11-14 | 2000-08-22 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photoresist film and process for producing back plate of plasma display panel |
DE19907957A1 (de) * | 1998-02-27 | 1999-09-02 | Ciba Geigy Ag | Pigmentierte photohärtbare Zusammensetzung |
EP1106627B1 (en) | 1999-12-08 | 2003-10-29 | Ciba SC Holding AG | Novel phosphine oxide photoinitiator systems and curable compositions with low color |
US6602601B2 (en) | 2000-12-22 | 2003-08-05 | Corning Incorporated | Optical fiber coating compositions |
US6890399B2 (en) * | 2002-01-18 | 2005-05-10 | Henkel Corporation | (Meth)acrylate compositions having a self-indicator of cure and methods of detecting cure |
JP3886813B2 (ja) * | 2002-01-24 | 2007-02-28 | 富士通株式会社 | 研磨方法 |
EP1349006B1 (en) * | 2002-03-28 | 2013-09-25 | Agfa Graphics N.V. | Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm. |
US20030186165A1 (en) * | 2002-03-28 | 2003-10-02 | Agfa-Gevaert | Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm |
JP2003313208A (ja) * | 2002-04-19 | 2003-11-06 | Meiko:Kk | 光硬化性樹脂組成物 |
US7078157B2 (en) * | 2003-02-27 | 2006-07-18 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Photosensitive composition and use thereof |
CN1882879B (zh) * | 2003-09-22 | 2010-08-11 | 爱克发印艺公司 | 可光聚合的组合物 |
DK1833884T3 (en) * | 2004-12-01 | 2015-09-28 | Henkel IP & Holding GmbH | Healable silicone compositions containing a fluorescent detection system |
US7985785B2 (en) * | 2007-01-15 | 2011-07-26 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method using the same |
US8129447B2 (en) * | 2007-09-28 | 2012-03-06 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method using the same |
JP2010024277A (ja) * | 2008-07-16 | 2010-02-04 | Fujifilm Corp | インクジェット用インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
JP5344892B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法 |
JP5685849B2 (ja) * | 2010-07-29 | 2015-03-18 | セイコーエプソン株式会社 | 紫外線硬化型インクジェットインク組成物およびインクジェット記録方法 |
JP2022551640A (ja) * | 2019-10-10 | 2022-12-12 | アイジーエム レシンス イタリア ソチエタ レスポンサビリタ リミタータ | 光開始剤の組み合わせ及びその使用 |
WO2023214013A1 (en) * | 2022-05-06 | 2023-11-09 | Igm Group B. V. | Photoinitiator package comprising phosphine oxide photoinitiators, coumarin-based sensitizers and amine additives |
WO2023214012A1 (en) * | 2022-05-06 | 2023-11-09 | Igm Group B. V. | Photoinitiator package comprising phosphine oxide photoinitiators, oxazole-based sensitizers and amine additives |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2784183A (en) * | 1951-09-06 | 1957-03-05 | Geigy Ag J R | Fluorescent monotriazole compounds |
BE626525A (ko) * | 1959-08-05 | |||
US3644394A (en) * | 1968-06-24 | 1972-02-22 | Ciba Geigy Corp | Condensation products of n-coumarin alkylpyrazoles and aldehydes |
BE788560A (fr) * | 1972-06-09 | 1973-03-08 | Du Pont | Protection contre le halo dans la formation d'images dans des photopolymeres en couches multiples |
DE2909992A1 (de) * | 1979-03-14 | 1980-10-02 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmassen, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen |
DE3619792A1 (de) * | 1986-06-18 | 1987-12-23 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien |
DE3633436A1 (de) * | 1986-10-01 | 1988-04-14 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmasse, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen |
GB8715435D0 (en) * | 1987-07-01 | 1987-08-05 | Ciba Geigy Ag | Forming images |
DE3837569A1 (de) * | 1988-11-04 | 1990-05-10 | Espe Stiftung | Mit sichtbarem licht aushaertbare dentalmassen |
ES2098260T3 (es) * | 1989-08-04 | 1997-05-01 | Ciba Geigy Ag | Oxidos de mono- y diacilfosfina. |
US5218009A (en) * | 1989-08-04 | 1993-06-08 | Ciba-Geigy Corporation | Mono- and di-acylphosphine oxides |
US4987051A (en) * | 1989-08-09 | 1991-01-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Image-reversal process using photosensitive peel-apart elements |
EP0446175A3 (en) * | 1990-03-09 | 1991-11-21 | Ciba-Geigy Ag | Mixture of photoinitiators |
JPH04178403A (ja) * | 1990-11-13 | 1992-06-25 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | ジエチレン性不飽和単量体の硬化方法 |
US5559163A (en) * | 1991-01-28 | 1996-09-24 | The Sherwin-Williams Company | UV curable coatings having improved weatherability |
RU2091385C1 (ru) * | 1991-09-23 | 1997-09-27 | Циба-Гейги АГ | Бисацилфосфиноксиды, состав и способ нанесения покрытий |
DE59307404D1 (de) * | 1992-03-11 | 1997-10-30 | Ciba Geigy Ag | Benzoyl substituierte Phosphabicycloalkane und -sulfide als Photoinitiatoren |
US5300399A (en) * | 1993-01-21 | 1994-04-05 | Hoechst Celanese Corporation | Negative working, peel developable, single sheet color proofing system having a crosslinked layer containing a polymer with phenolic moieties |
ZA941879B (en) * | 1993-03-18 | 1994-09-19 | Ciba Geigy | Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators |
-
1995
- 1995-05-05 US US08/435,560 patent/US5707781A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-04-17 AU AU50717/96A patent/AU695703B2/en not_active Ceased
- 1996-04-27 EP EP96201158A patent/EP0741333B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-27 DE DE69609242T patent/DE69609242T3/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-05-03 CA CA002175759A patent/CA2175759A1/en not_active Abandoned
- 1996-05-03 BR BR9602141A patent/BR9602141A/pt active Search and Examination
- 1996-05-03 KR KR1019960014371A patent/KR960041215A/ko not_active Application Discontinuation
- 1996-05-07 JP JP8112775A patent/JPH08305018A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU5071796A (en) | 1996-11-14 |
DE69609242T3 (de) | 2007-12-27 |
JPH08305018A (ja) | 1996-11-22 |
BR9602141A (pt) | 1998-06-30 |
DE69609242T2 (de) | 2001-01-25 |
EP0741333B2 (en) | 2007-06-27 |
AU695703B2 (en) | 1998-08-20 |
EP0741333A1 (en) | 1996-11-06 |
EP0741333B1 (en) | 2000-07-12 |
DE69609242D1 (de) | 2000-08-17 |
CA2175759A1 (en) | 1996-11-06 |
US5707781A (en) | 1998-01-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960041215A (ko) | 개량된 광중합성 조성물 | |
NL930054I2 (nl) | Nieuwe 2,6-dimethyl-4-(2,3-dichlorofenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarbonzuur-3-methylester-5-ethylester met hypotensieve eigenschappen alsmede werkwijze voor de bereiding ervan en farmaceutische preparaten, die deze bevatten. | |
CA1214675A (en) | Colour-photographic recording material | |
ATE44383T1 (de) | Bisacylphosphinoxide, ihre herstellung und verwendung. | |
GB1354541A (en) | Photo polymerizable copying compositions | |
KR880011078A (ko) | α-아미노아세토페논 | |
JPS5550001A (en) | Photo-polymerizable composition | |
JPS54151024A (en) | Photopolymerizable composition | |
DE3875748D1 (de) | Schimmelbekaempfungsmittel. | |
ES8206543A1 (es) | Procedimiento para la obtencion de compuestos de sulfuro de acilfosfina de efecto fotoiniciador | |
KR900009946A (ko) | 윤활제 조성물 | |
JPS5495687A (en) | Photopolymerizable composition | |
MA22334A1 (fr) | I- arylmidazole insecticides | |
DK0868182T3 (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af piperidinderivater | |
KR910017238A (ko) | 광중합성 혼합물 및 이로부터 제조된 기록물질 | |
KR930008072A (ko) | Nir염료, 이의 제조방법 및 이의 용도 | |
KR940002222A (ko) | 양이온 중합성 물질의 열경화용 개시제로서 적절한 선택된 술포늄 화합물 | |
US4129727A (en) | 9-Deoxy-9-methylene-PGF1 -pyrrolidylamides | |
GB1295609A (ko) | ||
JPS5547656A (en) | 2-(2-substituted aminoethyl)-1,4-dihydropyridine derivative and its derivative | |
JPS5575405A (en) | Photopolymerizable composition | |
GB1378940A (en) | Phosphorus-containing s-triazine derivatives their manufacture and use in protecting organic materials | |
JPS55130991A (en) | Pyrazole phosphate esters, their preparation and insecticide and acaricide | |
KR870004087A (ko) | 광중합가능 조성물 | |
GB1449094A (en) | Poly -dialkyl-phosphonoalkyl- carbamates and their use as flame- retarding agents on textile materials |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |