KR960041215A - 개량된 광중합성 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 A) 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체; B) 1종 이상의 유기 결합제; 및 C) 형광성 광택제와의 배합물 형태의 아실 또는 디아실 포스핀 옥사이드인 1종 이상의 광개시제를 포함하는 광중합성 조성물 및 그러한 광중합성 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

개량된 광중합성 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (26)

  1. A) 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체; B) 1종 이상의 유기 결합제; 및 C) 형광성 광택제와의 배합물 형태의 아실 또는 디아실 포스핀 옥사이드인 1종 이상의 광개시제를 포함하는 광중합성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 약20중량% 내지 약 50중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체; 약 40중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 유기 결합제; 및 약 5중량% 내지 약 15중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 약 10중량% 내지 약 60중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체를 포함하는 조성물.
  4. 제2항에 있어서, 약 5중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체를 포함하는 조성물.
  5. 제2항에 있어서, 약 20중량% 내지 약 80중량%의 1종 이상의 유기 결합제를 포함하는 조성물.
  6. 제2항에 있어서, 약 30중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 유기 결합제를 포함하는 조성물.
  7. 제2항에 있어서, 약 3중량% 내지 약 20중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 광중합성 조성물.
  8. 제2항에 있어서, 약 1중량% 내지 약 30중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 광중합성 조성물
  9. 제1항에 있어서, 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체가 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트인 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 1종 이상의 유기 결합제가 스티렌/말레인산 무수물 공중합체 및 그들의 반에스테르; 아크릴 중합체 및 공중합체; 폴리아미드; 폴리비닐 피롤리돈; 셀룰로스 수지; 페놀 수지; 폴리비닐 아세탈; 폴리비닐 아세테이트 및 그 공중합체; 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 아실 및 디아실 포스핀 옥사이드가 하기 일반식(Ⅰ,Ⅱ)로 표시되는 조성물 :
    상기 일반식들에서, R1및 R6는 탄소수 1 내지 18의 분지형 또는 비분지형 알킬, 탄소수 5 또는 6의 치환 또는 비치환된 시클로알킬, C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시로 치환 또는 비치환된 C6-C18아릴, 또는 S-함유 또는 N-함유 5원 또는 6원 헤테로고리형 라디칼이며, R1및 R6는 동일하거나 또는 상이하고, R2는 R1과 동일하거나, 또는 C1-C18알콕시, C6-C18아릴옥시 또는 아르알콕시(C6-C18아릴, C1-C18알킬)이며, R1및 R2는 동일하거나 또는 상이하거나 함께 고리를 이루며, R3, R4및 R5는 탄소수 4 내지 18의 3차 알킬, 또는 탄소수 5 또는 6의 3차 시클로알킬이거나, 또는 C6-C18시클로알킬, C6-C18아릴, 또는 이종원자(heteroatoms)로서, S, N 또는 O를 함유하는 5원 또는 6원 헤테로고리형 라디칼이며, 이때 상기 라디칼은 치환 가능하며 R3기의 카르보닐기에 부착하는 점에 인접해 있는 적어도 두 개의 고리 탄소 원자에 결합된 치환체 A 및 B를 포함하는데, A 및 B는 동일하거나 또는 상이하며, 각각 C1-C18알킬, C1-C18알콕시, C1-C18알콕시, C1-C18알킬, C1-C18알킬티오, C6-C18시클로알킬, C6-C18아릴 또는 할로겐이고, R3, R4및 R5는 동일하거나 또는 상이할 수 있다.
  12. 제1항에 있어서, 형광성 광택제가 2,2'-(티오펜디일)-비스-(t-부틸 벤즈옥사졸); 2-(스티빌-4″)-(나프토-1',2',4,5)-1,2,3-트리아졸-2"-설폰산 페닐 에스테르 및 7-(4'-클로로 -6"-디에틸아미노-1',3',5'-트리아진-4'-일)아미노-3-페닐 쿠마린으로 구성된 군에서 선택되는 조성물.
  13. 제1항에 있어서, 형광성 광택제가 스틸벤, 트리아진, 티아졸, 벤즈옥사졸, 쿠마린, 크산텐, 트리아졸, 옥사졸, 티오펜 또는 피라졸린중 1종 이상의 빌딩 블록(building block)을 가지는 화합물들로 구성된 군에서 선택되는 조성물.
  14. A) 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체; B) 1종 이상의 유기 결합제; 및 C) 아실 또는 디아실 포스핀 옥사이드와 형광성 광택제의 배합물의 혼합물을 제공하므로써 광중합성 조성물을 제조하는 방법.
  15. 제14항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 20중량% 내지 약 50중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체; 약 40중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 유기 결합제; 및 약 5중량% 내지 약 15중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 방법.
  16. 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 10중량% 내지 약 60중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체를 포함하는 방법.
  17. 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 5중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체를 포함하는 방법.
  18. 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 20중량% 내지 약 80중량%의 1종 이상의 유기 결합제를 포함하는 방법.
  19. 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 30중량% 내지 약 70중량%의 1종 이상의 유기 결합제를 포함하는 방법.
  20. 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 3중량% 내지 약 20중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 방법.
  21. 제15항에 있어서, 광중합성 조성물이 약 1중량% 내지 약 30중량%의 1종 이상의 광개시제를 포함하는 방법.
  22. 제14항에 있어서, 1종 이상의 에틸렌형 불포화 자유 라디칼 중합성 단량체가 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트인 방법.
  23. 제14항에 있어서, 1종 이상의 유기 결합제가 스티렌/말레인산 무수물 공중합체 및 그들의 반에스테르; 아크릴 중합체 및 공중합체; 폴리아미드; 폴리비닐 피롤리돈; 셀룰로스 수지; 페놀 수지; 폴리비닐 아세탈; 폴리비닐 아세테이트 및 그 공중합체 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 방법.
  24. 제14항에 있어서, 아실 및 디아실 포스핀 옥사이드가 하기 일반식(Ⅰ,Ⅱ)로 표시되는 방법 :
    상기 일반식들에서, R1및 R6는 탄소수 1 내지 18의 분지형 또는 비분지형 알킬, 탄소수 5 또는 6의 치환 또는 비치환된 시클로알킬, C1-C18알킬 또는 C1-C18알콕시로 치환 또는 비치환된 C6-C18아릴, 또는 S-함유 또는 N-함유 5원 또는 6원 헤테로고리형 라디칼이며, R1및 R6는 동일하거나 또는 상이하고, R2는 R1과 동일하거나, 또는 C1-C18알콕시, C6-C18아릴옥시 또는 아르알콕시(C6-C18아릴, C1-C18알킬)이며, R1및 R2는 동일하거나 또는 상이하거나 함께 고리를 이루며, R3, R4및 R5는 탄소수 4 내지 18의 3차 알킬, 또는 탄소수 5 또는 6의 3차 시클로알킬이거나, 또는 C6-C18시클로알킬, C6-C18아릴, 또는 이종원자로서, S, N 또는 O를 함유하는 5원 또는 6원 헤테로고리형 라디칼이며, 이때 상기 라디칼은 치환 가능하며 R3기의 카르보닐기에 부착하는 점에 인접해 있는 적어도 두 개의 고리 탄소 원자에 결합된 치환체 A 및 B를 포함하는데, A 및 B는 동일하거나 또는 상이하며, 각각 C1-C18알킬, C1-C18알콕시, C1-C18알콕시, C1-C18알킬, C1-C18알킬티오, C6-C18시클로알킬, C6-C18아릴 또는 할로겐이고, R3, R4 및 R5는 동일하거나 또는 상이할 수 있다.
  25. 제14항에 있어서, 형광성 광택제가 2,2'-(티오펜디일)-비스-(t-부틸 벤즈옥사졸); 2-(스티빌-4")-(나프토-1',2',4,5)-1,2,3-트리아졸-2"-설폰산 페닐 에스테르 및 7-(4'-클로로-6"-디에틸아미노-1',3',5'-트리아진-4'-일)아미노-3-페닐 쿠마린으로 구성된 군에서 선택되는 방법.
  26. 제14항에 있어서, 형광성 광택제가 스틸벤, 트리아진, 티아졸, 벤즈옥사졸, 쿠마린, 크산텐, 트리아졸, 옥사졸, 티오펜 또는 피라졸린중 1종 이상의 빌딩 블록을 가지는 화합물들로 구성된 군에서 선택되는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6080450A (en) * 1996-02-23 2000-06-27 Dymax Corporation Composition exhibiting improved fluorescent response
GB9605712D0 (en) * 1996-03-19 1996-05-22 Minnesota Mining & Mfg Novel uv-curable compositions
US6106992A (en) * 1996-11-14 2000-08-22 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Photoresist film and process for producing back plate of plasma display panel
DE19907957A1 (de) * 1998-02-27 1999-09-02 Ciba Geigy Ag Pigmentierte photohärtbare Zusammensetzung
EP1106627B1 (en) 1999-12-08 2003-10-29 Ciba SC Holding AG Novel phosphine oxide photoinitiator systems and curable compositions with low color
US6602601B2 (en) 2000-12-22 2003-08-05 Corning Incorporated Optical fiber coating compositions
US6890399B2 (en) * 2002-01-18 2005-05-10 Henkel Corporation (Meth)acrylate compositions having a self-indicator of cure and methods of detecting cure
JP3886813B2 (ja) * 2002-01-24 2007-02-28 富士通株式会社 研磨方法
EP1349006B1 (en) * 2002-03-28 2013-09-25 Agfa Graphics N.V. Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm.
US20030186165A1 (en) * 2002-03-28 2003-10-02 Agfa-Gevaert Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm
JP2003313208A (ja) * 2002-04-19 2003-11-06 Meiko:Kk 光硬化性樹脂組成物
US7078157B2 (en) * 2003-02-27 2006-07-18 Az Electronic Materials Usa Corp. Photosensitive composition and use thereof
CN1882879B (zh) * 2003-09-22 2010-08-11 爱克发印艺公司 可光聚合的组合物
DK1833884T3 (en) * 2004-12-01 2015-09-28 Henkel IP & Holding GmbH Healable silicone compositions containing a fluorescent detection system
US7985785B2 (en) * 2007-01-15 2011-07-26 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
US8129447B2 (en) * 2007-09-28 2012-03-06 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP2010024277A (ja) * 2008-07-16 2010-02-04 Fujifilm Corp インクジェット用インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5344892B2 (ja) * 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
JP5685849B2 (ja) * 2010-07-29 2015-03-18 セイコーエプソン株式会社 紫外線硬化型インクジェットインク組成物およびインクジェット記録方法
JP2022551640A (ja) * 2019-10-10 2022-12-12 アイジーエム レシンス イタリア ソチエタ レスポンサビリタ リミタータ 光開始剤の組み合わせ及びその使用
WO2023214013A1 (en) * 2022-05-06 2023-11-09 Igm Group B. V. Photoinitiator package comprising phosphine oxide photoinitiators, coumarin-based sensitizers and amine additives
WO2023214012A1 (en) * 2022-05-06 2023-11-09 Igm Group B. V. Photoinitiator package comprising phosphine oxide photoinitiators, oxazole-based sensitizers and amine additives

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2784183A (en) * 1951-09-06 1957-03-05 Geigy Ag J R Fluorescent monotriazole compounds
BE626525A (ko) * 1959-08-05
US3644394A (en) * 1968-06-24 1972-02-22 Ciba Geigy Corp Condensation products of n-coumarin alkylpyrazoles and aldehydes
BE788560A (fr) * 1972-06-09 1973-03-08 Du Pont Protection contre le halo dans la formation d'images dans des photopolymeres en couches multiples
DE2909992A1 (de) * 1979-03-14 1980-10-02 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmassen, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen
DE3619792A1 (de) * 1986-06-18 1987-12-23 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien
DE3633436A1 (de) * 1986-10-01 1988-04-14 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmasse, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen
GB8715435D0 (en) * 1987-07-01 1987-08-05 Ciba Geigy Ag Forming images
DE3837569A1 (de) * 1988-11-04 1990-05-10 Espe Stiftung Mit sichtbarem licht aushaertbare dentalmassen
ES2098260T3 (es) * 1989-08-04 1997-05-01 Ciba Geigy Ag Oxidos de mono- y diacilfosfina.
US5218009A (en) * 1989-08-04 1993-06-08 Ciba-Geigy Corporation Mono- and di-acylphosphine oxides
US4987051A (en) * 1989-08-09 1991-01-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Image-reversal process using photosensitive peel-apart elements
EP0446175A3 (en) * 1990-03-09 1991-11-21 Ciba-Geigy Ag Mixture of photoinitiators
JPH04178403A (ja) * 1990-11-13 1992-06-25 Mitsubishi Petrochem Co Ltd ジエチレン性不飽和単量体の硬化方法
US5559163A (en) * 1991-01-28 1996-09-24 The Sherwin-Williams Company UV curable coatings having improved weatherability
RU2091385C1 (ru) * 1991-09-23 1997-09-27 Циба-Гейги АГ Бисацилфосфиноксиды, состав и способ нанесения покрытий
DE59307404D1 (de) * 1992-03-11 1997-10-30 Ciba Geigy Ag Benzoyl substituierte Phosphabicycloalkane und -sulfide als Photoinitiatoren
US5300399A (en) * 1993-01-21 1994-04-05 Hoechst Celanese Corporation Negative working, peel developable, single sheet color proofing system having a crosslinked layer containing a polymer with phenolic moieties
ZA941879B (en) * 1993-03-18 1994-09-19 Ciba Geigy Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators

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