KR960038755A - 헤드 드럼용 비디오 헤드의 스퍼터링 장치 - Google Patents

헤드 드럼용 비디오 헤드의 스퍼터링 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR960038755A
KR960038755A KR1019950010601A KR19950010601A KR960038755A KR 960038755 A KR960038755 A KR 960038755A KR 1019950010601 A KR1019950010601 A KR 1019950010601A KR 19950010601 A KR19950010601 A KR 19950010601A KR 960038755 A KR960038755 A KR 960038755A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cathode
head
vacuum chamber
silicon oxide
magnet
Prior art date
Application number
KR1019950010601A
Other languages
English (en)
Other versions
KR0141866B1 (ko
Inventor
김범진
Original Assignee
배순훈
대우전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 배순훈, 대우전자 주식회사 filed Critical 배순훈
Priority to KR1019950010601A priority Critical patent/KR0141866B1/ko
Priority to JP8130997A priority patent/JPH09137272A/ja
Priority to CN96104941A priority patent/CN1140207A/zh
Publication of KR960038755A publication Critical patent/KR960038755A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0141866B1 publication Critical patent/KR0141866B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/48Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
    • G11B5/52Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with simultaneous movement of head and record carrier, e.g. rotation of head
    • G11B5/53Disposition or mounting of heads on rotating support

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

본 발명은 헤드 드럼용 비디오 헤드의 스퍼터링 장치를 개시한다.
본 발명은 아르곤 가스가 충진되는 진공실과, 진공실의 상부에 마련되는 실드의 내부에 설치되는 캐소드와, 캐소드의 하측면에 장착되는 산화실리콘의 타겟과, 진공실의 하부에 페라티오 코어와 놓여지도록 설치되는 홀더로 이루어지는 헤드 드럼용 비디오 헤드 스퍼터링 장치에 있어서, 캐소드의 상부에 마그네트가 설치되고, 실드의 외주면에는 마그네트가 설치되며, 마그네트들은 N.S.N극의 순으로 자극이 착자되어 그 자력선이 중앙의 S극으로 집중되도록 자기장 분포가 형성된다.
따라서, 아르곤 가스가 이온화되는 확률이 높아짐과 동시에 산화실리콘 원자가 페라이트 코어에 증착되는 시간이 단축되어 제품의 생산성이 향상되고, 페라이트 코어와 산화실리콘 원자의 결합력이 향상되어 제품의 불량율이 감소되는 것이다.

Description

헤드 드럼용 비디오 헤드의 스퍼터링 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 비디오 헤드의 스퍼터링 장치를 나타낸 단면도.

Claims (1)

  1. 아르곤 가스가 충진되는 진공실과, 상기 진공실의 상부에 마련되는 실드의 내부에 설치되는 캐소드와, 상기 캐소드의 하측면에 장착되는 산화실리콘의 타겟과, 상기 캐소드의 하측면에 장착되는 산화실리콘의 타겟과, 상기 진공실의 하부에 페라이트 코어가 놓여지도록 설치되는 홀더로 이루어지는 헤드 드럼용 비디오 헤드 스퍼터링 장치에 있어서, 상기 캐소드(12)의 상부에 마그네트(20)가 설치되고, 상기 실드(11)의 외주면에는 마그네트(21)가 설치되며, 상기 마그네트(20, 21)들은 N.S.N극의 순으로 자극이 착자되어 그 자력선이 중앙의 S극으로 집중되도록 자기장 분포가 형성되는 헤드 드럼용 비디오 헤드 스퍼터링 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950010601A 1995-04-29 1995-04-29 헤드 드럼용 비디오 헤드의 스퍼터링 장치 KR0141866B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950010601A KR0141866B1 (ko) 1995-04-29 1995-04-29 헤드 드럼용 비디오 헤드의 스퍼터링 장치
JP8130997A JPH09137272A (ja) 1995-04-29 1996-04-26 スパッタリング装置
CN96104941A CN1140207A (zh) 1995-04-29 1996-04-29 在基片上溅射沉积的设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950010601A KR0141866B1 (ko) 1995-04-29 1995-04-29 헤드 드럼용 비디오 헤드의 스퍼터링 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960038755A true KR960038755A (ko) 1996-11-21
KR0141866B1 KR0141866B1 (ko) 1998-07-15

Family

ID=19413504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950010601A KR0141866B1 (ko) 1995-04-29 1995-04-29 헤드 드럼용 비디오 헤드의 스퍼터링 장치

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPH09137272A (ko)
KR (1) KR0141866B1 (ko)
CN (1) CN1140207A (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105200384A (zh) * 2015-10-27 2015-12-30 中国科学院兰州化学物理研究所 一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09137272A (ja) 1997-05-27
CN1140207A (zh) 1997-01-15
KR0141866B1 (ko) 1998-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4370217A (en) Target assembly comprising, for use in a magnetron-type sputtering device, a magnetic target plate and permanent magnet pieces
EP0459137A3 (en) Device for coating of substrates
EP1337027A3 (en) A magneto electric generator rotor
WO2003015474A3 (en) Auxiliary in-plane magnet inside a nested unbalanced magnetron
JPH0689446B2 (ja) 薄膜形成装置
KR960038755A (ko) 헤드 드럼용 비디오 헤드의 스퍼터링 장치
GB1493276A (en) Magnetrons
JPH0525625A (ja) マグネトロンスパツタカソード
GB2241710A (en) Magnetron sputtering of magnetic materials in which magnets are unbalanced
GB1164307A (en) Magnets.
CN111996505B (zh) 磁控溅射铁磁性靶材的装置
JPS579197A (en) Speaker
JPS648624A (en) Plasma apparatus
JP4056132B2 (ja) マグネトロンスパッタ方法及び装置
JP2536297Y2 (ja) スパッタリング装置用磁気回路
GB2209769A (en) Sputter coating
JPS63162865A (ja) スパツタリングカソ−ド
GB9014393D0 (en) D.c.machine of type having permanent magnet with auxiliary pole
GB1290240A (ko)
JP3063169B2 (ja) マグネトロン式スパッタリング装置
RU94010083A (ru) Устройство и способ для предотвращения вытекания посредством магнита расплавленного металла через зазор, расположенный между двумя горизонтально разнесенными элементами
JPH05163568A (ja) マグネトロンスパッタ装置
SU448117A2 (ru) Устройство дл базировани и вращени деталей типа колец приборных подшипников
JPH04358064A (ja) マグネトロンスパッタカソード
GB858250A (en) Improvements in or relating to permanent magnet assemblies

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20020228

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee