Claims (17)
스트라이프 형상의 다수 개의 캐소드전극과 에미터가 형성되며 상기 에미터 사이에 절연층과 게이트전극이 형성된 하부기판과, 상기 캐소드전극과 교차하는 스트라이프 형사의 다수 개의 애노드전극과 형광체가 형성된 상부기판이 소정 간격 이격되게 유지시키는 스페이서를 포함하는 전계 방출 표시장치에 있어서, 상기 스페이서는 정도가 큰 물질로 형성되어 하부기판과 상부기판 사이의 거리를 일정하게 유지시키는 지지부와, 연성의 물질로 형성되며 압축응력에 변형되어 집중되는 압축 응력을 분산시키는 완충부로 이루어진 전계 방출 표시소자의 스페이서.A plurality of stripe cathode electrodes and emitters are formed, and a lower substrate having an insulating layer and a gate electrode formed therebetween, and an upper substrate on which a plurality of stripe anodes and phosphors intersecting the cathode are formed. A field emission display device comprising spacers spaced apart from each other, wherein the spacers are made of a material having a high degree and are formed of a support material for maintaining a constant distance between the lower substrate and the upper substrate, and a compressive stress. A spacer of a field emission display device comprising a buffer for dispersing compressive stress deformed and concentrated at a portion thereof.
제1항에 있어서, 상기 지지부는 유리, 산화물 또는 질화물을 포함하는 세라믹으로 형성된 전계 방출 표시 소자의 스페이서.The spacer of claim 1, wherein the support part is formed of a ceramic including glass, oxide, or nitride.
제2항에 있어서, 상기 지지부는 단일의 경화물질칭으로 이루어진 전계 방출 표시장치.The field emission display of claim 2, wherein the support comprises a single hardened material.
제2항에 있어서, 상기 지지부는 다수 개의 층으로 이루어진 전계 방출 표시소자.The field emission display of claim 2, wherein the support comprises a plurality of layers.
제1항에 있어서, 상기 완충부는 폴리이미드를 포함하는 폴리머, 또는 알루미늄으로 형성된 전계 방출 표시소자의 스페이서.The spacer of claim 1, wherein the buffer part is made of a polymer including polyimide or aluminum.
제5항에 있어서, 상기 완충부는 상기 지지부를 크기의 최대 편차 보다 크게 형성된 전계 방출 표시소자의 스페이서.The spacer of claim 5, wherein the buffer part is formed to be larger than a maximum deviation of the size of the support part.
스트라이프 형상의 다수 개의 캐소드전극과 에미터가 형성되며 상기 에미터 사이에 절연층과 게이트전극이 형성된 하부기판과, 상기 캐소드전극과 교차하는 스트라이프 형상의 다수 개의 에노드전극과 형광체가 형성된 상부기판이 소정 간격 이격되게 유지시키는 스페이서를 포함하는 전계 방출 표시장치에 있어서, 상기 하부기판의 상부에 상기 게이트전극의 상부에 도포되지 않고 상기 에미터가 노출되지 않도록 보호층을 형성하는 공정과, 상기 하부기판의 상부 전 표면에 경도가 크고 절연성이 좋은 물질을 페이스트 상태로 도포하여 지지부를 형성하는 공정과, 상기 지지부 상부의 소정 부분에 연성의 물질로 완충층을 형성하는 공정과, 상기 완충부를 마스크로 이용하여 지지부의 노출된 부분과 보호층을 순차적으로 제거하는 공정을 구비하는 전계 방출 표시소자의 스페이서 형성방법.A lower substrate having a plurality of stripe cathode electrodes and emitters formed therebetween and an insulating layer and a gate electrode formed therebetween, and an upper substrate having a plurality of stripe shaped anode electrodes and phosphors intersecting the cathode electrodes. A field emission display device comprising spacers spaced apart from each other by a predetermined interval, the method comprising: forming a protective layer on the lower substrate so that the emitter is not exposed on the gate electrode and the emitter is not exposed; Forming a support by applying a material having a high hardness and good insulation in the form of a paste on the entire surface of the upper part of the upper part of the upper part of the substrate, forming a buffer layer with a soft material on a predetermined part of the upper part of the support part, and using the buffer part as a mask. And sequentially removing the exposed portion of the support and the protective layer. The spacer-forming method of the release-based display device.
제7항에 있어서, 상기 보호층을 상기 에미터와 식각 선택비가 다른 물질로 형성하는 전계 방출 표시소자의 스페이서 형성방법.The method of claim 7, wherein the protective layer is formed of a material having an etch selectivity different from that of the emitter.
제8항에 있어서, 상기 보호층을 포토레지스트 또는 폴리이미드를 포함하는 폴리머로 형성하는 전계 방출표시소자의 스페이서 형성방법.The method of claim 8, wherein the protective layer is formed of a polymer including photoresist or polyimide.
제9항에 있어서, 상기 보호층을 스핀 코팅하여 형성하는 전계 방출 표시소자의 스페이서 형성방법.The method of claim 9, wherein the protective layer is formed by spin coating the protective layer.
제7항에 있어서, 상기 지지부를 유리, 산화물 또는 질화물을 포함하는 세라믹으로 형성하는 전계 방출표시소자의 스페이서 형성방법.8. The method of forming a spacer of a field emission display device according to claim 7, wherein said support portion is formed of a ceramic comprising glass, oxide or nitride.
제11항에 있어서, 상기 지지부를 스크린 프린터 방법으로 단일의 경화물질층 또는 하부층에서 상부층으로 갈수록 작은 직경을 갖는 다수 개의 경화물질층으로 형성하는 전계 방출 표시소자의 스페이서 형성방법.The method of claim 11, wherein the support part is formed of a single cured material layer or a plurality of cured material layers having a smaller diameter from the lower layer to the upper layer by a screen printer method.
제7항에 있어서, 상기 완충부를 폴리이미드를 포함하는 폴리머를 도포하여 형성하는 전계 방출 표시소자의 스페이서 형성방법.The method of claim 7, wherein the buffer part is formed by applying a polymer including polyimide.
제13항에 있어서, 상기 완충부를 마스크로 이용하여 상기 지지부의 노출된 부분을 반응성 이온 식각 등의 건식식각을 이용하는 포토리쏘그래피 방법으로 제거하는 전계 방출 표시소자의 스페이서 형성방법.The method of claim 13, wherein the exposed portion of the support is removed by a photolithography method using dry etching such as reactive ion etching using the buffer as a mask.
제7항에 있어서, 상기 완충부를 알루미늄을 증착하여 형성하는 전계 방출 표시소자의 스페이서 형성방법.The method of claim 7, wherein the buffer part is formed by depositing aluminum.
제15항에 있어서, 상기 완충부를 마스크로 이용하여 지지부의 노출된 부분을 레이저 증발법으로 제거하는 전계 방출 표시소자의 스페이서 형성방법.The method of claim 15, wherein the exposed portion of the support is removed by laser evaporation using the buffer as a mask.
제13항 또는 제15항에 있어서, 상기 완충부를 지지부를 크기의 최대 편차 보다 크게 형성하는 전계 방출 표시소자의 스페이서 형성방법.The method of forming a spacer of a field emission display device according to claim 13 or 15, wherein the buffer part is formed to be larger than a maximum deviation of the size of the support part.