KR960013737B1 - Mirror manufacturing method of projector-typed image display apparatus - Google Patents

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    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
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    • H04N5/00Details of television systems
    • H04N5/74Projection arrangements for image reproduction, e.g. using eidophor

Abstract

forming a separating layer(3) on the surface of a glass substrate(1); forming a first, a second and a third metal layer(5,6,7) on top of the separating layer(3) by separating each other; forming a photoresist pattern(11) on the interval(9) of the metal layers; forming a forth metal layer(13) on the revealed third metal layer(7); and attaching an actuator(15) on top of the forth metal layer(13) and separating the glass substrate(1) from the first metal layer(5).

Description

투사형 화상표시장치의 거울 제조방법Mirror manufacturing method of projection image display device

제1(a)~(d)도는 본 발명에 따른 투사형 화상표시장치의 거울의 제조공정도.1 (a) to (d) are manufacturing process diagrams of a mirror of a projection image display apparatus according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 유리기판 3 : 분리층1: glass substrate 3: separation layer

5 : 제1금속층 6 : 제2금속층5: first metal layer 6: second metal layer

7 : 제3금속층 9 : 간격7: third metal layer 9: spacing

11 : 포토레지스트패턴 13 : 제4금속층11: photoresist pattern 13: fourth metal layer

15 : 액츄에이터15: actuator

본 발명은 액츄에이티드 미러어레이를 구비하는 투사형 화상표시장치의 거울 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a mirror of a projection type image display device having an actuated mirror array.

화상표시장치는 표시방식에 따라 직시형 화상표시장치와 투사형 화상표시장치로 구분된다. 직시형 화상표시장치는 CRT(Cathod Ray Tube) 등이 있는데, 이러한 CRT 화상표시장치는 화질이 좋으나 화면이 커짐에 따라 중량 및 두께의 증대와, 가격이 비싸지는 등의 문제점이 있어 대화면을 구비하는데 한계가 있다. 투사형 화상표시장치는 대화면 액정표시장치(Liquid Crystal Display; 이하 LCD라 칭함)등이 있는데, 이러한 대화면 LCD는 박형화가 가능하여 중량을 작게 할 수 있다. 그러나, 이러한 LCD는 편광판에 의한 광손실이 크고 LCD를 구동하기 위한 박막트랜지스터가 화소마다 형성되어 있어 개구율(광의 투과면적)을 높이는데 한계가 있으므로 광의 효율이 매우 낮다.An image display apparatus is classified into a direct view type image display apparatus and a projection type image display apparatus according to a display method. The direct view type image display apparatus includes a CRT (Cathod Ray Tube), but such a CRT image display apparatus has good image quality but has a problem such as an increase in weight and thickness as the screen is enlarged, and a price is expensive. There is. Projection type image display apparatuses include a large screen liquid crystal display (hereinafter referred to as an LCD), and such large screen LCDs can be thinned to reduce weight. However, the LCD has a high light loss due to the polarizing plate, and a thin film transistor for driving the LCD is formed for each pixel, so that there is a limit in increasing the aperture ratio (light transmission area).

따라서, 미합중국 Aura 사에서 액츄에이티드 미러어레이(Actuated Mirror Arrays: 이하 AMA라 칭함)를 이용한 투사형 화상표시장치가 개발되었다. 상기 AMA는 미합중국 특허출원 제429,987호 및 제448,748호에 개시된 바와같이 램프로부터 입사된 광이 각각의 거울로부터 반사되어 슬릿(slit)의 틈을 통과하는 광양을 조절한다.상기 거울은 슬릿의 틈과 관련하얼 광의 경로들을 제어하는데, 인가되는 전압에 비례하여 변하는 액츄에이터의 의해 구동한다.Accordingly, a projection type image display apparatus using Actuated Mirror Arrays (hereinafter referred to as AMA) has been developed by Aura, USA. The AMA adjusts the amount of light that is incident from the lamp to be reflected from each mirror and passes through the slit gap, as disclosed in US Pat. Nos. 429,987 and 448,748. It controls the paths of the associated Harl light, driven by an actuator that changes in proportion to the voltage applied.

상기 거울은 백색광으로부터 분리된 적, 녹, 청색의 광을 전반사시켜야 하므로 각각의 액츄에이터의 상부에 하나씩 장치하며 매우 평탄하여야 하며, AMA의 소형화를 위하여 각 액츄에이터 위해 부착되는 거울의 크기는 매우 작고 가벼워야 한다.Since the mirror must totally reflect red, green, and blue light separated from the white light, it should be installed at the top of each actuator, and should be very flat. For the miniaturization of AMA, the size of the mirror attached to each actuator should be very small and light. do.

그러나, 화면을 나타내기 위해서는 화소에 해당하는 다수개의 액츄에이터가 필요한데, 이 다수개의 액츄에이터의 각각에 표면이 평탄한 거울을 하나씩 형성하는 것이 어렵다.However, in order to display a screen, a plurality of actuators corresponding to pixels are required, and it is difficult to form one mirror with a flat surface on each of the plurality of actuators.

따라서, 본 발명의 목적은 간단한 방법으로 동시에 다수개의 액츄에이터에 거울을 형성할 수 있는 투사형 화상표시장치의 거울 제조방법을 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a mirror manufacturing method of a projection type image display apparatus which can form mirrors on a plurality of actuators at the same time by a simple method.

상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 액츄에이티드 미러어레이를 구비하는 투사형 화상표시장치의 거울 제조방법에 있어서, 유리기판의 표면에 분리층을 형성하는 공정과, 상기 분리층 상부에 간격에 의해 이격되는 제1, 제2 및 제3금속층을 형성하는 공정과, 상기 간격의 내부표면에 포토레지스트패턴을 형성하는 공정과, 상기 노출되어 있는 제3금속층의 표면에 제4금속층을 형성하는 공정과, 상기 제4금속층의 상부에 액츄에이터를 부착하고 상기 제1금속층으로부터 유리기판을 분리하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a method of manufacturing a mirror of a projection type image display apparatus having an actuated mirror array, the process of forming a separation layer on the surface of the glass substrate, and spaced apart by an interval on the separation layer Forming a first, second, and third metal layer to be formed; forming a photoresist pattern on the inner surface of the gap; forming a fourth metal layer on the exposed third metal layer; And attaching an actuator to the upper portion of the fourth metal layer and separating the glass substrate from the first metal layer.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제1(a)~(d)도는 본 발명에 따른 투사형 화상표시장치의 거울의 제조공정도이다.1 (a) to (d) are manufacturing process diagrams of the mirror of the projection image display apparatus according to the present invention.

제1(a)도를 참조하면, 유리기판(1)의 표면에 포토리레지스트(Photoresist)로 분리층(3)을 형성한다. 상기 유리기판(1)은 표면이 반사경의 표면과 맞닿는 것으로 완성되는 거울의 난반사를 방지하기 위해 표면이 평탄하여야 하며, 또한 여러 번에 걸쳐 거울 제조에 재사용되기 위해서는 내화학성이 높아야 한다.Referring to FIG. 1 (a), the separation layer 3 is formed on the surface of the glass substrate 1 by photoresist. The glass substrate 1 must have a flat surface to prevent diffuse reflection of the mirror, which is completed by the surface contacting the surface of the reflector, and also have high chemical resistance in order to be reused for manufacturing the mirror several times.

상기 분리층(3)은 거울의 완성 후 유리기판(1)과 분리를 쉽게 하기 위한 것이며, 회전도포법(spincoating method)으로 얇고 평탄하게 형성한다. 그 다음, 스퍼터링(sputtering)등에 의해 상기 분리층(3)의 상부에 제1금속층(5)을 형성한다. 제1금속층(5)은 거울의 반사면이 되는 것으로 반사율이 높고 산화반응 등에 의한 부식성이 낮은 백금(Pt)등을 0.05~0.2㎛ 정도의 두께로 형성한다. 계속해서, 상기 제1금속층(5)의 상부에 제2및 제3금속층(6)(7)을 형성한다. 상기에서 제2및 제3금속층(6)(7)의 형성을 스퍼티링과 전해도금방법을 각각 이용하며, 전해도금시 두께 형성이 용이한 니켈(Ni)등으로 형성한다. 상기에서 제2금속층(6)은 제1금속층(5)과 제3금속층(7)의 결합력을 좋게 하며, 제3금속층(7)은 바르게 성장하므로 원하는 두께를 형성한다. 상기에서 제2금속층(6)을 0.05~0.02㎛ 정도의 두께로 제3금속층(7)을 3~7㎛ 정도의 두께로 형성한다.The separation layer 3 is intended to facilitate separation from the glass substrate 1 after completion of the mirror, and is formed thin and flat by the spincoating method. Then, the first metal layer 5 is formed on the separation layer 3 by sputtering or the like. The first metal layer 5 serves as a reflecting surface of the mirror, and forms platinum (Pt) having a high reflectance and low corrosiveness by an oxidation reaction or the like to a thickness of about 0.05 to 0.2 μm. Subsequently, second and third metal layers 6 and 7 are formed on the first metal layer 5. In the above, the second and third metal layers 6 and 7 are formed by sputtering and electroplating, respectively, and are formed of nickel (Ni) or the like which is easy to form a thickness during electroplating. In the above, the second metal layer 6 improves the bonding force between the first metal layer 5 and the third metal layer 7, and the third metal layer 7 grows correctly to form a desired thickness. In the above, the second metal layer 6 is formed to a thickness of about 0.05 to 0.02 μm, and the third metal layer 7 is formed to a thickness of about 3 to 7 μm.

제1(b)도를 참조하면, 통상의 포토리소그래피(Photolitography) 방법에 의해 간격(9)을 형성한다. 상기 간격(9)은 상기 분리층(3)이 노출되도록 형성하며, 거울의 크기를 한정한다. 상기에서 광효율을 크게 하기 위해 간격(9)의 크기를 작게 하여야 하는데, 약 3~7㎛ 정도의 크기로 형성한다. 그 다음, 상기 간격(9)의 내부표면에 포토라지스트패턴(11)을 형성한다. 상기 포토레지스트페턴(11)은 통상의 포토(photo)공정에 의해 형성되는 것으로 분리층(3)과 같은 재잴로 하며 제3금속층(7)의 상부에서 이층의 두께 정도의 폭과 겹친다.Referring to FIG. 1 (b), the gap 9 is formed by a conventional photolitography method. The gap 9 is formed such that the separation layer 3 is exposed and defines the size of the mirror. In order to increase the light efficiency in the above, the size of the gap 9 should be reduced, and the size of about 3-7 μm is formed. Next, a photo resist pattern 11 is formed on the inner surface of the gap 9. The photoresist pattern 11 is formed by a general photo process, and is formed in the same manner as the separation layer 3 and overlaps with the width of the thickness of the two layers on the third metal layer 7.

제1(c)도를 참조하면, 상기 포토레지스트패턴(11)을 마스크로 하여 상기 제3금속층(7)의 노출된 표면에 전해도금하여 제4금속층(13)을 형성한다. 상기 제4금속층(13)을 제3금속층(7)과 동일한 금속으로 15~25㎛ 정도의 두께로 형성되는 것으로 상기 포토레지스트패턴(11)에는 형성되지 않는다. 그 다음, 상기 제4금속층(13)의 상부에 접착제를 사용하여 압전재료 또는 전왜재료를 형성된 액츄에이터(actuator)(15)를 부착한다.Referring to FIG. 1C, the fourth metal layer 13 is formed by electroplating the exposed surface of the third metal layer 7 using the photoresist pattern 11 as a mask. The fourth metal layer 13 is formed of the same metal as the third metal layer 7 to a thickness of about 15 to 25 μm, and is not formed on the photoresist pattern 11. Next, an actuator 15 having a piezoelectric material or an electro-distorted material is attached to the fourth metal layer 13 using an adhesive.

제1(d)도를 참조하면, 상기 제1금속(5)과 유리기판(1)을 분리한다. 상기 제1금속층(5)과 유리기판(1)은 유기용매로 상기 분리층(3)을 제거하므로서 분리될 수 있다. 상기 분리층(3)을 개재시켜 유리기판(1)과 부착되어 있던 제1금속층(5)은 거울의 반사면이 되는 것으로 표면 특성이 상기 유리기판(1)의 표면상태에 의해 좌우된다. 상기에서 분리층(3)이 제거될 때 포토레지스트패턴(11)도 제거된다.Referring to FIG. 1 (d), the first metal 5 and the glass substrate 1 are separated. The first metal layer 5 and the glass substrate 1 may be separated by removing the separation layer 3 with an organic solvent. The first metal layer 5 attached to the glass substrate 1 via the separation layer 3 serves as a reflecting surface of the mirror, and the surface characteristics depend on the surface state of the glass substrate 1. When the isolation layer 3 is removed, the photoresist pattern 11 is also removed.

상술한 바와 같이 유리기판상에 분리층, 제1, 제2 및 제3금속층을 형성한 후 소정부분을 통상의 방법으로 식각하여 간격을 형성하고, 이 간격의 내부표면에 포토레지스트패턴을 형성한 후 상기 노출된 제3금속층의 표면에 제4금속층을 형성하고 이 제4금속층의 상부에 액츄에이터를 부착한 다음 유리기판을 제거함으로서 거울을 만든다.After forming the separation layer, the first, the second and the third metal layer on the glass substrate as described above, by etching a predetermined portion in a conventional manner to form a gap, after forming a photoresist pattern on the inner surface of the gap A mirror is formed by forming a fourth metal layer on the exposed third metal layer, attaching an actuator to the top of the fourth metal layer, and then removing the glass substrate.

따라서, 본 발명은 각각의 액츄에이터에 간단한 방법으로 동시에 거울을 형성할 수 있다.Thus, the present invention can simultaneously form a mirror in each actuator in a simple manner.

Claims (7)

액츄에이티드 미러어레이를 구비하는 투사형 화상표시장치의 거울의 제조방법에 있어서, 유리기판의 표면에 분리층을 형성하는 공정과, 상기 분리층 상부에 간격에 의해 이격되는 제1, 제2 및 제3금속층을 형성하는 공정과, 상기 간격의 내부표면에 포토레지스트패턴을 형성하는 공정과, 상기 노출되어 있는 제3금속층의 표면에 제4금속층을 형성하는 공정과, 상기 제4금속층의 상부에 액츄에이터를 부착하고 상기 제1금속층으로부터 유리기판을 분리하는 공정을 구비하는 투사형 화상표시장치의 거울 제조방법.A method of manufacturing a mirror of a projection type image display device having an actuated mirror array, the method comprising: forming a separation layer on a surface of a glass substrate; first, second, and first spaced apart intervals on the separation layer. Forming a third metal layer, forming a photoresist pattern on the inner surface of the gap, forming a fourth metal layer on the exposed surface of the third metal layer, and an actuator on top of the fourth metal layer. Attaching and separating a glass substrate from the first metal layer. 제1항에 있어서, 상기 분리층을 포토레지스트로 회전도포하여 형성하는 투사형 화상표시장치의 제조방법.The manufacturing method of a projection type image display device according to claim 1, wherein the separation layer is formed by rotating coating with a photoresist. 제1항에 있어서, 상기 제1금속층을 백금등을 스퍼터링하여 형성하는 투사형 화상표시장치의 제조방법.The manufacturing method of a projection type image display device according to claim 1, wherein the first metal layer is formed by sputtering platinum or the like. 제1항에 있어서, 상기 제2금속층을 니켈등을 스퍼터링하여 형성하는 투사형 화상표시장치의 제조방법.The manufacturing method of a projection type image display device according to claim 1, wherein the second metal layer is formed by sputtering nickel or the like. 제1항에 있어서, 상기 제3금속층을 상기 제2금속층과 동일한 물질을 전해도금하여 형성하는 투사형 화상표시장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the third metal layer is formed by electroplating the same material as the second metal layer. 제1항에 있어서, 상기 제4금속층을 상기 제2금속층과 동일한 물질을 전해도금하여 형성하는 투사형 화상표시장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the fourth metal layer is formed by electroplating the same material as the second metal layer. 제1항에 있어서, 상기 분리층을 제거하여 상기 제1금속층으로부터 유리기판을 분리하는 투사형 화상표시장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the separation layer is removed to separate a glass substrate from the first metal layer.
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