KR960008696A - 적층 자기헤드 - Google Patents
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
본 발명은 적층 자기헤드에 관한 것으로, 종래 적층 자기헤드는 디지탈 브이씨알 및 방송용 브이씨알과 같은 고 기록밀도에 대응하기에는 다소 미흡하기 때문에 기록 및 재생헤드를 분리하여 기록헤드에는 고 포화자속밀도 재료를 적용하고, 재생헤드에는 고 투자율 재료를 사용해야 하는 불편한 문제점이 있었다.
따라서 본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위하여 고 포화자속밀도 재료와 고 투자율 재료를 조합시켜 적층자성막을 형성함으로써 자기헤드의 기록 및 재생효율을 향상시키도록 적층 자기헤드를 제공하는 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명 적층 자기헤드의 적층자성막 구조도.
제5도는 본 발명에 따른 적층 자기헤드와 기존의 적층 자기헤드의 기록 및 재생효율 비교도.
제6도는 본 발명 적층 자기헤드의 다른 구성도.
Claims (6)
- 기판사이에 적층자성막을 형성하는 적층 자기헤드에 있어서, 적층자성막을 기록용 적층막과 재생용적층막을 교대로 다층으로 형성한 것을 특징으로 하는 적층 자기헤드.
- 제1항에 있어서, 기록용적층막으로 포화자속밀도가큰 FeZrN 재료가 사용됨을 특징으로 하는 적층 자기헤드.
- 제1항에 있어서, 재생용적층막으로 투자율이 좋은 CoNbZr계 아몰퍼스막이 사용됨을 특징으로 하는 적층 자기헤드.
- I-코아와 C-코아로 구성되는 적층 자기헤드에 있어서, 상기 I-코아와 C-코아에 사용되는 적층자성막을 각각 기록용자성막과 재생용자성막으로 달리 형성한 것을 특징으로 적층 자기헤드.
- 제4항에 있어서, 기록용적층막으로 포화자속밀도가 큰 FeZrN 재료가 사용됨을 특징으로 하는 적층 자기헤드.
- 제4항에 있어서, 재생용적층막으로 투자율이 좋은 CoNbZr계 아몰퍼스막이 사용됨을 특징으로 하는 적층자기헤드.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940019133A KR0133453B1 (ko) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 적층 자기헤드 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019940019133A KR0133453B1 (ko) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 적층 자기헤드 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960008696A true KR960008696A (ko) | 1996-03-22 |
KR0133453B1 KR0133453B1 (ko) | 1998-04-22 |
Family
ID=19389724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019940019133A KR0133453B1 (ko) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 적층 자기헤드 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR0133453B1 (ko) |
-
1994
- 1994-08-02 KR KR1019940019133A patent/KR0133453B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR0133453B1 (ko) | 1998-04-22 |
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