KR960003850Y1 - Abrasive sheet - Google Patents

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하트미츠 야스다
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니혼 코오테드 아브레이시브 가부시끼가이샤
마츠모토 쇼오에이
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    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
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    • B24D11/04Zonally-graded surfaces
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Abstract

내용 없음.No content.

Description

연마포지(硏磨佈紙)Abrasive paper

제1도는 본 고안의 제1실시예에 의한 연마포지의 일부를 나타낸 평면도.1 is a plan view showing a part of the abrasive cloth according to a first embodiment of the present invention.

제2도는 본 고안의 제2실시예에 의한 연마포지의 일부를 나타낸 평면도.2 is a plan view showing a part of the abrasive cloth according to a second embodiment of the present invention.

제3도는 본 고안의 제3실시예에 의한 연마포지의 일부를 나타낸 평면도이다.3 is a plan view showing a part of the abrasive cloth according to a third embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 기재(基材) 2, 2A, 2B : 입자덩어리1: base material 2, 2A, 2B: particle mass

본 고안은 연마포지에 관한 것이다. 종래, 이러한 종래의 연마포지는 포(佈), 지(紙)등의 기재상에 연마용 입자를 가장 밀도 있는 충전에 가까운 상태에서 랜덤하게 고착하여 구성되어 있다.The present invention relates to abrasive paper. Conventionally, such conventional abrasive paper is constructed by randomly fixing abrasive particles on a substrate such as cloth or paper in a state close to the most dense filling.

그러나, 종류의 연마포지로 재료(이하 워크(work)라고도 함)를 연마할려고 하면, 상기와 같이 연마용 입자가 가장 밀도있는 충전에 가까운 상태이기 때문에 워크의 작용면에 가해지는 법선력(누르는 힘)을 크게 하지 않으면 안된다. 그러나, 이와 같이 법선력을 크게하여 연마를 실시하면, 연마용 입자의 드는(칼)날이 조기에 마멸(磨滅), 마모되어 연마포지가 워크의 작용면을 겉미끄럼을 하여, 이 때문에 연마력이 현저히 저하되어 워크의 가공정밀도가 나빠지고, 치수불량등을 가져오고 있었다.However, when trying to polish a material (also referred to as a work) with a kind of abrasive paper, the normal force (pressing force) applied to the working surface of the work because the abrasive particles are closest to the most dense filling as described above. ) Must be increased. However, when polishing is performed with a large normal force in this way, the lifting blades of the abrasive grains wear out prematurely and wear out, and the abrasive cloth slides on the working surface of the workpiece, which causes the polishing force to decrease. Significantly lowered, the processing accuracy of the work worsened, resulting in poor dimensions.

또 연마포지가 워크의 작용면을 겉미끄럼하기 때문에, 발열에 의한 코막힘이 생기고, 나아가서 워크가 열에 타게 되는 결점을 가지고 있었다.In addition, since the abrasive cloth slipped on the working surface of the work, there was a drawback in that a stuffy nose was generated due to heat generation and the work burned further.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 고안의 연마 포지는, 천, 종이 등의 기재상에 접착제로서 연마용 입자를 고착하여 구성한 연마 포지에 있어서, 상기 연마용 입자는 입자의 직경이 5~400㎛인 것을 사용하고, 치밀한 부분과 상기부분을 균일하게 생기게 하여 고착하여 구성되는 연마 포지에 있어서, 단위면적당의 입자 수가, 상기 기재상에 연마용 입자를 가장 밀도있게 충전한 경우의 입자수의 35%이하가 되도록 하고, 상기 지재상에 복수개의 연마용 입자로서 이루어지는 도트(dot) 형상 또는 벌집 형상을 이루는 입자 덩어리로서 균일하게 나타나도록 고착하여 구성된다.In order to solve the above problems, the polishing forge according to the present invention is a polishing paper formed by fixing polishing particles as an adhesive on a substrate such as cloth or paper, wherein the polishing particles have a particle diameter of 5 to 400 µm. In the polishing paper which is used, the dense portion is formed by uniformly adhering the above-mentioned portion, and the number of particles per unit area is less than 35% of the number of particles when the abrasive particles are most densely packed on the substrate. It is configured to adhere to the paper material so as to appear uniformly as agglomerates of dots or honeycomb particles.

본 고안의 연마포지에서는 입자지름이 약 5 내지 약 400㎛의 연마용 입자를, 단위면적당 입자수가 가장 밀도있게 충전한 경우에서의 입자수의 약 35% 이하에서 고착되어 있고, 입자수를 이와 같은 범위에 설정함으로써, 연마용 입자의 드는 (칼)날의 조기마멸, 마모를 동반함이 없이 재료의 연마에 요구되는 연마용 입자 한 입자당 법선력을 크게할 수 있고, 더구나 접선저항 즉 워크의 작용면에 대한 접선방향의 반력(反力)을 작게 할 수 있다. 또, 연마용 입자를 도트 형상 또는 벌집 형상을 이루는 입자 덩어리로서 고착하는 구성으로 함으로써, 고착에 앞서는 연마용 입자의 배치를 쉽게 정밀히 할 수 있고, 동시에 연마포지 전면(全面)에 걸쳐 얼룩 없는 배치가 가능하게 된다.In the abrasive paper of the present invention, abrasive particles having a particle diameter of about 5 to about 400 µm are fixed at about 35% or less of the particle number when the particle number per unit area is most densely packed. By setting the range, the normal force per grain of the abrasive grains required for polishing of the material can be increased without premature wear and abrasion of the lifting edge of the abrasive grains. The reaction force in the tangential direction with respect to the working surface can be reduced. In addition, by setting the abrasive grains as agglomerate particles having a dot or honeycomb shape, it is possible to easily arrange the abrasive grains prior to the fixation, and at the same time, a spot without spreading over the entire surface of the abrasive cloth. It becomes possible.

[실시예]EXAMPLE

다음에 본 고안의 실시예를 도면을 참조하여 설명한다. 먼저 본 고안의 제1실시예에 의한 연마포지를 제1도를 참조하여 설명한다.Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. First, the abrasive cloth according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

제1도중 (1)은 포지등의 기재이며, 이 기재(1)의 상면에는 복수의 연마용 입자로 되는 도트형상이 입자덩어리(2)~(2)가 고착되어 있다.1 is a base material, such as a forge, and the particle | grains 2-2 adhere | attach the dot shape which becomes a some abrasive grain on the upper surface of this base material 1. As shown in FIG.

입자덩어리(2)~(2)는 서로 등간격으로 배치되어 있으며, 이들을 구성하는 개개의 연마용 입자의 입자지름 및 100㎝2당의 개수는, 유리, 세라믹, 석고, 석재등의 취성(脆性) 재료의 연삭(硏削)에 적합한 다이아몬드 연마용 입자의 경우는 다음 제1표의 조합에서 선택되고, 목재, 도면(途面), 플라스틱 및 경질고무등의 연삭용의 경우는, 주로 알런덤계 연마용 입자 또는 탄화규소계 연마용 입자(일반 연마용 입자)가 사용되며, 다음 제2표의 조합에서 선택된다.The particle masses 2 to 2 are arranged at equal intervals, and the particle diameter of each abrasive grain constituting these and the number of sugars per 100 cm 2 are brittle such as glass, ceramic, gypsum and stone. Diamond grinding particles suitable for grinding of materials are selected from the combination of the following first table, and mainly for alumn-based grinding for grinding wood, drawings, plastics and hard rubber. Particles or silicon carbide-based abrasive particles (general abrasive particles) are used and are selected from the combination of the following second table.

또, 금속 연마용의 경우는, 주로 알런덤계 연마용 입자 또는 탄화규소계 연마용입자(일반 연마용 입자)가 사용되며, 다음 제3표의 조합에서 선택된다.In addition, in the case of metal polishing, mainly aluminum-based polishing particles or silicon carbide-based polishing particles (general polishing particles) are used, and are selected from the combination of the following third table.

[표 1]TABLE 1

[표 2]TABLE 2

[표 3]TABLE 3

여기서, 제1표의 경우는 각 입자지름에서의 연마용 입자 개수(개/100㎠)의 최소치(値)와 최대치는 한층으로 가장 밀도있게 충전한 경우의 연마용 입자 개수(개/100㎠)의 2% 및 20%에 각각 대응하고 있다.Here, in the case of the first table, the minimum value and maximum value of the number of abrasive grains (piece / 100 cm 2) at each particle diameter are the maximum number of abrasive particles (pieces / 100 cm 2) when the most densely packed particles are filled. 2% and 20% respectively.

또, 제2표의 경우는, 각 입자 지름에서의 연마용 입자 개수(개/100㎠)의 최소치와 최대치는 한층으로 가장 밀도있게 충전한 경우의 연마용 입자 개수(개/100㎠)의 3.5% 및 28%에 각각 대응하고 있다.In the case of the second table, the minimum and maximum values of the number of abrasive grains (piece / 100 cm 2) at each particle diameter are 3.5% of the number of abrasive grains (pieces / 100 cm 2) when the most densely packed particles are filled even more densely. And 28% respectively.

또, 제3표의경우는, 각 입자 지름에서의 연마용 입자 개수(개/100㎠)의 최소치와 최대치는 한층으로 가장 밀도있게 충전한 경우의 연마용 입자 개수(개/100㎠)의 7% 및 35%에 각각 대응하고 있다.In the case of Table 3, the minimum and maximum values of the number of abrasive grains (piece / 100 cm 2) at each particle diameter are 7% of the number of abrasive grains (pieces / 100 cm 2) in the most densely packed layer. And 35% respectively.

제1도는, 입자지름 160㎛, 입자수 770개/100㎠의 연마용 입자를 기재상에 도트상태로 고착한 상태를 배율×4.5로 촬영한 사진을 그림으로 한 것이며, 이 경우의 각 입자 덩어리를 구성하는 연마용 입자 수는 평균 9.5개이다.Fig. 1 is a photograph of a photograph taken at a magnification × 4.5 of a state in which polishing particles having a particle diameter of 160 µm and a particle number of 770 particles / 100 cm 2 are fixed on a substrate in a dot state. The average number of abrasive grains that constitutes is 9.5.

또한, 연마용 입자로서는 상기 표에 나타낸 이외에도, 5 내지 400㎛의 입자지름의 것이라면 여하한 입자 지름의 것도 이용할 수 있고, 그 연마용 입자 개수(개/100㎠)는, 한층으로 가장 밀도있게 충전한 경우의 35%이하의 범위가 된다.As the abrasive grains, in addition to those shown in the above table, any one having a particle diameter of 5 to 400 μm can be used, and the number of abrasive grains (pcs / 100 cm 2) is most densely packed. It is less than 35% of one case.

또, 본 실시예와 같이 도트 상태로 배치하는 경우의 각 입자 덩어리(2)를 구성하는 연마용 입자의 수는 적어도 둘 이상이며, 입자지름에 따라서 다음 제4표와 같이 최저 수를 선택하는 것이 바람직하다.In addition, the number of abrasive grains constituting each particle lump 2 in the case of being arranged in a dot state as in the present embodiment is at least two, and selecting the lowest number as shown in the following table 4 according to the particle diameter. desirable.

[표 4]TABLE 4

본 실시예의 연마포지는 입자지름 5 내지 400㎛의연마용 입자를 단위 면적당의 입자수가 한층으로 가장 밀도 있는 충전에서의 입자수의 35% 이하에서 기재(1)에 고착했으므로, 연마용 입자의 드는 (칼)날의 조기 마모, 마멸을 동반함이 없어, 재료의 연삭, 연막에 요구되는 연마용 입자 한 입자당의 법선력을 크게 할 수 있으므로 연삭, 연마력이 향상되고, 더구나 발열에 의한 연마포지의 코막힘을 방지할 수 있으므로 워크의 가공 정밀도가 향상되고 나아가서는 열에 의한 워크가 타는 것을 방지할 수 있다.Since the abrasive cloth of the present embodiment fixed abrasive particles having a particle diameter of 5 to 400 µm to the substrate 1 at 35% or less of the number of particles in the most dense filling, the number of particles per unit area was increased. Knife) With no premature wear and wear of the blade, the normal force per grain can be increased, which is required for material grinding and film formation. Since clogging can be prevented, the machining precision of a workpiece | work improves, and also the burn by a heat | fever can be prevented.

또, 워크에 대한 접선 저항이 작아지므로, 연마용 입자의 기재(1)로 부터의 이탈을 방지할 수 있다. 또한, 본 실시예에 있어서, 연마용 입자는 기재(1)에 대하여 도트형상의 입자 덩어리(2)~(2)를 이루어서 고착되어 있으며, 이와 같은 도트형상의 입자덩어리(2)~(2)는, 기재(1)에 접착제를 지그(jig)를 사용하여 대응하는 도트형상으로 도포(塗布)하여, 여기에 연마용 입자를 중력 또는 정전기(靜電氣)를 이용하여 접착시키는 방법, 또는 기재(1)의 전면(全面)에 접착제를 도포하여, 여기에 연마용 입자를 중력 또는 정전기를 이용하여 도트형상으로 접착시키는 방법Moreover, since the tangential resistance with respect to a workpiece | work becomes small, detachment from the base material 1 of abrasive grain can be prevented. In addition, in the present embodiment, the abrasive grains are fixed by forming a dot-shaped agglomerate (2) to (2) with respect to the substrate (1), and such a dot-like particle mass (2) to (2). Is a method of applying an adhesive to the substrate 1 in a corresponding dot shape using a jig, and attaching the abrasive particles to the substrate 1 using gravity or static electricity, or the substrate ( A method of applying an adhesive to the entire surface of 1) and attaching the abrasive particles thereon in the form of dots using gravity or static electricity.

혹은 기재(1)에 접착제와 연마용 입자를 혼합한 것을 도트형상으로 도포하는 등의 방법에 의해서 고착할 수 있다. 이 때문에, 입자덩어리(2)~(2)의 상호간격 및 입자덩어리(2) 자체의 치수를 매우 작은 치수로 정밀도 좋게 설정할 수 있으므로, 단위면적당 입자수의 설정이 용이하게 되고, 또, 입자덩어리(2)~(2)가 기재(1)상에 균일하게 얼룩 없이 분산된 상태를 쉽게 얻을 수가 있으므로, 정밀도가 좋은 연삭, 연마를 실시할 수가 있다.Or it can adhere by the method of apply | coating to the base material 1 which mixed the adhesive agent and abrasive grains in the shape of a dot, etc. For this reason, since the mutual space | interval of the particle masses 2-2 and the dimension of the particle mass 2 itself can be set precisely with a very small dimension, setting of the number of particles per unit area becomes easy, and also the particle mass Since (2)-(2) can easily obtain the state disperse | distributed uniformly on the base material 1 without smudge, grinding and polishing with high precision can be performed.

또한, 실제 작업에 있어서는, 워크의 종류(재질, 경도(硬度), 결정구조, 밀도 등) 및 연삭조건등에 따라서 연마용 입자의 종류가 선택되고, 동시에 상기 입자 지름 및 입자수 가운데 최적의 것이 선택된다.In actual work, the type of abrasive grain is selected according to the kind of material (material, hardness, crystal structure, density, etc.) and grinding conditions, and at the same time, the optimal one is selected from the particle diameter and the number of particles. do.

또, 본 실시예의 연마포지는 시이트 형상, 디스크 형상, 벨트 형상등 여하한 형태의 것이라도 좋다. 다음에, 본 고안의 제2 및 제3 실시예의 연마포지를 제2도 및 제3도를 각각 참조하여 설명한다. 또한, 이들 실시예는 연마용 입자의 배치가 상이한 것을 제외하고, 상기 제1실시예와 동일하며, 연마용 입자의 입자 지름 및 단위 면적당의 입자수는 제1실시예와 동일하게 설정되어 있다.In addition, the abrasive cloth of this embodiment may be of any form, such as a sheet shape, a disk shape, a belt shape, or the like. Next, the abrasive cloth of the second and third embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 3, respectively. In addition, these examples are the same as those of the first embodiment except that the arrangement of the abrasive grains is different, and the particle diameter of the abrasive grains and the number of particles per unit area are set the same as in the first embodiment.

본 고안의 제2 실시예를 나타낸 제2도에 있어서, 연마용 입자는 서로 연속되는 벌집형상을 이룬 선 형상의 입자 덩어리(2A)를 이루어서 기재(1)상에 고착되어 있다.In FIG. 2 showing the second embodiment of the present invention, the abrasive grains are fixed on the base material 1 by forming agglomerate particles 2A in a linear honeycomb form.

제2도는, 입자 지름 260㎛, 입자수 970개/100㎠의 연마용 입자를 벌집형상의 선형상 입자 덩어리를 이루어서 고착된 상태를 배율×4.5로 촬영한 사진을 그림으로 만든 것이며, 이 경우의 입자 덩어리의 선의 폭은 4㎜이다.FIG. 2 is a picture of a photograph taken at a magnification x 4.5 of a state in which a polishing particle having a particle diameter of 260 µm and a particle number of 970 particles / 100 cm 2 is formed in a honeycomb-shaped linear particle agglomeration. The line width of the particle mass is 4 mm.

또, 본 고안의 제3실시예를 나타낸 제3도에 있어서, 연마용 입자는 서로 평행한 복수의 선형상 입자 덩어리(2B)~(2B)를 이루어서 기재(1)상에 고착되어 있다.In addition, in FIG. 3 showing the third embodiment of the present invention, the abrasive grains are fixed on the substrate 1 by forming a plurality of linear particle agglomerates 2B to 2B parallel to each other.

제3도는, 입자 지름 260㎛, 입자수 1090개/100㎠의 연마용 입자를 서로 평행한 복수의 선형상 입자 덩어리를 이루어서 기재에 고착된 상태를 배율×4.5로 촬영한 사진을 그림으로 만든 것이며, 이 경우의 각 입자 덩어리 선의 폭은 4.5㎜이다.FIG. 3 is a photograph of a photograph taken at a magnification x 4.5 of a state in which abrasive particles having a particle diameter of 260 µm and a particle number of 1090 particles / 100 cm 2 are formed in a plurality of linear particle masses parallel to each other and fixed to a substrate. In this case, the width of each particle lump line is 4.5 mm.

또, 이상의 제2및 제3 실시예의 입자 덩어리(2A), (2B)와 같은 선형상의 입자 덩어리에서는, 그 선의 폭은 입자 지름의 2배 이상 60배 이하로 설정된다. 예를들면 일본공업 규격(Japanese Industerial Standards)입도(粒度) 400의 연마용 입자를 사용한 경우, 그 입자 지름은 약 40㎛이므로, 선의 폭은 80㎛~2,400㎛의 범위에 설정된다.In addition, in the linear particle agglomerates such as the particle agglomerates 2A and 2B of the above-described second and third embodiments, the width of the line is set to two times or more and 60 times or less of the particle diameter. For example, in the case of using abrasive particles having a particle size of Japanese Industrial Standards 400, the particle diameter is about 40 µm, so that the line width is set in the range of 80 µm to 2,400 µm.

또한, 입자 덩어리(2A) 및 입자덩어리(2B)~2B)는, 상기 제1실시예의 입자 덩어리(2)와 동일한 방법으로 기재(1)에 고착할 수 있다.In addition, the particle masses 2A and the particle masses 2B to 2B can be fixed to the substrate 1 in the same manner as in the particle mass 2 of the first embodiment.

본 고안의연마포지에서는 연마용 입자의 드는 (칼)날의 조기마모, 마멸을 동반함이 없이, 재료의 연삭, 연마에 요구되는 연마용 입자 한개당의 법선력을 크게 할 수 있으므로 연삭력이 향상되고, 더구나 발열에 의한 코막힘을 방지할 수 있으므로 워크의 가공정밀도가 향상되고, 나아가서는 열에 의한 워크가 타는 것을 방지할 수 있다. 또, 워크에 대한 접선저항이 작아지므로 연마용 입자의 기재로 부터의 이탈을 방지할 수 있다. 더욱이 연마용 입자를 도트형상, 벌집형상 또는 평행한 복수개의 선 형상을 이루는 입자 덩어리로서 배치하는 구성으로 함으로써, 단위면적당의 입자수를 용이하고 또한 정확하게 설정할 수 있으므로, 상기 각 효과를 가지는 연마포지를 용이하고 또한 저렴한 값으로 제조할 수 있으며, 나아가서 연마용 입자를 기재상에 균일하게 얼룩없이 분산시킬 수 있으므로, 정밀도가 양호한 연삭을 실시할 수가 있다.In the abrasive paper of the present invention, the grinding force is improved because the normal force per polishing particle required for grinding and polishing of the material can be increased without accommodating premature wear and abrasion of the (blade) blade of the abrasive grain. In addition, since clogging due to heat generation can be prevented, the processing precision of the work can be improved, and further, the work caused by heat can be prevented from burning. Moreover, since the tangential resistance with respect to a workpiece | work becomes small, detachment | emission from the base material of abrasive grain can be prevented. Furthermore, by arranging the abrasive grains as agglomerates of dots, honeycombs, or parallel lines, the number of particles per unit area can be set easily and accurately. It can be produced easily and inexpensively, and furthermore, since the abrasive grains can be uniformly dispersed on the substrate without spots, grinding can be performed with good precision.

Claims (2)

천(舛), 종이등의 기재(1)상에 접착제로 입자의 직경이 5~400㎛인 연마용 입자를 치밀한 부분과 성긴 부분이 균일하게 나타나도록 고착하여 구성되는 연마포지에 있어서, 그 연마용 입자의 단위 면적당의 입자수가, 상기 기재(1)상에 연마용 입자를 가장 높은 밀도로 충전한 경우의 입자수의 2~35%로 되도록 하고, 상기 치밀한 부분과 성긴 부분이 복수의 도트(dot) 형상을 나타내도록 고착한 것을 특징으로 하는 연마포지In the polishing paper formed by sticking abrasive particles having a diameter of 5 to 400 µm with an adhesive on a substrate 1 such as cloth or paper so that dense portions and coarse portions appear uniformly. The number of particles per unit area of the molten particles is 2 to 35% of the number of particles when the abrasive grains are filled on the substrate 1 at the highest density, and the dense portion and the coarse portion have a plurality of dots ( Abrasive cloth, characterized in that adhered to show the dot) shape 천(舛), 종이등의 기재상(1)에 접착제로 입자의 직경이 5~400㎛인 연마용 입자를 치밀한 부분과 성긴 부분이 균일하게 나타나도록 고착하여 구성되는 연마포지에 있어서, 그 연마용 입자의 단위 면적당의 입자 수가, 상기 기재(1)상에 연마용 입자를 가장 높은 밀도로 충전한 경우의 입자수의 2~35%로 되도록 하고, 상기 치밀한 부분과 성긴 부분이 복수의 벌집 형상을 나타내도록 고착한 것을 특징으로 하는 연마포지.An abrasive paper comprising a polishing particle having a particle diameter of 5 to 400 µm and adhered to a base material such as cloth or paper with an adhesive so that dense and coarse portions appear uniformly. The number of particles per unit area of the molten particles is 2 to 35% of the number of particles when the abrasive grains are filled on the base material 1 at the highest density, and the dense portions and the coarse portions have a plurality of honeycomb shapes. Polishing paper, characterized in that adhered to show.
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