KR960001584B1 - A method for cleansing gases and the apparatus therefor - Google Patents

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KR960001584B1
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Abstract

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Description

[발명의 명칭][Name of invention]

가스 정화방법 및 그 장치Gas purification method and apparatus

[도면의 간단한 설명][Brief Description of Drawings]

제1도는 본 발명의 가스 정화장치의 제1실시형태의 종단면도.1 is a longitudinal sectional view of a first embodiment of a gas purifier of the present invention.

제2도는 제1도의 Ⅱ-Ⅱ선에 연한 평단면도.2 is a plan cross-sectional view taken along line II-II of FIG.

제3도는 제1도에서, 배출구 상방으로 대향으로 설치된 충돌판 또는 충격판과의 상호 작용관계를 나타낸 부분발췌도.FIG. 3 is a partial excerpt of FIG. 1 showing an interaction relationship with a collision plate or an impact plate which are disposed to face upwardly in an outlet.

제4도는 본 발명의 가스 정화장치의 제2실시형태의 종단면도.4 is a longitudinal sectional view of a second embodiment of a gas purifier of the present invention.

제5도는 제4도의 Ⅴ-Ⅴ선에 연한 평단면도.FIG. 5 is a plan cross-sectional view taken along line V-V of FIG. 4. FIG.

제6도는 재순환하는 세정용액으로부터 기포와 입자를 분리시키는 경사진 침강박판이 설치된 격벽의 부분발췌 확대도.FIG. 6 is an enlarged fragmentary view of a partition provided with an inclined sedimentation thin plate separating the bubbles and particles from the cleaning solution to be recycled.

제7도 내지 제9도는 본 발명의 가스 정화장치의 제3실시형태의 상호 상이한 관계를 나타낸 부분발췌도.7 to 9 are partial excerpts showing mutually different relations of the third embodiment of the gas purifying apparatus of the present invention.

제10도는 본 발명의 가스 정화장치에서 사용되는 벤츄리 관의 확대단면도.10 is an enlarged cross-sectional view of the venturi tube used in the gas purifying apparatus of the present invention.

[발명의 상세한 설명]Detailed description of the invention

[발명의 기술분야]Technical Field of the Invention

본 발명은 고형상, 액상 및/또는 기체상의 불순물질을 함유하는 가스를 정화하는 방법 및 이 방법을 수행하기 위한 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method for purifying a gas containing solid, liquid and / or gaseous impurities and an apparatus for carrying out the method.

[발명의 배경기술]Background of the Invention

본 발명은 예컨대, 원자력 발전소, 화학산업 또는 그의 산업에 있어서 유해한 가스상의 오염물질을 방출하는 사고가 발생시에 또는 상기한 산업에서 가동중단으로 역시 가스상의 오염물질을 방출하는 경우에도 작동할 수 있는 비상 대책장치로서 특히 사용할 수 있도록 된 것이다.The present invention is an emergency that can operate even in the event of an accident that releases harmful gaseous pollutants in, for example, a nuclear power plant, chemical industry or its industry, or even in the event of an outage in such an industry. It can be used especially as a countermeasure.

물론, 본 발명은 정상 운전상태, 예컨대 공장을 가동하거나 또는 제조공정중에도 또한 사용할 수 있는 것이다.Of course, the present invention can also be used during normal operating conditions, such as operating a plant or during a manufacturing process.

본 발명은 기능 및 구조의 양면에 있어서 비상시에 안전장치로서 설치할 수 있도록 특수요건에 합치되게 개발된 것이다.The present invention has been developed in accordance with special requirements to be installed as a safety device in an emergency in both sides of the function and structure.

본 발명의 장치는 최소한 10년동안 가동할 수 있는 내구성과 비상시에 효과적으로 즉시 작동시킬 수 있는 것이다. 또한 비상시에 수동작동이나 동력의 공급없이도 자동적으로, 독자적으로 작동되는 비상장치로서의 장점을 가진 것이다.The device of the present invention is durable and capable of operating for at least 10 years and can be operated immediately and effectively in an emergency. In addition, it has the advantage as an emergency device that can be operated independently and automatically without manual operation or power supply in an emergency.

원자력 발전소에 설치되는 비상장치는 가동에 있어서 사고가 발생하여 그 결과로서 방출되는 방사성 입자 및 가스를 추출하기 위하여서는 특수 요건이 필요하게 되며, 이러한 비상장치에 요구되는 조건중에서 다음과 같은 조건을 예시할 수 있다.Emergency units installed in nuclear power plants require special requirements to extract radioactive particles and gases that are released as a result of accidents in operation, and the following conditions can be exemplified. Can be.

-전원 공급이 없어야 할 것.-No power supply.

-운전자의 조정 및 감시가 불필요한 것.-No adjustment or monitoring by the driver.

-동력의 입력이 없이 장기간 운전가능할 것.-Be able to operate for a long time without power input.

-전체 운전기간이 수일간이 될 것.-The whole driving period should be several days.

-가스를 흡수하여 분진입자를 추출할 수 있을 것.Absorb gas and extract dust particles.

-유동량의 변화의 범위가 넓어도 고정도의 효율을 유지할 수 있을 것.-High efficiency should be maintained even if the flow range is wide.

상기와 같은 요건을 안전장치로서 대단히 규모가 큰 석층으로 구성된 여과장치로서 수행할 수 있으며, 이러한 장치에서 분진을 물리적인 현상 즉, 침강작용과 확산작용을 통하여 추출되지만, 이 입자의 크기가 0.5-10㎛ 정도에만 작용하게 되고, 또한 이 여과장치는 규모가 크게되어 그 비용이 높아지게 되는 것에 비하여 미세한 입자, 특히 0.5마이크론 이하의 입자에 대하여서는 그 추출효율이 낮게 되며, 또한 이 여과장치는 가스가 석재에 흡수되어서 가스 분리에 있어서도 효율이 낮아지게 되는 것이다.The above requirement can be fulfilled as a safety device as a filtration device consisting of a very large stone bed, in which dust is extracted through physical phenomena, ie sedimentation and diffusion, but the particle size is 0.5-. It works only at about 10 μm, and the filtration device is large in size and high in cost, and the extraction efficiency is low for fine particles, especially particles smaller than 0.5 microns. Absorbed by the stone, the efficiency is reduced even in gas separation.

본 발명은 상기한 공지의 여과장치와는 명확히 상이한 것으로, 오염가스를 세정용액의 표면이하가 되는 위치로 유입시키는 습식 정화장치를 사용하는 것이다.The present invention is clearly different from the above known filtration apparatus, and uses a wet purifier that introduces a contaminated gas to a position below the surface of the cleaning solution.

상기한 여과장치나 분리장치는 가스 정화장치에 연결된 공간부 또는 챔버에 초과압력이 걸릴시에는 상기 공간부가 주위 대기와는 차단되도록 물로 밀폐시키는 수밀기능을 가진 것이다.The filtration device or separation device has a watertight function of sealing the space portion with water so that the space portion is blocked from the surrounding atmosphere when an excessive pressure is applied to the space portion or chamber connected to the gas purifier.

습식 가스 정화장치에서 효율을 제고시키기 위하여서는 장치내에서 세정용액과 가스와의 혼합을 완벽하게 할 필요가 있으며, 따라서 세정용액은 미세한 액상기포의 형태로서 가스중으로 확산시켜야 하고 그리고/또는 가스는 작은 기포상태로 세정용액을 통과시켜야 하는 것이다.In order to increase the efficiency of the wet gas purification device, it is necessary to perfectly mix the cleaning solution and the gas in the device, so that the cleaning solution must diffuse into the gas in the form of fine liquid bubbles and / or the gas is small. The cleaning solution must be passed through the bubble state.

또한, 습식가스 정화장치의 정화효율은 세정용액의 표면 이하로 유입되는 가스의 유동량에 주로 좌우되는 것이며, 최량의 정화효과는 상대적으로 유동량의 좁은 범위내에서만 얻을 수 있는 것이다.In addition, the purification efficiency of the wet gas purification device mainly depends on the flow rate of the gas flowing below the surface of the cleaning solution, and the best purification effect can be obtained only within a relatively narrow range of the flow rate.

상기한 사실은 비상장치의 요건중에서 감시나 조정할 필요가 없이 가스 유동량의 변화하는 양에 대처할 수 있어야 한다는 요건의 관점에서 심각한 문제점을 야기시키게 되는 것이다.The above facts raise serious problems in terms of the requirement of being able to cope with the changing amount of gas flow without the need for monitoring or adjustment among the requirements of the emergency device.

독일 특허 DE-PS-228,733에 개시된 정화장치는 유입되는 가스 흐름을 몇 개의 분류로 배분시켜서 이를 충돌판 또는 충격판을 향하여 미세하게 분산시키는 것이 있다.The purifier disclosed in German patent DE-PS-228,733 distributes the incoming gas stream into several fractions and finely distributes them towards the impingement or impact plates.

그러나, 이 장치는 가스의 유동량이 적을 경우에는 세정용액을 통과하는 기포가 상대적으로 큰 기포로 되기 때문에 작용이 불량하여 효율이 낮아지는 결함을 가진 것이었다.However, this device had a defect that the efficiency was poor because the bubble passing through the cleaning solution became a relatively large bubble when the gas flow amount was small.

미합중국 특허 US-A-3,216,181(제4도 참조), US-A-3,520,113(제7도 참조) 및 US-A-4,182,617(제2도 참조) 등에 개시된 습식가스 정화장치는 세정용액의 표면 이하로 점차적으로 깊어지도록 배설된 다수의 유입구를 통하여 가스를 유입시켜서 이 유입가스의 유동량의 증가와 유입압에 의하여 유입관의 세정용액의 표면을 하향시켜서 제일 배출구를 개구시키게 되고 이를 통하여 가스는 세정용액으로 유동시키는 것이다.Wet gas purifiers disclosed in US Pat. Nos. US-A-3,216,181 (see FIG. 4), US-A-3,520,113 (see FIG. 7), and US-A-4,182,617 (see FIG. 2) or the like are provided below the surface of the cleaning solution. The gas is introduced through a plurality of inlets arranged to deepen gradually, and the first outlet is opened by lowering the surface of the cleaning solution of the inlet pipe by increasing the flow amount and inlet pressure of the inlet gas. To flow.

가스의 유동량과 유입압이 증가하면 세정용액의 표면이 점차적으로 더욱 하강하여 배출구가 더 많이 개구시키게 되어서 가스는 이를 통하여 분배되어 분류의 형태로 유동하게 된다. 이러한 방식에 있어서는 유입압과 가스 정화장치를 통과하는 모든 흐름에 관계없이 모든 유동이 배출구를 통과하는 것이다.As the flow rate and inflow pressure of the gas increases, the surface of the cleaning solution gradually descends to open more outlets, so that the gas is distributed through it and flows in the form of fractionation. In this way, all flow is through the outlet regardless of the inlet pressure and all flow through the gas purifier.

상기와 같은 공지의 가스 정화장치는 유입관에 있어서 세정용액의 표면이 유입관의 하측으로 하강시키기 때문에 적은 힘으로 또한 압력의 하강이 없이 가스를 세정용액중으로 배출시키는 것이기 때문에 가스는 상대적으로 큰 기포의 형태로 세정용액중으로 배출되고 상승되어, 이 결과로 미세한 입자나 가스상의 오염물질의 분리가 상대적으로 불량하게 되는 결함이 있는 것이다.In the known gas purifying apparatus, since the surface of the cleaning solution in the inlet pipe is lowered to the lower side of the inlet pipe, the gas is relatively large bubbles because the gas is discharged into the cleaning solution with little force and without pressure drop. It is discharged into the cleaning solution in the form of and rises, and as a result, there is a defect that the separation of fine particles or gaseous contaminants becomes relatively poor.

이러한 가스 정화장치는 예컨대, 원자력 발전소의 사고가 발생할시에 오염된 가스로부터 매우 유해한 입자를 분리하는데 사용되는 비상 대책장치로서는 전체적으로 만족스러운 것은 아닌 것이다.Such a gas purification device is not entirely satisfactory as an emergency countermeasure device used to separate very harmful particles from contaminated gas, for example, in the event of an accident of a nuclear power plant.

[발명의 개시][Initiation of invention]

본 발명의 목적은 전술한 선행기술의 결함을 제거하여 오염물질을 입자화시킬 수 있으며 특히 미세입자로 하여 효율적으로 추출시킬 수 있으며, 가스상의 오염물질을 추출시킬 수 있고, 외부 동력원으로부터 동력공급이 없이 가동시킬 수 있는 가스 정화방법을 제공하는데 있는 것이다.An object of the present invention is to remove the above-mentioned defects of the prior art to granulate contaminants, in particular to extract effectively as fine particles, to extract gaseous contaminants, and to supply power from an external power source. It is to provide a gas purification method that can be operated without any.

본 발명의 가스 정화방법은 오염물질의 분리는 가스 유동량과는 본질적으로 관계없이 수행할 수 있는 것이다.In the gas purification method of the present invention, the separation of contaminants can be carried out essentially regardless of the gas flow amount.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명의 가스 정화방법을 구조가 간단하고, 제작비가 저렴하며, 기계적인 부착물의 설치와 운전자의 도움이 없이도 작동할 수 있는 가스 정화장치를 제공하는데 있는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a gas purifying method of the present invention, which is simple in structure, inexpensive to manufacture, and which can be operated without the installation of mechanical attachments and the help of an operator.

또한, 본 장치는 사용후에 오염물질의 제거가 가능하도록 구성된 것이다.The device is also configured to allow for the removal of contaminants after use.

따라서, 본 발명에 관련된 방법은 청구의 범위 제1항에 기술된 특징을 기본으로 구성된 것이며, 본 발명의 장치는 청구의 범위의 장치의 기본항에 기술된 특징을 기본으로 하여서 구성된 것이다.Thus, the method related to the present invention is constructed on the basis of the features described in claim 1, and the apparatus of the present invention is constructed on the basis of the features described in the basic section of the device of the claims.

본 발명에 연관된 방법을 본 발명의 장치를 사용할시에 전체 가스의 유동량에 관계없이 높은 가스 정화효율을 일정하게 달성할 수 있는 것이며, 이는 오염가스가 세정용액의 표면 하방으로 순차적으로 깊게 배설된 유입구로 유입되고, 이 유입구의 상방으로 대응되고 적절한 높이로 배설된 배출구를 통과하기 때문에 오염가스가 배출노즐을 통과시에 유입구와 배출구 사이의 높이차이에 상응하는 압력하강이 필연적으로 생기게 된다. 이러한 방식에 있어서는 가스가 배출구의 끝단부를 통과시에 소정의 압력하강이 발생되어 정화를 효과적으로 수행하게 되는 것이다.When using the apparatus of the present invention, the method according to the present invention can achieve a constant high gas purification efficiency irrespective of the total flow rate of the gas, which is an inlet in which contaminated gas is sequentially deeply disposed below the surface of the cleaning solution. As it passes through the outlet and corresponds to the upper side of the inlet and is disposed at an appropriate height, a pressure drop inevitably occurs corresponding to the height difference between the inlet and the outlet when the polluted gas passes through the discharge nozzle. In this manner, a predetermined pressure drop is generated when gas passes through the end of the outlet to effectively perform the purification.

분배장치는 유입구가 높은 것부터 낮은 것까지 순차적으로 세정용액에 전부 잠겨있고 또한 유입구가 개방되어 있기 때문에 분배장치에서 가스의 유입압이 감소되면(=비상상태 종식) 세정용액이 유입되어 분배장치 내부를 세정용액이 채우게 되어서 세정용액은 개방된 유입구를 일부 또는 전부를 밀폐시키게 되는 것이다.Since the dispensing device is completely immersed in the cleaning solution from the high inlet to the low one, and the inlet is open, when the inlet pressure of the gas is reduced in the dispensing device (= end of emergency), the cleaning solution flows in. The cleaning solution is filled so that the cleaning solution seals some or all of the open inlets.

본 발명의 최량의 실시형태에서는 배출노즐을 벤츄리 노즐의 형태로 되고 이 일 벽면에 다수의 흡입구를 천설하여 이를 세정용액이 포위하도록 구성되었다.In the best embodiment of the present invention, the discharge nozzle is in the form of a venturi nozzle, and a plurality of suction ports are laid on one wall to surround the cleaning solution.

이것은 세정용액의 유입관을 분할할 필요성을 제거하여 벤츄리 노즐로의 세정용액의 공급을 일정하게 유지시킬 수가 있는 것이다.This eliminates the necessity of dividing the inlet pipe of the cleaning solution and keeps the supply of the cleaning solution to the venturi nozzle constant.

본 발명에 의하여 유입가스의 유입량의 변화 범위가 넓어도 흡입에 의하여 세정용액을 기포화시켜서 입자를 높은 효율로서 분리가 가능하게 되는 것이다.According to the present invention, even if the variation range of the inflow amount of the inflow gas is wide, the cleaning solution is bubbled by suction, so that the particles can be separated with high efficiency.

가스상의 오염물질은 세정용액중에서 용해되어 분리가 되고 그리고/또는 세정용액에 함유된 물질성분과 반응에 의하여 오염물질을 세정용액중에서 용해되는 것이다.The gaseous contaminants are dissolved and separated in the cleaning solution and / or are dissolved in the cleaning solution by reaction with a substance component contained in the cleaning solution.

본 발명에 의하여 가스중의 함유된 함유물 또는 함유성분이 정화장치의 가동중에 분리되고 가스 압력으로 가스 정화장치를 통하여 가스만을 효과적으로 추출시키기 때문에 본 장치는 외부의 동력원이 없이 완전 독자적으로 가동이 되는 것이다.According to the present invention, since the contained substances or components in the gas are separated during the operation of the purifier and the gas is effectively extracted through the gas purifier at the gas pressure, the apparatus is operated completely independently without an external power source. will be.

본 발명의 정화장치는 또한 장치산업에 있어서 분리장치로서도 사용이 가능한 것이다.The purifier of the present invention can also be used as a separator in the apparatus industry.

일반 산업용의 정화장치로 사용시에 오염가스이 유입압이 너무 낮을시에는 배출 송풍기 또는 이와 상응되는 장치와 결합하여 사용할 수 있는 것이며, 또한 가스의 유입압이 너무 낮지 않을시에도 상기와 같은 장치를 결합하여 분리용으로서 본 발명의 장치를 사용할 수 있는 것이다.When the inlet pressure of the polluted gas is too low when used as a general industrial purification device, it can be used in combination with the exhaust blower or a corresponding device. Also, when the inlet pressure of the gas is not too low, such a device can be combined. The device of the present invention can be used for separation purposes.

또한, 가스 정화장치의 용기는 이의 외벽이 발생되는 압력에 견딜 수 있도록 압력용기로 제작하는 것이 편리한 것이다.In addition, the vessel of the gas purifier is convenient to manufacture a pressure vessel so that its outer wall can withstand the pressure generated.

본 발명의 장치의 안내 격벽은 세정용액의 표면의 근처에서 오염가스의 배출구 하측위치로 순환용 찬넬을 형성하는 것도 바람직스러운 것이다.It is also preferable that the guide partition of the apparatus of the present invention forms a circulation channel below the outlet of the polluting gas near the surface of the cleaning solution.

또한 상승되는 기포는 공기부상으로 상승되는 것이어서 이것이 세정용액을 순환시키게 된다.In addition, the rising bubbles are those which rise to the air levitation circulates the cleaning solution.

이러한 순환은 세정용액에 있어서 세정첨가물의 국부적인 소모 또는 부족을 초래하지만, 본 분리장치의 하부에는 세정용액이 비활성부분으로 되고 이것이 순환에 의하여 상승되어서 상기 세정 첨가물의 소모분을 보충함과 동시에 냉각효과도 초래하게 되는 것이다.This circulation causes local consumption or shortage of the cleaning additives in the cleaning solution, but at the bottom of the separator, the cleaning solution becomes an inactive part, which is raised by the circulation to replenish the consumption of the cleaning additive and simultaneously cool down. It will also effect.

본 발명은 첨부도면을 참조하여 제한적이 아니고 예시적인 실시형태에서 상세히 설명한다.The invention is described in detail in the illustrative embodiments and not by way of example with reference to the accompanying drawings.

[본 발명의 최선의 실시형태]BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

제1도 내지 제3도에서 본 발명의 가스 정화장치를 모식적으로 나타낸 것이다.1 to 3 schematically show the gas purifying apparatus of the present invention.

본 장치의 압력용기(1)는 외벽(10), 저면(11)과 카버 또는 덮개(13) 및 또한, 인입관(12), 분배장치(14) 및 출구(16)로 구성된 것이다.The pressure vessel 1 of this apparatus consists of an outer wall 10, a bottom face 11 and a cover or cover 13, and also an inlet pipe 12, a distribution device 14 and an outlet 16.

분배장치(14)는 방사상으로 하향으로 경사져서 연장된 다수의 분배관(18)으로 되고 도면에 도시된 실시형태에서의 6개로 구성된 것이다.The dispensing device 14 is composed of a plurality of dispensing tubes 18 extending radially downwardly inclined and consisting of six in the embodiment shown in the drawings.

이 분배관(18)은 외측으로 하향 수직으로 연장되고 그 끝단부에 하향으로 개방된 개구(22)를 가진다. 또한, 각 분배관(18)의 경사져서 연장되는 부위 상면에 상부관(24)을 다수개 배설하고 이에 측방으로 연장되는 측방 분배관(26)을 각각 관접시킨다.The distribution pipe 18 has an opening 22 extending downwardly and vertically outward and opening downwardly at its end. In addition, a plurality of upper pipes 24 are disposed on the inclinedly extending portion of each distribution pipe 18, and the side distribution pipes 26 extending laterally are welded to each other.

제3도에 나타낸 바와 같이, 측방 분배관(26) 상부에 배출구(31)가 형성되고 오염가스를 배출시키는 벤츄리 관(28)이 다수 관접되어 있다.As shown in FIG. 3, the venturi 31 is formed in the upper part of the side distribution pipe 26, and many venturi tubes 28 which discharge | release a polluted gas are connected.

이 벤츄리 관(28)은 제2도에서 단지 2개 그룹만 도시되어 있으며, 벤츄리 노즐의 형태로 편리하게 구성된 것이며, 이 벤츄리 관(28)에서 흡입구(29)를 다수 형성하여 이를 세척용액 또는 세정용액(32)으로 포위하도록 한다.The venturi tube 28 is shown only two groups in FIG. 2, which is conveniently configured in the form of a venturi nozzle, and forms a large number of inlets 29 in the venturi tube 28, so that the cleaning solution or washing is performed. Surround with solution 32.

이 벤츄리 관(28)의 상방으로 각각 확산장치를 배설하며, 이는 충격판 또는 충돌판의 형태로 되고 지지체(도시안됨)에 의하여 지지된 앵글강재(30)로 된 것이다.The diffusion device is disposed above the venturi tube 28, respectively, which is made of an angle steel 30 in the form of an impact plate or a collision plate and supported by a support (not shown).

분배장치(14)는 세정용액의 표면(34)에서 소정깊이로 세정용액(32)중에 위치되며, 본 장치의 일 실시형태에서는 벤츄리 관(28)은 벤츄리 노즐의 형태를 가진 것이다.The dispensing device 14 is located in the cleaning solution 32 at a predetermined depth on the surface 34 of the cleaning solution, and in one embodiment of the apparatus, the venturi tube 28 is in the form of a venturi nozzle.

벤츄리 관(28)의 배출구(31)의 대부분은 동일한 높이로 배설되고 세정용액의 표면(34)으로부터 깊이가 적어도 0.5m정도이고, 바람직하게는 2m정도이다.Most of the outlet port 31 of the venturi tube 28 is excreted at the same height and has a depth of at least about 0.5 m from the surface 34 of the cleaning solution, preferably about 2 m.

각 벤츄리 관(28)으로 오염가스를 유입시키는 유입구(64)는 배출구(31)의 하방으로 대략 1m 또는 그 이상으로 순차적으로 낮게 배설된다.The inlet 64 for introducing the pollutant gas into each venturi tube 28 is sequentially disposed below the outlet 31 in a low order of about 1 m or more.

이러한 높이차이로 인하여 상기 벤츄리 관(28)의 하향으로 위치된 유입구(64)로 오염가스가 유입되기만 하면 각 벤츄리 관(28)에서 만족스러운 정화효과를 일정하게 얻을 수 있는 것이다.Due to the height difference, a satisfactory purifying effect can be obtained at each venturi tube 28 as long as the pollutant gas flows into the inlet 64 positioned downward of the venturi tube 28.

오염물질은 상기 벤츄리 관(28)을 통과하는 동안에 흡입구(29)를 통하여 흡입된 세정용액의 도움으로 분리되어 가스에 의하여 기포상태로 분류된다.The contaminants are separated with the help of the cleaning solution sucked through the inlet port 29 while passing through the venturi tube 28 and classified into a bubble state by gas.

이 오염물질이 부착된 세정용액 기포는 순차적으로 일부는 액상막의 형태로 배출관(49)의 내벽에 부착되어 가스로부터 분리되고 일부는 배출구(31)와 세정용액 표면(34) 사이를 통과시에 가스로부터 분리된다.The cleaning solution bubble with this contaminant is sequentially attached to the inner wall of the discharge pipe 49 in the form of a liquid film and separated from the gas, and part of the cleaning solution gas passes through the discharge port 31 and the cleaning solution surface 34. Separated from.

세정용액 통과하는 동안에 기포분리에 있어서 만족스럽게 분리시키기 위하여 최소한의 소정 높이차가 필요한 것이다.A minimum predetermined height difference is required to satisfactorily separate the bubbles during the passage of the cleaning solution.

본 발명은 배출노즐로서 벤츄리 노즐의 형태에 국한된 것이 아니며, 가스가 세정용액을 미세한 기포상태로 무화되어 통과하도록 충돌판 또는 충격판을 향하여 배설된 가스는 배출관을 사용하는 것도 포함된 것이다.The present invention is not limited to the shape of the venturi nozzle as the discharge nozzle, and the gas discharged toward the impingement plate or the impact plate so that the gas passes through the cleaning solution in a fine bubble state is included in the use of the discharge pipe.

배출구(31) 상면에서의 세정용액의 높이는 기포가 세정용액과 접촉할 수 있는 시간을 충분히 줄 수 있는 높이로 하여야 하며, 이것은 특히 또 다른 실시형태에서 적용하게 되는 것이다.The height of the cleaning solution on the upper surface of the outlet 31 should be such that the bubble can sufficiently give time for contact with the cleaning solution, which is particularly applicable in another embodiment.

근본적으로 수평인 중간판(36)을 세정용액의 표면(34)과 출구(16) 사이에 설치하고, 이 중간판(36)에 다수의 관통공(38)을 천설하여 이에 미세 액상기포와 입자를 분리시키기 위하여 분리장치(40)를 설치하고 이 분리장치(40)는 도면에서 간단하게 모식적으로 도시되어 있다.An essentially horizontal intermediate plate 36 is provided between the surface 34 and the outlet 16 of the cleaning solution, and a plurality of through holes 38 are laid in the intermediate plate 36 to form fine liquid bubbles and particles. In order to separate the separation device 40 is installed, this separation device 40 is schematically illustrated in the drawings.

이 분리장치(40)는 원칙적으로 필요한 종류중에서 선택하여 사용하며 싸이크론 장치가 특히 바람직스러운 것이다.In principle, the separator 40 is selected and used from a necessary type, and a cyclone apparatus is particularly preferable.

제4도에 나타낸 바와 같이, 분리된 세정용액은 수직관(42)을 통하여 세정용액 표면(34)하방으로 낙하된다. 이 수직관(42)에는 가스기포가 직접 하강하여 세정용액으로 유입되는 것을 방지하기 위하여 예컨대, 후드(도시안됨)와 같은 장치에 의하여 차단되면서 세정용액으로 인입하도록 된 것이다.As shown in FIG. 4, the separated cleaning solution falls down the cleaning solution surface 34 through the vertical pipe 42. As shown in FIG. In order to prevent the gas bubble from directly falling into the cleaning solution, the vertical pipe 42 is blocked by a device such as a hood (not shown), for example, and introduced into the cleaning solution.

또한, 입자와 세정용액 기포를 분리시키는 분리장치는 중간판(36)상방과 출구(16)의 선단부 사이의 공간부(44)에 통상의 방법으로 배설한다.In addition, a separator for separating the particles and the cleaning solution bubbles is disposed in the usual way in the space 44 between the intermediate plate 36 and the tip of the outlet 16.

출구(16)는 순차적으로 다른 정화장치와 연결시키거나 또는 직접 굴뚝을 통하여 배출시킬 수도 있으며, 또 다른 배출장치에 연결시킬 수도 있는 것이다.The outlet 16 may be sequentially connected to another purifier or discharged directly through a chimney, or to another discharger.

상기 가스 정화장치는 다음의 방식으로 운전된다.The gas purifier is operated in the following manner.

우선, 무부하 상태하에서는, 세정용액은 벤츄리 관(28)의 흡입구(29), 유입구(31)와 하측의 개구(32)를 통하여 유입되어서 분리장치(14)와 인입관(12)의 내부 세정용액의 표면(46)은 세정용액의 외부 표면(34)과 그 높이가 동일하게 된다. 이때에 본 장치는 액상밀봉기능을 가진 것이다.First, under no load conditions, the cleaning solution flows in through the inlet port 29, the inlet port 31 and the lower opening 32 of the venturi tube 28, and the internal cleaning solution of the separator 14 and the inlet pipe 12. Surface 46 has the same height as the outer surface 34 of the cleaning solution. At this time, the device has a liquid sealing function.

다음에 파손이나 사고가 발생하여 가스가 방출되면, 본 장치내로 가스가 유입되어 그 압력이 증가함에 따라서 내부 세정용액의 표면(46)은 밑으로 내려가게 되어서 각 벤츄리 관(28)의 제일높은 유입구(64)의 경계부(65)의 직하부까지 내려가게 되어 유입구(64)는 개방되어 가스는 벤츄리 관(28)을 통과하게 되며, 이때에 가스가 흡입구(29)를 통과하는 동안에 가스흐름은 미세한 세정용액의 기포로 분무화상태로 되어 상승한다. 오염가스에 함유된 고형상과 액상의 오염물질은 벤츄리 관(28)으로 흡입된 액상 기포에 의하여 흡수되고 이것이 배출되어 충격판 또는 충돌판(30)에 충돌되어 기포는 더욱 미세한 기포로 분쇄되어 세정용액(32)을 통하여 상승된다. 이때에 오염물질이 부착된 세정용액 기포, 분진입자 및 가스상의 오염물질은 기포 부상효과에 의하여 세정용액에 의하여 더욱 정화된다.The next time breakage or accident occurs and the gas is released, the gas 46 flows into the apparatus and the pressure 46 increases, so that the surface 46 of the internal cleaning solution is lowered to the highest inlet of each venturi tube 28. Down the boundary 65 of 64, the inlet 64 is opened so that the gas passes through the venturi tube 28, at which time the gas flow is minute while the gas passes through the inlet 29. The bubbles of the washing solution rise to a nebulized state and rise. Solid and liquid contaminants contained in the contaminated gas are absorbed by the liquid bubbles sucked into the venturi tube 28 and are discharged to impinge on the impact plate or impingement plate 30 so that the bubbles are crushed into finer bubbles and washed. Is raised through the solution (32). At this time, the cleaning solution bubbles, dust particles and gaseous contaminants attached to the contaminants are further purified by the cleaning solution due to the bubble floating effect.

또한, 기포의 일부는 벤츄리 관(28)의 배출관(49) 내부에서 분리되어 이 배출관(49)의 내벽에 액상만으로 부착된다.In addition, a part of the bubbles are separated from the inside of the discharge pipe 49 of the venturi tube 28 and attached only to the inner wall of the discharge pipe 49 with a liquid phase.

따라서, 오염물질의 분리 또는 추출은 2단계에서 일어나게 되는 것이다.Thus, the separation or extraction of contaminants occurs in two steps.

즉, 1단계의 분진추출과 가스와 이온의 흡수가 벤츄리 관에서 일어나고 그리고/또는 벤츄리 관(28)에 상방에 설치된 충격판 또는 충돌판(30)에서 관성력에 의한 충격효과에 의하여 일어나게 된다.That is, dust extraction in one step and absorption of gas and ions occur in the venturi tube and / or are caused by the impact effect by inertial force on the impact plate or impingement plate 30 installed above the venturi tube 28.

2단계의 가스의 분진추출과 흡수는 세정용액의 표면(34)을 향하여 기포가 세정용액을 통과하는 동안에 세정 부상효과 즉, 흡수, 침강 그리고/또는 확산을 통하여 정화작용을 행하게 된다.The dust extraction and absorption of the gas in the second stage is purged through the cleaning flotation effect, that is, absorption, sedimentation and / or diffusion while the bubbles pass through the cleaning solution toward the surface 34 of the cleaning solution.

가스상의 오염물질의 분리는 화학반응이 급속하게 이루어지는 것, 즉 세정용액에 용해되는 이온(소위 화학 활성제)과 반응을 일으키는 세정액물질을 첨가하는 것에 의하여 크게 향상시킬 수가 있는 것이다.Separation of contaminants in gaseous phase can be greatly improved by rapid chemical reaction, that is, by adding a cleaning liquid material that reacts with ions (so-called chemical activators) dissolved in the cleaning solution.

예컨대, 산성 가스상의 오염물질을 분리시키는데에는 세정용액에 가용성 알칼리성 성분을 첨가하는 것에 의하여 증진시킬 수 있으며, 가스상의 옥소의 흡수는 세정용액에 티오황산나트륨을 혼입시키는 것에 의하여 증진시킬 수가 있는 것이다.For example, the separation of acidic gaseous contaminants can be enhanced by adding a soluble alkaline component to the cleaning solution, and the absorption of gaseous oxo can be enhanced by incorporating sodium thiosulfate into the cleaning solution.

전술한 바와 같이, 제1도 내지 제3도에서 본 실시형태에서는 일군의 벤츄리 관(28)이 하나의 동일한 상부관(24)에 동일한 높이로 배설되어서 본질적으로 이 일군의 벤츄리 관(28)을 동시에 작동시킬 수 있는 것이다.As described above, in this embodiment in FIGS. 1 to 3, a group of venturi tubes 28 are disposed at the same height in one and the same upper tube 24 to essentially remove this group of venturi tubes 28. It can work at the same time.

또한, 상기 상부관(24)이 일차 분배관(18)의 상면으로 상호 상이한 높이로 배설되어서 일군의 상부관(24)을 하나의 동일한 환상의 분배관에 배설하여 동시에 작동시키지 않아도 되는 것이다.In addition, the upper tube 24 is disposed on the upper surface of the primary distribution pipe 18 to be different from each other, so that the group of the upper pipe 24 in one same annular distribution pipe does not have to operate at the same time.

제7도 내지 제9도는 분배장치(14)의 다른 실시형태의 다양한 형태를 나타낸 것으로, 각 유입구(64)는 하나의 배출구(31)와 연결된 것이다.7 to 9 show various forms of different embodiments of the dispensing device 14, each inlet 64 being connected to one outlet 31.

제7도는 일차 분배관(18)을 갖는 분배장치의 일부분을 나타낸 것이다.7 shows a portion of a dispensing device having a primary dispensing pipe 18.

이 분배관(18)의 저면에는 수직하향으로 연장된 연결관(23)이 다수 관접되어 있으며, 이 각각의 연결관(23)에는 양측으로 2개씩 하향으로 경사져서 대략 횡측 방향으로 연장되는 측방 분배관(26)이 연결되어 있고 이 측방 분배관(26)이 2차 분배관의 역할을 수행하는 것이다.A plurality of connecting pipes 23 extending vertically downward are in contact with the bottom of the distribution pipe 18, and each of the connecting pipes 23 is inclined downwardly on both sides to extend in a lateral direction. Piping 26 is connected and this side distribution pipe 26 serves as a secondary distribution pipe.

이 측방 분배관(26)의 각 끝단부는 수직하향으로 연장하여 단과(20)로 하고 이 단관(20)의 끝단부를 개방하여 개구(22)를 갖도록 하여서 전술한 실시형태와 동일하게 응축수가 생길시 이 개구(22)를 통하여 배출시키고, 가스의 유동량이 감소할시에는 이 개구(22)를 통하여 분배장치(14)로 세정용액이 인입되도록 한 것이다.When each end of the lateral distribution pipe 26 extends vertically downward to the end 20, and the end of the short pipe 20 is opened to have an opening 22, condensate is generated in the same manner as in the above-described embodiment. The liquid is discharged through the opening 22, and when the flow amount of the gas decreases, the cleaning solution is introduced into the distribution device 14 through the opening 22.

이 측방 분배관(26)의 상면으로 거의 균일한 간격으로 다수의 벤츄리 관(28)을 상향 수직으로 관접시키되, 벤츄리 관(28)의 유입구(64)가 상기 측방 분배관(26)에 연접되게 배설한다.A plurality of venturi tubes 28 are vertically welded upwardly and vertically at substantially uniform intervals to the upper surface of the lateral distribution pipes 26, so that the inlets 64 of the venturi tubes 28 are connected to the lateral distribution pipes 26. Excrete.

상기 벤츄리 관(28)의 하단부위에 흡입구(29)를 다수 천설하여 세정용액을 흡입토록하고, 상단부에는 처리된 가스를 배출시키는 배출구(31)가 다수 형성되어 있다.A plurality of suction ports 29 are installed at the lower end of the venturi tube 28 to suck the cleaning solution, and a plurality of discharge ports 31 are formed at the upper end to discharge the treated gas.

그리고, 방출된 가스가 본 장치로 유입되는 운전 초기단계에 충격을 받지 않고 원활한 작동이 시작되도록 각 구역마다 2개의 짧은 측방 분배관(26')을 다른 측방 분배관(26)보다 높게 위치시켜서 다른 벤츄리 관(28)보다 높은 위치에 처리된 가스를 배출시키게 되는 것이다. 그러나, 상기 측방 분배관(26')의 양 끝단부에서 수직하향으로 연장된 단관(20')의 깊이는 다른 단관(20)의 깊이와 동일하게 한다.In addition, two short lateral distribution pipes 26 'are positioned higher than other lateral distribution pipes 26 in each zone so that the smooth operation starts without being impacted at the initial stage of operation in which the released gas is introduced into the apparatus. The treated gas is discharged at a position higher than the venturi tube 28. However, the depth of the short pipe 20 'extending vertically downward at both ends of the lateral distribution pipe 26' is equal to the depth of the other short pipe 20.

분배장치(14)는 측방 분배관(26)이 순차적으로 깊어지도록 배설되어 이에따라 벤츄리 관(28)의 유입구(64)도 점차적으로 깊어지도록 배설되어 가스의 유동량의 증가와 가스의 인입압의 증가로 가속력으로 벤츄리 관의 작동되는 수가 연속적으로 증가되도록 구성된 것이다.The distribution device 14 is arranged so that the lateral distribution pipe 26 is sequentially deepened, and accordingly, the inlet 64 of the venturi pipe 28 is also gradually deepened to increase the flow rate of the gas and increase the inlet pressure of the gas. The acceleration force is configured to continuously increase the number of actuations of the venturi tube.

제8도는 제7도의 실시형태와 약간 상이한 실시형태로서 이차 분배관이 측방 분배관(26)이 직접 일차 분배관(18)에 관접되어 수직 연결관(23)이 불필요하게 되는 실시형태를 나타낸 것이다.FIG. 8 shows an embodiment which is slightly different from the embodiment of FIG. 7 in which the secondary distribution pipe is directly contacted with the primary distribution pipe 18 by the side distribution pipe 26 and the vertical connection pipe 23 is unnecessary. .

제9도는 벤츄리 관(28)이 수직 상부 연결관(55)에 관접되어 유입구(64)가 측방 분배관(26)의 상방으로 개구된 상태의 발췌 확대도로서, 내부 세정용액 표면(46)이 다음의 표면(46')으로 이동될시에는 다음의 위치된 벤츄리 관(28)이 작동되는 것이다.9 is an enlarged view of the venturi tube 28 in contact with the vertical upper connection tube 55 and the inlet 64 is opened above the lateral distribution tube 26. When moved to the next surface 46 ', the next positioned venturi tube 28 is actuated.

본 발명의 정화장치에서 사용되는 벤츄리 관의 실시형태가 제10도에 도시되어 있다.An embodiment of a venturi tube for use in the purification apparatus of the present invention is shown in FIG.

이 벤츄리 관(28)은 입구(41), 좁아지는 축소부(43), 원통형의 스로트(45), 원추형의 확대부(47) 및 커버(51)로 구성된다.The venturi tube 28 is composed of an inlet 41, a narrowing portion 43 narrowing, a cylindrical throat 45, a conical enlargement portion 47 and a cover 51.

상기 커버(51) 직하방에는 측방으로 배출구(31)가 수개 형성되고, 이 벤츄리 관(28)의 하단부 외면에는 나사부(53)를 형성하여 이를 각 측방 분배관(26)에 관접된 상부 연결관(55)에 나사결합으로 벤츄리 관(28)을 결합시키게 된다.A plurality of outlets 31 are formed in the side immediately below the cover 51, and the upper portion of the lower end of the venturi tube 28 is formed with a threaded portion 53, which is connected to each side distribution pipe 26. The venturi tube 28 is coupled to the 55 by screwing.

상기 축소부(43)와 스로트(45) 사이에 환상 요홈(57)을 형성하고 스로트(45)의 선단부측으로 예리한 상부 끝단부(59)를 형성하고 상기 환상 요홈(57)과 연통되는 흡입구(29)를 수개 형성하여 이를 통하여 세정용액이 환상 요홈(57)의 원주방향으로 균등하게 유입되도록 한다.An inlet port forming an annular groove 57 between the reduction portion 43 and the throat 45 and forming a sharp upper end portion 59 toward the tip side of the throat 45 and communicating with the annular groove 57. Several 29 are formed so that the cleaning solution flows evenly in the circumferential direction of the annular groove 57.

환상 요홈(57)은 축방향으로 폭이 2-4mm정도이고, 상기 축소부(43)측으로 접한 선단부에 예리한 하부 끝단부(63)를 형성하고 이 하부 끝단부(63)의 선단끝의 반경이 상기 상부 끝단부(59)의 선단끝의 반경보다는 큰 0.5-1mm정도이고, 축소부(43)의 벽면이 하부 끝단부(63)에 접선방향으로 연접되고 이 끝단부(63)에서 환상 요홈(57)으로 연결된다.The annular groove 57 has a width of about 2-4 mm in the axial direction, and forms a sharp lower end portion 63 at the front end facing the reduction portion 43 side, and the radius of the tip end of the lower end portion 63 is It is about 0.5-1mm larger than the radius of the tip end of the upper end part 59, and the wall surface of the reducing part 43 is tangentially connected to the lower end part 63, and an annular groove (at this end part 63) is formed. 57).

가스가 벤츄리 관(28)을 통과시에 세정용액이 환상 요홈(57)으로 흡입되어 상부 끝단부(57)의 부근에서 미세한 세정용액의 기포의 형태로 무화되어진다.As the gas passes through the venturi tube 28, the cleaning solution is sucked into the annular recess 57 and atomized in the form of bubbles of fine cleaning solution near the upper end portion 57.

가스에 함유된 오염물질은 스로트(45), 원추형의 확대부(47) 및 배출관(49)을 통과하는 동안에 세정용액 기포에 흡착되어진다. 따라서, 이 벤츄리 관(28)은 스스로 흡입하는 벤츄리형의 분리기의 역할을 수행하게 되는 것이다.Contaminants contained in the gas are adsorbed to the cleaning solution bubbles while passing through the throat 45, the conical enlargement 47 and the discharge pipe 49. Therefore, the venturi tube 28 serves as a venturi type separator that sucks itself.

본 발명에 의하여, 상기 흡입구(29)를 통하여 벤츄리 관(28)으로 흡입되는 세정용액 예컨대, 물의 양은 피처리 가스의 단위 입방 메터당 적어도 0.5kg, 바람직하게는 2-3kg정도이다.According to the present invention, the amount of cleaning solution, for example, water, sucked into the venturi tube 28 through the suction port 29 is at least 0.5 kg, preferably 2-3 kg, per unit cubic meter of the gas to be treated.

따라서, 상기 흡입구(29)와 상기 환상 요홈(57)의 크기는 소정의 압력하강으로 소정의 세정용액의 양이 흡입될 수 있도록 정하여야 한다. 또한, 압력하강은 유입구(64)와 배출구(31)와의 높이 차이에 의하여 정해지고, 대부분의 경우에 있어서 오염가스를 만족스럽게 정화시키는데에 압력하강이 1m 수주 또는 그 이상이어야 하며, 예컨대 99%의 정화효율을 얻으려면 벤츄리 관에서 1m 수주에 상응하는 104Pa의 압력하강이 있어야 한다.Therefore, the size of the suction port 29 and the annular groove 57 should be determined so that the predetermined amount of cleaning solution can be sucked by a predetermined pressure drop. In addition, the pressure drop is determined by the height difference between the inlet 64 and the outlet 31, and in most cases, the pressure drop should be 1 m or more in order to satisfactorily purify the polluted gas, such as 99%. In order to achieve the purification efficiency, there must be a pressure drop of 104 Pa corresponding to 1 m order in the Venturi tube.

전술한 본 실시형태에서의 벤츄리 관의 스로트의 직경은 10mm 정도, 배출관(49)의 직경은 26mm이며, 고정도의 정화를 얻기 위하여서는 스로트의 직경이 약 30mm를 넘어서는 안되는 것이다.The diameter of the throat of the venturi tube in the present embodiment described above is about 10 mm, the diameter of the discharge tube 49 is 26 mm, and the diameter of the throat should not exceed about 30 mm in order to obtain high-precision purification.

제4도 및 제5도에 도시된 실시형태는 다른 분배장치(14')를 나타내고 있으며, 이 분배장치(14')는 중심부에 원통형 분배실(52)을 설치하고, 이 분배실(52)의 원주 벽면에 상호 높이가 차이나게 경사져서 상향으로 연장되는 일차 분배관(54)을 설치하고, 이 분배관(54)을 방사상으로 내향되게 설치된 분배체(56)에 연결시키고, 이 분배체(56)의 양측으로 수평상으로 연장되는 이차 분배관(58)을 순차적으로 연결설치한다.4 and 5 show another dispensing device 14 ', which is provided with a cylindrical dispensing chamber 52 in the center, and the dispensing chamber 52. A primary distribution pipe 54 is installed on the circumferential wall of the mutually inclined height so as to extend upward, and the distribution pipe 54 is connected to a distribution body 56 radially inwardly installed. The secondary distribution pipe 58 extending horizontally to both sides of the 56) is installed in sequence.

이 이차 분배관(58)상면으로 전술한 벤츄리 관(28)을 상향 설치하고 이 벤츄리 관(28)의 상방에 제1도 내지 제3도에서 나타낸 충격판 또는 충돌판(30)을 설치한다.The above-mentioned venturi tube 28 is installed upward on the secondary distribution pipe 58, and the impact plate or crash plate 30 shown in Figs. 1 to 3 is provided above the venturi tube 28.

본 실시형태에서는 벤츄리 관(28)의 길이는 짧아지게 된다. 왜냐하면, 유입구(64)가 분배실(52)내에 위치되어서 낮아졌기 때문이며, 그러나 효과적인 정화효과를 얻기 위하여서 벤츄리 관은 최소한의 길이가 필요하게 된다.In this embodiment, the length of the venturi tube 28 becomes short. This is because the inlet 64 is lowered by being located in the distribution chamber 52, but the venturi tube needs a minimum length in order to obtain an effective purification effect.

제4도 및 제5도에 나타낸 가스 정화장치는 방사상으로 연장 설치되는 격벽(60)에 의하여 몇 개의 구역으로 구획되고, 이 격벽(60)의 상단부는 중간판(36)과 접하게되고, 하단부는 벤츄리 관(28)의 위치 이하로 연장 설치되고, 또한, 이 격벽(60)은 내향으로는 가스 인입관(12)부위까지 연장되며, 외향으로는 본 장치의 외벽(10)부위까지 연장 설치한다.The gas purification apparatus shown in FIG. 4 and FIG. 5 is divided into several zones by the partition 60 extended radially, The upper part of this partition 60 contacts the intermediate plate 36, The lower part is It extends below the position of the venturi tube 28, and the partition wall 60 extends inwardly to the gas inlet pipe 12, and outwardly extends to the outer wall 10 of the apparatus. .

또한, 외벽(10)에 근접되게 원주방향에 연하여 안내판(48)을 설치하고, 이 안내판(48)의 상단부는 세정용액의 비작동시의 표면(34)상부까지 연장하며, 하단부는 본 장치의 저면(11)의 근접되게 설치한다. 또한 격벽(60)은 슬롯트형의 공간부(50)내부까지 연장하여 상기 안내판(48)을 견고하게 고정시킬 수 있도록 한다. 그러나, 이러한 구성은 정화장치의 기능을 위하여 반드시 필요한 것은 아니며, 또한 상기 안내판(48)을 외벽(10)에 고정된 다수의 지지편에 고정시켜도 되는 것이다.In addition, a guide plate 48 is provided adjacent to the outer wall 10 in the circumferential direction, and an upper end portion of the guide plate 48 extends above the surface 34 at the time of non-operation of the cleaning solution, and the lower end portion is provided with the apparatus. Of the bottom face 11 is installed close. In addition, the partition wall 60 extends to the inside of the slot-shaped space 50 to securely fix the guide plate 48. However, such a configuration is not necessary for the function of the purification device, and the guide plate 48 may be fixed to a plurality of support pieces fixed to the outer wall 10.

일차 분배관(54)의 하단부는 분배실(52)의 외주벽에 상호 상이한 위치로 접속되고, 이에 가스 유입구(64)가 형성되어, 이러한 상이한 위치로 되는 유입구(64)로 각 구역에 있어서 가스 유입압이 증가에 따라서 단계적으로 작동이 되는 것이다.The lower end of the primary distribution pipe 54 is connected to mutually different positions on the outer circumferential wall of the distribution chamber 52, and the gas inlet 64 is formed in this, and the gas in each zone is provided with the inlet 64 which becomes such a different position. As the inlet pressure increases, it is operated in stages.

즉, 오염가스의 유입으로 내부 세정용액의 표면(46)이 밑으로 눌려져서 가스 유입구(64)가 개구되어 이를 통하여 유입되어 일차 분배관(54), 분배체(56) 및 이차 분배관(58)을 통과하여 이 각각의 이차 분배관(58) 상면에 관접된 벤츄리 관(28)을 통하여 배출된다.That is, the surface 46 of the internal cleaning solution is pressed down by the inflow of the contaminated gas, and the gas inlet 64 is opened to be introduced therethrough, thereby allowing the primary distribution pipe 54, the distribution body 56, and the secondary distribution pipe 58 to flow therethrough. ) Through the venturi tube 28 in contact with the upper surface of each of the secondary distribution pipe (58).

내부 세정용액의 표면(46)과 이차 분배관(58) 사이의 높이 차이로 인하여, 벤츄리 관(28)에는 상기 높이 차이에 상응하는 압력하강이 있게 되어서, 이에 의하여 오염가스는벤츄리 관(28)을 전술한 압력하강으로 유동하게 되고, 이것이 우수한 정화효과와 미세한 기포로 분무화가 되는 것이다.Due to the height difference between the surface 46 of the internal cleaning solution and the secondary distribution pipe 58, the venturi pipe 28 has a pressure drop corresponding to the height difference, whereby the polluted gas is discharged from the venturi pipe 28. This flows to the pressure drop described above, which is to be atomized with excellent purification effect and fine bubbles.

또한, 가스 유입구(64)가 상호 상이한 위치로 배설되어 있는 상기와 같은 방식 때문에, 완전한 정화효과로서 한 구역이 가동되고 이어서 다른 구역으로 자동적으로 작동이 가능하게 되는 것이다. 상기와 같은 구성이 오염물질을 효과적으로 추출하는데 매우 중요한 것이다. 즉, 관성효과는 가스의 속도에 따라 좌우되는 것이어서 가스의 속도가 낮게되면 오염물질의 분리가 불량하게 되는 결과를 초래하기 때문이다.In addition, because of the above-described manner in which the gas inlets 64 are arranged at different positions from each other, one zone is operated as a complete purification effect and then automatically operated to another zone. Such a configuration is very important for the effective extraction of contaminants. In other words, the inertial effect depends on the speed of the gas, so that the lower the speed of the gas, the poorer the separation of pollutants.

또한, 세정용액의 농도가 기포를 발생시키는 효과를 감소시키기 때문에 활발하게 작용하는 정화구역(66)을 설정하여 이의 세정용액 표면(34')을 타구역 보다 높게 설정한다. 이 표면(34')은 안내판(48)의 상단부(68)보다 상방으로 설정되어서 세정용액이 상기 구역(66)으로부터 오염가스가 공급되어 작동되는 구역으로 순환되게 한다. 즉, 이는 오염물질의 국부적인 집중으로 부분 무하가 걸리게 되어 활발하게 작용하는 구역의 세정용액중에 함유된 첨가제의 소모를 보충시키게 되는 것이다.In addition, since the concentration of the cleaning solution reduces the effect of generating bubbles, the purification zone 66 which is actively operated is set so that the cleaning solution surface 34 'is set higher than the other zones. This surface 34 'is set above the upper end 68 of the guide plate 48 so that the cleaning solution is circulated from the zone 66 to the zone where the pollutant gas is supplied and operated. In other words, this is partially localized by the local concentration of contaminants to compensate for the consumption of additives contained in the cleaning solution in the active zone.

제6도는 슬롯트형의 공간부(50)내부에 경사진 침강 박판(74)이 다수 배설된 것을 나타낸 확대 단면도이며, 상기 침강 박판(74)에 의하여 상하로 비스듬히 경사져서 형성된 공간부 또는 챔버(72)가 다수 생기게 된다.6 is an enlarged cross-sectional view showing a plurality of slanted thin plates 74 inclined inside the slot-shaped space part 50, and is formed by inclined up and down obliquely by the settled thin plates 74. ) Will produce a large number.

이 경사진 챔버(72)에 충입된 세정용액중으로 기포(76)가 인입되면 이 기포(76)는 침강 박판(72)의 하면을 따라서 상승되어지고, 이때에 오염입자(78)는 상기 박판(72)의 상면에 침하되어지면서 기포(76)는 계속하여 세정액 표면(34) 또는 세정액 표면(34')으로 상승된다.When the bubble 76 is introduced into the cleaning solution filled in the inclined chamber 72, the bubble 76 rises along the lower surface of the settled thin plate 72, and at this time, the contaminated particles 78 are separated from the thin plate ( The bubble 76 continues to rise to the cleaning liquid surface 34 or the cleaning liquid surface 34 'while being settled on the upper surface of 72).

상기 박판(74)상면에 집적된 오염입자(78)는 이 박판(74)이 경사져 있기 때문에 이에 따라서 하향 이동되어 결국은 각 박판(74)의 하단부(80)로부터 용기(10)의 저면(11)으로 낙하하게 된다.The contaminant particles 78 accumulated on the upper surface of the thin plate 74 are moved downward accordingly because the thin plate 74 is inclined, and eventually the bottom 11 of the container 10 from the lower end 80 of each thin plate 74. ) To fall.

상기 침강 박판(74)의 설치로 인하여 세정용액이 측방으로 순환하게 되어서 세정용액이 동일한 구역내에서만 순환하는 것을 방지하여 세정용액의 첨가제의 국부적인 소모를 보충하게 되는 것이다.The installation of the settling thin plate 74 causes the cleaning solution to circulate laterally, thereby preventing the cleaning solution from circulating only in the same zone to compensate for the local consumption of the additive of the cleaning solution.

또한, 본 발명의 가스 정화장치 내부의 세정용액을 냉각시키기 위하여 또는 경우에 따라 가열시키기 위하여 열교환기(도시안됨)를 배설할 수도 있는 것이다.In addition, a heat exchanger (not shown) may be disposed to cool the cleaning solution in the gas purifier of the present invention or to heat it in some cases.

그리고, 용기(1)의 체적적인 용량은 본 장치에 연결된 설비가 사고시에 본 장치가 가동하여 이에 발생되는 응축수와 추출된 고형 입자들을 충분히 수용할 수 있을 정도의 크기를 가져야 한다.In addition, the volume capacity of the container 1 should be large enough to accommodate the condensed water and the extracted solid particles generated when the equipment connected to the apparatus is operated in the event of an accident.

본 장치를 장치산업에 발생되는 가스를 처리시에는 용기(1)저면에 설치되고 평상시는 밀폐되는 배출 밸브(84), 예컨대 전후로 밸브를 복수개 설치하는 배관으로 하여서 응축수 및 추출된 입자 등을 배출시킬 수가 있는 것이다.The device is a discharge valve 84 installed at the bottom of the container 1 and normally closed when the gas generated in the apparatus industry is treated, and a pipe is provided with a plurality of valves in front and rear to discharge condensed water and extracted particles. There is a number.

또한, 충격판 또는 충돌판을 또 다른 형상으로 하여도 되며, 예컨대 배출구(31) 상방에 많은 구멍이 천공된 판을 배설하여 세정용액의 전표면에 발생되는 기포를 효과적으로 균등하게 분산시켜서 이에 의하여 용기의 용량을 더 효과적으로 이용할 수가 있게 된다.In addition, the impact plate or the collision plate may have another shape. For example, a plate having a large number of holes perforated above the discharge port 31 may be disposed to effectively and evenly disperse the bubbles generated on the entire surface of the cleaning solution, thereby allowing the container to be discharged. The capacity of can be used more effectively.

또한, 용기(1)를 경우에 따라서는 상부를 개방시킬 수도 있으며, 이 경우에는 외벽(10)을 충분히 높게하여서 세정용액이 튀어서 외부로 넘치는 것을 방지하여야 하고, 이러한 장치는 세정용액의 기포를 분리시키기 위하여 그릿드 또는 필터장치 그리고/또는 세정용액의 표면의 상방 또는 하방으로 설치되는 정적인 또는 유동화된 입자를 여과시키는 여과상등과 같은 분리장치를 추가로 설치하여야 한다.In addition, in some cases, the upper part of the container 1 may be opened. In this case, the outer wall 10 should be made sufficiently high to prevent the cleaning solution from splashing and overflowing to the outside. In order to achieve this, a separate device such as a grid or filter device and / or a filter bed for filtering static or fluidized particles installed above or below the surface of the cleaning solution should be additionally installed.

또한, 안내판(48)도 용기(1)내의 다른 위치에 설치하여 슬롯트형의 공간부(50)를 형성시킬 수가 있으며, 예컨대 방사상 격벽(60)부근에 설치하거나 또는 공간부(50)를 갖는 한쌍의 격벽으로 상기 격벽(60) 사이에 설치하여도 되는 것이다.In addition, the guide plate 48 can also be installed at another position in the container 1 to form a slotted space part 50. For example, a pair provided near the radial partition wall 60 or having a space part 50 is provided. The partition wall may be provided between the partition walls 60.

필수적인 것은 아니지만, 편리하게는 상호 상이한 구역(66) 사이에 설치하거나, 또는 분배관(18), (54)를 사이에 두고 기능을 수행할 수 있는 부위에 설치하는 것이 바람직스러운 것이다.Although not essential, it is convenient to install between different zones 66, or to a site where the distribution pipes 18 and 54 can be interposed to perform a function.

용기(1)는 원형으로만 할 필요는 없으며, 예컨대, 설치되는 현지조건에 부합되는 다른 형태로 하여도 되는 것이며, 이는 사각형이나 또는 불규칙적인 형태로 할 수 있는 것이다.The container 1 does not have to be circular, but may be, for example, in another form that meets the local conditions to be installed, which may be rectangular or irregular.

또한, 인입관(12)도 용기에 다른 위치에 설치할 수 있으며 예컨대 덮개(13)에 대칭적으로 설치하거나, 또는 외벽(10) 또는 저면(11)을 관통하여 설치할 수 있는 것이다.In addition, the inlet pipe 12 may also be installed at a different position in the container, for example, it may be installed symmetrically on the cover 13, or may be installed through the outer wall 10 or the bottom face 11.

그러나, 이때에 중요한 것은 가장 높은 유입구(64)의 상방으로 되는 위치로 분배장치(14), (14')와 연결시켜야 하는 것이다.However, it is important at this time to connect the dispensing devices 14, 14 ′ to a position above the highest inlet 64.

벤츄리 관(28)도 분배장치(14), (14')의 가스 유입구에 연관되어 다른 방식으로 설치할 수 있는 것이다. 즉, 경우에 따라서는 이 분배관(26), (58) 및 일차 분배관(18), (54), (56)에게 가장 적합한 기능을 부여하기 위하여 벤츄리 관(28)을 수평이나 또는 드레인을 위하여 약간 경사지게 설치할 수도 있는 것이다. 또한, 이 벤츄리 관(28)을 제4도에 도시된 높이보다 더 길게 하여서 흡입구(29)로부터 흡입된 세정용액 기포가 충분한 거리를 효과적으로 통과할 수 있도록 하여도 된다. 그리고, 벤츄리 효과로서의 오염가스의 정화가 분배, 충돌작용 및 부상효과로 더욱 효과적으로 수행되는 것이다.The venturi tube 28 can also be installed in other ways in conjunction with the gas inlets of the distribution devices 14, 14 ′. That is, in some cases, the venturi tube 28 may be horizontal or drained to give the most suitable function to the distribution tubes 26, 58 and the primary distribution tubes 18, 54, 56. It may be installed slightly inclined. In addition, the venturi tube 28 may be longer than the height shown in FIG. 4 so that the cleaning solution bubbles sucked from the suction port 29 can effectively pass a sufficient distance. In addition, the purification of the polluted gas as the venturi effect is more effectively performed by the distribution, collision and floating effects.

본 발명의 가스 정화장치는 소정의 크기와 분배장치(14) 그리고/또는 분배장치(14')를 다수개로 하여서 상호독립적으로 분리시켜서 작동시킬 수가 있는 것이다.The gas purifying apparatus of the present invention can be operated by being separated from each other independently of a predetermined size and a plurality of distribution apparatuses 14 and / or distribution apparatuses 14 '.

또한, 가스 정화장치를 다수개 설치하여 일군으로 배설하던지 또는 상호 거리를 이간시켜서 배설하여도 된다.Further, a plurality of gas purifiers may be installed to be disposed in a group or may be disposed at a distance from each other.

상기 후자의 경우는 보수유지 예컨대 배관 보수하기가 편리하며, 일부의 장치는 보수를 위하여 운휴시키고 일부 장치만을 가동시켜도 되는 것이다.In the latter case, it is convenient to maintain and maintain the pipe, for example, and some of the devices may be suspended for maintenance and only some of the devices may be operated.

본 발명의 가스 정화장치는 큰 규모로 되기 때문에 원자력 발전소의 비상장치로서 설치되는 경우에 그 면적이 50-100㎡정도이고, 본 장치의 직경이 10m 또는 그 이상이 된다.Since the gas purifier of the present invention has a large scale, when it is installed as an emergency apparatus of a nuclear power plant, its area is about 50-100 m 2, and the diameter of the apparatus is 10 m or more.

초기 세정용액 양은 손실양을 감안하여 정하여야 하며, 가스의 방출량이 150℃로서 10kg/sec정도일 때 물이 비등하여 손실되는 양이 1.0-3.5㎥/n이고 여기에 증발손실이 더 있게 되는 것이다.The amount of the initial cleaning solution should be determined in consideration of the loss amount, and when the amount of gas discharged is 150 ° C., about 10kg / sec, the loss of water is 1.0-3.5㎥ / n and the evaporation loss is further increased.

본 발명의 실시형태는 본 발명을 제한할려는 것이 아니며, 예컨대, 본 발명의 도면 그리고/또는 실시형태에 도시 설명된 각 부위의 기술사항을 본 발명의 가스 정화장치를 구성하는 소정의 방식으로 본 발명의 다수의 유형을 만들 수 있지만 이들은 다음의 청구의 범위에 속하는 것이다.The embodiments of the present invention are not intended to limit the present invention and, for example, the technical details of the parts described in the drawings and / or embodiments of the present invention may be viewed in a predetermined manner constituting the gas purifying apparatus of the present invention. Although many types of inventions can be made, they are within the scope of the following claims.

Claims (10)

고형상, 액상 그리고/또는 가스상의 오염물질을 함유하는 가스를 세정용액(32)으로 통과시켜 기포를 발생시켜서 가스를 정화하는 방법에 있어서, 유입가스를 분배장치(14), (14')로 인입시키고 세정용액의 표면(34), (34')하측으로 점차적으로 증가하는 깊이로 배설된 다수의 유입구(64)는 인입되는 가스의 유입압의 등가로 상기 유입구(64)의 개구되는 수가 증가되는 이에 인입가스의 분류되는 유동수도 증가되며 이 유입구(64)를 통과하는 가스는 유입되는 가스 유입관과 전체유동에 관계없이 근본적으로 동일한 흐름으로 유동되고, 이 각각의 유입구(64)를 통과한 유동은 연결수단(24, 26, 28, 54, 56, 58)을 통과하여 대응되는 유입구(64)보다 높이차(h)만큼 더 높게 위치된 배출구(31)에서 이 각각 배출구(31)와 상기 분배장치(14), (14') 내부의 세정용액 표면(46)과의 사이에 높이차(h)에 상응되는 압력하강으로 배출되어 세정용액(32)을 통과하도록 구성된 것을 특징으로 하는 가스 정화방법.A method of purifying a gas by generating bubbles by passing a gas containing solid, liquid, and / or gaseous contaminants into the cleaning solution 32, wherein the inlet gas is passed to the distribution devices 14 and 14 '. The number of inlets 64 drawn in and excreted to a depth gradually increasing below the surfaces 34 and 34 'of the cleaning solution increases the number of openings of the inlets 64 at an equivalent pressure of the incoming gas. As a result, the flow rate of the incoming gas is also increased, and the gas passing through the inlet 64 flows in the same flow regardless of the gas inlet pipe and the total flow, and passes through each of the inlets 64. The flow passes through the connecting means 24, 26, 28, 54, 56, 58, respectively, at the outlet 31 located higher by a height difference h than the corresponding inlet 64. Between the dispensing device 14 and the cleaning solution surface 46 inside the 14 '. The gas purification method, characterized in that configured to pass through the washing solution 32 is discharged to the pressure drop corresponding to the height difference (h). 제1항에 있어서, 상기 연결수단은 가스가 통과하는 동안에 벤츄리 관(배출노즐)(28)과 같이 속도를 증가시키는 구성요소를 구비하여 가스유동을 수축시켜 속도를 증가시키는 것에 의하여, 상기 벤츄리 관의 벽면에 상기 세정용액(32)으로 포위되도록 형성된 다수의 흡입구(29)를 통하여 세정용액이 흡입하도록 구성된 것을 특징으로 하는 가스 정화방법.2. The venturi tube according to claim 1, wherein the connecting means includes a component for increasing the speed, such as a venturi tube (outlet nozzle) 28, while the gas is passed, thereby contracting the gas flow to increase the speed. And a cleaning solution is sucked through the plurality of suction ports (29) formed to be surrounded by the cleaning solution (32) on the wall surface of the gas cleaning method. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 배출구로부터 배출된 가스분류는 상기 세정용액(32)중에 설치된 수단(충돌만 또는 출력만)(30)과 충돌하여 각각의 가스분류가 미세한 기포로 분할되어 상기 세정용액을 통과하면서 오염물질이 상기 세정용액중으로 분리하도록 구성된 것을 특징으로 하는 가스 정화방법.The gas fraction discharged from the outlet port collides with the means (collision only or output only) 30 installed in the cleaning solution 32 so that each gas fraction is divided into fine bubbles. And a contaminant is separated into the cleaning solution while passing through the cleaning solution. 세정용액 또는 세정용액(32)으로 부분적으로 충입되고, 오염가스를 유입시키는 유입관(12)과, 세정용액의 표면(34), (34') 하측으로 점차적으로 증가하는 깊이로 배설되고 오염가스를 유입하는 다수의 유입구(64)가 배설된 분배장치(14), (14')와, 정화된 가스를 배출시키는 출구(16)로 구성된 용기(1)와, 상기 분배장치(14), (14')의 내부 세정용액의 표면(46)이 가스의 유입압의 증가로 늘려져서 하향되어 점차적으로 증가하는 깊이로 배설된 상기 유입구(64)를 순차적으로 개구시켜서 이를 통하여 가스가 통과하여 상기 각각의 유입구(64)로부터 연장되며 상기 세정용액의 표면(34), (34') 하방으로 설치되고 대응되는 상기 유입구(64)보다 높이차(h)만큼 더 높게 위치되는 오염가스의 분류를 배출시키는 배출구(31) 사이에 설치되는 상기 연결수단(24, 26, 28, 54, 56, 58)을 상기 오염가스가 통과하도록 구성되어 제1, 2 또는 3항에 기재된 방법을 수행하도록 구성된 가스 정화장치.Partially filled with the cleaning solution or the cleaning solution 32, the inlet pipe 12 through which the contaminated gas is introduced, and is disposed to a depth gradually increasing below the surfaces 34 and 34 'of the cleaning solution, and the polluted gas. Dispensing apparatuses 14 and 14 'provided with a plurality of inlets 64 for introducing the gas, a container 1 comprising an outlet 16 for discharging the purified gas, and the dispensing apparatus 14, ( 14 '), the surface 46 of the internal cleaning solution is increased with an increase in the inlet pressure of the gas, and then sequentially opens the inlet 64, which is excreted to a gradually increasing depth, through which gas passes through Extends from the inlet 64 of the cleaning solution and is installed below the surfaces 34 and 34 'of the cleaning solution and discharges the fraction of the pollutant gas located higher by the height difference h than the corresponding inlet 64. The connecting means (24, 26, 28, 54, 56, 58) installed between the outlet 31 to the A gas purifier configured to pass contaminated gas and to perform the method of claim 1, 2 or 3. 제4항에 있어서, 상기 분배수단(14), (14')의 분배관(18) 그리고/또는 분배실(52)에 가스유동을 시키기 위하여 가장 낮은 상기 유입구(64)보다 하방으로 위치되고 세정용액(32)중으로 개방된 개구(22)가 형성되어 구성된 것을 특징으로 하는 가스 정화장치.5. The cleaning device as set forth in claim 4, further positioned and cleaned below the lowest inlet port (64) for gas flow to the distribution tube (18) and / or the distribution chamber (52) of the distribution means (14) and (14 '). Gas purifier, characterized in that the opening formed in the solution (32) is formed 22. 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 다수의 배출구(31)의 대부분이 세정용액의 표면(34), (34')의 하측으로 본질적으로 배설되고 그리고/또는 상기 배출구(31)와 이와 각각 상응되는 상기 유입구(64)와의 사이의 높이차(h)가 대략 1m 또는 그 이상이고 그리고/또는 상기 배출구(31)가 세정용액의 표면(34)으로부터 하측으로 적어도 0.5m, 바람직하게는 약 2.0m로 위치되고 그리고/또한 배출구(31)의 대부분이 소정높이 또는 동일높이로 배설되어 구성된 것을 특징으로 하는 가스 정화장치.6. A method according to claim 4 or 5, wherein a majority of the plurality of outlets 31 are essentially disposed below the surfaces 34, 34 'of the cleaning solution and / or the outlets 31 and respectively The height difference h between the corresponding inlet 64 is approximately 1 m or more and / or the outlet 31 is at least 0.5 m downward from the surface 34 of the cleaning solution, preferably about 2.0 m. gas purifier, characterized in that it is located at m and / or configured to excrete most of the outlet 31 at a predetermined height or the same height. 제4항에 있어서, 상기 배출구는 벤츄리 관(벤츄리 노즐)(28)의 형태와 같이 입자를 분리하는 특성을 가지며, 이의 벽면에 다수의 흡입구(29)를 형성하여 이를 상기 세정용액(32)이 포위하도록 구성된 것을 특징으로 하는 가스 정화장치.The method of claim 4, wherein the discharge port has a characteristic of separating particles as in the form of a venturi tube (venturi nozzle) 28, a plurality of suction ports 29 are formed on the wall thereof so that the cleaning solution 32 is A gas purifier, configured to surround. 제4항에 있어서, 상기 용기(1)는 방사상으로 연장되는 격벽(60)으로 수개의 구역으로 구획되고, 상기 격벽(60)은 상기 배출구의 하방에서부터 세정용액의 작동시의 표면(34') 상방 위치로 설치하되, 바람직하게는 중간판(36)에 인접되게 설치하여 구성된 것을 특징으로 하는 가스 정화장치.5. The container (1) according to claim 4, wherein the container (1) is partitioned into several zones by radially extending partitions (60), the partition walls (60 ') being operated from below the outlets upon operation of the cleaning solution. The gas purifier, characterized in that installed in the upper position, preferably installed adjacent to the intermediate plate (36). 제4항에 있어서, 상기 용기(1)에 하나 또는 그 이상의 안내판(48)을 상기 용기(1)의 외벽(10)에 근접되게 또는 상기 방사상 격벽(60)에 근접되게 또는 상호 대향되게 한쌍으로 설치하여 슬롯트형의 공간부(50)를 형성하여 이에 의하여 상기 용기(1)의 하단부에 위치하는 세정용액이 재순환하여 이 세정용액이 상부로 이동되도록 하고, 상기 하나 또는 그 이상의 안내판(48)의 상단부는 세정용액이 비작동시의 표면(34) 상부로 위치되고, 작동시의 표면(34')의 상부로는 넘지않도록 하고 그리고/또는 상기 안내판(48)의 하단부는 배출관(28)의 하측으로 위치되고 그리고/또는 침강 박판(74)을 적어도 하나 또는 그 이상의 상기 슬롯트형 공간부(50)에 경사지게 다수 배설하여 구성된 것을 특징으로 하는 가스 정화장치.5. A pair according to claim 4, wherein one or more guide plates (48) in the container (1) are in close proximity to the outer wall (10) of the container (1) or in close proximity or opposite to the radial bulkhead (60). Installed to form a slot-shaped space 50 so that the cleaning solution located at the lower end of the container 1 is recycled so that the cleaning solution is moved upward, and the one or more guide plates 48 The upper end is positioned so that the cleaning solution is located above the non-operating surface 34, and does not exceed the upper part of the operating surface 34 ′ and / or the lower end of the guide plate 48 is lower than the discharge pipe 28. And / or inclinedly disposed a plurality of settling thin plates (74) in at least one or more of the slotted space portions (50). 제4항에 있어서, 상기 세정용액의 표면(34), (34') 상방으로 처리된 세정용액의 기포중에 잔존하는 오염물질을 분리시키기 위한 분리수단을 설치하고, 상기 용기는 적어도 하나의 출구(16)를 가진 카버 또는 덮개(13)를 구비한 밀폐용기(1)로 구성하고, 상기 중간판(36)은 가장 높은 세정용액의 표면(34') 상방에 설치하여 상기 출구(16)와의 사이에 공간부(44)를 형성하고, 상기 중간판(36)에 다수의 관통공(38)을 형성하여 이에 싸이크론등과 같은 상기 분리수단(40)을 설치하여 이의 하단출구에 수직관(42)을 세정용액 표면(34) 이하로 연장하여서 미세한 세정용액 기포와 입자를 분리하도록 구성된 것을 특징으로 하는 가스 정화장치.The cleaning apparatus according to claim 4, further comprising: separating means for separating contaminants remaining in the bubbles of the cleaning solution treated above the surfaces 34 and 34 'of the cleaning solution, and the container is provided with at least one outlet ( 16, which consists of a closed container 1 having a cover or cover 13 having a cover 13, wherein the intermediate plate 36 is provided above the surface 34 'of the highest cleaning solution and is disposed between the outlet 16 and the outlet 16. A space 44 is formed in the intermediate plate 36, and a plurality of through holes 38 are formed in the intermediate plate 36, and the separation means 40, such as a cyclone, is installed thereon so that the vertical pipe 42 is disposed at the lower exit thereof. Extends below the cleaning solution surface (34) to separate fine cleaning solution bubbles and particles.
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