Claims (12)
내부를 진공상태로 하는 배기계를 구비한 진공용기와, 이 진공용기 내부에 배치되고, 성막 설치되는 기판을 부착한 기판유지부재와, 상기 기판에 대하여 대향하는 위치관계롤 배치되고 상기 기판면에 성막하는 장방형 평면상 타켓을 구비한 적어도 하나의 마그네트론 캐소드 전극과, 상기 진공용기 내부에 가스를 유통시켜서 내부압력을 적절히 유지하는 기스제어계와, 상기 마그네트론 캐소드 전극에 전력을 공급하는 전원계를 포함한 스퍼터링 장치이고, 상기 하나의 마그네트론 캐소드 전극은 N극, S극에 관한 자극의 극성이 서로 반대인 제1 및 제2의 자석유니트를 번갈아 인접시켜서 배치한 자석조립체를 구비하고, 상기 타켓면상에 인접된 상기 자석유니트에 의해 드리프트 전자의 운동방향이 반대인 2종류의 환상궤적이 번갈아 인접되고, 2종류의 상기 자석유니트를 제1자석유니트 및 제2자석유니트 각각에서 생성하는 이온전류 발생 영역이 공유될 정도로 접근한 위치에 배치함으로써 서로 인접하는 드리프트 전자의 궤도가 혼성하는 마그네트론 캐소드 전극에 있어서, 복수 배치한 장방형 자석 유니트 가운데서 최단부가 배치한 자석유니트의 외주자석으로 반대극이 인접되지 않은 긴변부분과 중심자석으로 형성되는 자계의 강도를 반대극이 인접된 긴변부분과 중심자석으로 형성되는 자계의 강도와 같아지도록 약하게 설정하고 그리고 자석유니트의 외주자석의 긴변부분과 거기에 인접된 자석유니트의 외주 자석의 긴 변부분으로 형성되는 자계가운데서 그 자계영역의 단부 강도를 그 자계 영역의 기타 부분의 자계강도와 같아지도록 약하게 설정하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.A vacuum holding apparatus having an exhaust system in which the inside is in a vacuum state, a substrate holding member having a substrate disposed inside the vacuum container, and having a film formed thereon, and a positional relationship opposed to the substrate, and formed on the substrate surface. A sputtering apparatus including at least one magnetron cathode electrode having a rectangular planar target, a gas control system for distributing gas inside the vacuum vessel to properly maintain internal pressure, and a power system for supplying power to the magnetron cathode electrode Wherein the one magnetron cathode electrode has a magnet assembly arranged alternately adjacent to the first and second magnet units in which the polarities of the magnetic poles with respect to the N pole and the S pole are opposite to each other, and are adjacent to the target surface. The magnet unit alternates two types of annular trajectories with opposite directions of movement of the drift electrons. In the magnetron cathode electrode in which the orbits of drift electrons adjacent to each other are mixed by arranging the magnet unit at a position where the ion current generating regions generated in each of the first magnetic unit and the second magnetic unit are shared so as to be shared. The strength of the magnetic field formed by the long side part and the center magnet where the opposite poles are not the same as the outer circumferential magnet of the magnet unit arranged at the shortest part of the rectangular magnet unit. The strength of the end of the magnetic field is equal to the magnetic strength of the other part of the magnetic field in a magnetic field formed by the long side of the outer magnet of the magnet unit and the long side of the outer magnet of the adjacent magnet unit. Sputtering apparatus, characterized in that the weak setting to lose.
제1항에 있어서, 상기 마그네트론 캐소드 전극에 있어서,복수배치한 장방형의 자석유니트중에서최단부에 배치된 자석유니트의 외주자석으로 반대극이 인접하지 않는 긴변부분의 폭을 그 외주자석의기타 부분의 폭보다 작게 설정하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.The magnetron cathode electrode according to claim 1, wherein in the magnetron cathode electrode, the width of the long side portion of the magnet unit disposed in the shortest portion of the rectangular magnet unit that is arranged at the shortest end thereof is not the opposite side of the magnetron cathode electrode. A sputtering apparatus, characterized in that the setting smaller than the width.
제1항에 있어서, 상기 마그네트론 캐소드 전극에 있어서, 자석유니트의 중심자석 단부와 외주자석의 긴변부분사이의 거리를 자석 유니트 사이의 거리보다 짧게 하고 또한 단부이외의 중심자석의 부분과 외주자석의 긴변부분 사이의 거리보다 짧게하고, 또한 중심자석 단부와 외주자석의 짧은 변 부분 사이의 거리를 자석유니트 사이의 거리보다 짧게하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.The magnetron cathode electrode according to claim 1, wherein the distance between the center magnet end of the magnet unit and the long side portion of the outer magnet is shorter than the distance between the magnet units, and the part of the center magnet other than the end portion and the long side of the outer magnet are formed. A sputtering device, characterized in that it is shorter than the distance between the parts, and the distance between the central magnet end portion and the short side portion of the outer magnet is shorter than the distance between the magnet units.
제3항에 있어서, 상기 마그네트론 캐소드 전극에 있어서, 자석유니트의 중심자석 단부에서 외주자석의 짧은 부분에 대향하는 부분을 상기 자석유니트 상방에서 보아 T자형으로 형성하고, 이 T자형으로 형성한 중심자석단부와, 거기에 대향하는 외주자석부분과의 간격을 각 자석유니트 사이의 거리보다 짧게 설정하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치4. The magnetron cathode according to claim 3, wherein the magnetron cathode electrode is formed in a T-shape at a central magnet end of the magnet unit facing a short portion of the outer circumferential magnet from above the magnet unit, and formed in a T-shape. The sputtering apparatus characterized by setting the space | interval of an edge part and the outer peripheral magnet part which opposes it shorter than the distance between each magnet unit.
제1항에 있어서, 상기 마그네트론 캐소드 전극에 있어서, 최단부에 배치한 자석유니트의 외주자석으로 반대극이 인접하지 않는 긴변부분의 자화를 그 긴변부분과 중심자석으로 형성되는 자계강도와 반대극이 인접된 긴변 부분과 중심자석을 형성되는 자계강도가 같아지도록 작게 설정하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.The magnetron of the magnetron cathode electrode having a long side portion and a central magnet formed by the long side portion and the center magnet of the outer peripheral magnet of the magnet unit disposed at the shortest side. A sputtering apparatus, characterized in that the adjacent long side portion and the central magnet is set small so that the magnetic field strength is the same.
제1항에 있어서, 상기 마그네트론 캐소드 전극에 있어서, 제1 및 제1자석 유니트는 접근상태로 배치되고 그들 인접부 사이에는 스페이서가 개재설치되도록 구성하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.2. The sputtering apparatus according to claim 1, wherein in the magnetron cathode electrode, the first and first magnet units are arranged in an approaching state and a spacer is interposed between the adjacent portions thereof.
제6항에 있어서, 상기 스페이서의 재질을 연철로 하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.The sputtering apparatus according to claim 6, wherein the spacer is made of soft iron.
제1항에 있어서, 상기 장방형 평면상 타켓을 접착한 뒷판 반대편에 다수의 홈을 갖는 수냉 재킷을 부착하고 상기 자석조립체는 상기 수냉재킷 외측의 대기에 정지하여 배치하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.The sputtering apparatus according to claim 1, wherein a water-cooling jacket having a plurality of grooves is attached to an opposite side of the back plate to which the rectangular planar target is bonded, and the magnet assembly is disposed in the atmosphere outside the water-cooling jacket.
제8항에 있어서, 상기 자석조리비체는 상기 수냉재킷 외주의 대기에 그 이동을 허용하는 공간을 설치하여 배치하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.The sputtering apparatus according to claim 8, wherein the magnet cooking body is provided with a space for allowing its movement in the atmosphere of the outer circumference of the water cooling jacket.
제1항에 있어서, 상기 기판 유지부재는 상기 기판을 이소하기 위하여 이동자재이고, 또한 상기 진공용기내에서 상기 기판에 박막을 형성할 때, 상기 기판이 상기 마그네트론 캐소드 전극의 타켓면에 대향 하는 위치에서 상기 기판유지부재는 정지도도록 구성하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.2. The substrate holding member according to claim 1, wherein the substrate holding member is a moving material for isotropic the substrate, and when the thin film is formed on the substrate in the vacuum vessel, the substrate is opposed to the target surface of the magnetron cathode electrode. The substrate holding member is a sputtering apparatus, characterized in that configured to be stopped.
제10항에 있어서, 상기 이동기구는 회전구동장치와, 이 회전구동장치에 의한 회전운동을 상기 자석조립체의 왕복운동으로 변환하는 변환기구와, 상기 자석조립체의 왕복운동을 가이드하는 가이드부재로 구성하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.11. The apparatus of claim 10, wherein the moving mechanism comprises a rotary drive device, a converter mechanism for converting a rotary motion by the rotary drive device into a reciprocating motion of the magnet assembly, and a guide member for guiding the reciprocating motion of the magnet assembly. Sputtering apparatus, characterized in that.
제1항에 있어서, 최단부에 배치한 자석유니트 외주자석으로 반대극이 인접하지 않는 긴변부분과 중심자석이 부분과, 자석유니트 외주자석의 긴변부분과 거기에 인접하는 자석유니트 외주자석의 긴변부분사이 부분의 단부 부분에 각각 연자성 재료의 스페이서를 배치한 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.The magnet unit outer periphery magnet of claim 1, wherein the long side portion and the center magnet portion of the magnet unit outer periphery magnet are disposed adjacent to each other, and the long side portion of the magnet unit outer periphery magnet and the long side portion of the magnet unit outer periphery magnet adjacent thereto. A sputtering apparatus, characterized in that spacers of soft magnetic material are disposed at end portions of the intersecting portions.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.