KR950010702B1

KR950010702B1 - Screen manufacture method and exposure device for color crt.

Info

Publication number: KR950010702B1
Application number: KR1019920022331A
Authority: KR
Inventors: 지항구
Original assignee: 삼성전관주식회사; 박경팔
Priority date: 1992-11-25
Filing date: 1992-11-25
Publication date: 1995-09-21
Also published as: KR940012431A

Abstract

covering a photoresistor on an inner surface of a panel; purifying a seal surface of a skirt end of the panel; exposing the inner surface of the panel using a pattern mask of a corresponding shadow mask; exposing unnecessary photosensitive resin film attached to the skirt of the panel; obtaining a stripe shape necessary photoresistor film for developing a photoresistor film; covering a liquid graphite on the inner surface of the panel; and applying an etching liquid on the inner surface of the panel to remove the photoresistor film and the covered graphite and obtaining a necessary stripe shape black matrix, wherein exposing the unnecessary photosensitive resin film attached to the skirt of the panel removes the photosensitive resin film and the graphite attached thereto of the inner surface of the skirt by the etching liquid.

Description

Color cathode ray tube screen manufacturing method and exposure apparatus applied thereto

제1도 내지 제6도는 본 발명의 제조 공정 단계별 스크린 형성과정을 순차적으로 나타내 보인다.1 to 6 sequentially show the screen forming process step by step of the manufacturing process of the present invention.

제7도는 본 발명에 따른 노광 장치의 개관도이다.7 is an overview view of an exposure apparatus according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

10 : 패널 11 : (패널의) 스커트10: Panel 11: Skirt (of panel)

12 : (스커트의) 실면 13 : 스터드 핀12: (Skirt) face 13: Stud pin

20, 20a, 20b : 감광성 수지막 21 : 포토 레지스터액20, 20a, 20b: photosensitive resin film 21: photoresist liquid

30 : 섀도우 마스크 40 : 노광 장치30: shadow mask 40: exposure apparatus

41 : (노광 장치의) 광원 42 : (노광 장치의) 보조광원41: light source (of exposure apparatus) 42: auxiliary light source (of exposure apparatus)

43 : 광 안내판43: light guide plate

본 발명은 칼라 음극선관의 스크린 제조 방법 및 이에 적용되는 노광 장치에 관한 것으로서, 특히 블랙 매트릭스의 효과적인 형성방법 및 이를 위한 노광 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a screen manufacturing method of a color cathode ray tube and an exposure apparatus applied thereto, and more particularly, to an effective method of forming a black matrix and an exposure apparatus for the same.

칼라 음극선관의 제조 단계는 패널의 내면에 블랙 매트릭스를 형성하는 단계, 형광막을 형성하는 단계와, 그리고 매탈백을 형성하는 단계로 대별된다. 이러한 제조 단계에 있어서, 상기 블랙 매트릭스와 형광 스트라이프의 형성단계는 소위 사진 식각법을 채용하는데 이에는 칼라 음극선관에서 색선별 그리드로서 적용되는 섀도우 마스크가 노광용 필름으로서 적용된다. 상기 블랙 매트릭스는, 패널의 내면에 전면적으로 도포되어 섀도우 마스크를 통해 노광 처리된 포토레지스터의 표면에 액상 흑연을 도포한 후 이를 현상함으로써 형성되는 것으로 상기 포토 레지스터가 광에 의해 노광되지 않은 부분에 부착된 스트라이프상의 형태로 형성되게 된다. 그런데 상기 블랙 매트릭스를 형성하는 과정에서 상기 액상 흑연이 패널의 주변부 특히 스커트의 내면에 부착되어 있게 되며, 이것은 블랙 매트릭스 형성 과정 중에 제거되게 된다.The manufacturing step of the color cathode ray tube is roughly divided into forming a black matrix on the inner surface of the panel, forming a fluorescent film, and forming a metal bag. In this manufacturing step, the forming step of the black matrix and the fluorescent stripe employs a so-called photolithography method, in which a shadow mask applied as a color-specific grid in a color cathode ray tube is applied as an exposure film. The black matrix is formed by applying liquid graphite to the surface of the photoresist exposed to the entire surface of the panel through the shadow mask and developing it, and then attaching the photoresist to a portion not exposed by light. It is formed in the form of a stripe. In the process of forming the black matrix, however, the liquid graphite is attached to the periphery of the panel, particularly the inner surface of the skirt, which is removed during the process of forming the black matrix.

이를 간략히 살펴보면 다음과 같다.This is briefly described as follows.

1. 패널의 내면에 PVA가 포함된 액상 포토 레지스터를 전면적으로 도포한 후 이를 건조함으로써, 블랙 매트릭스 제조를 위한 감광성 수지막을 얻는다.1. The photoresist film for black matrix manufacture is obtained by apply | coating the liquid photoresist containing PVA whole surface on the inner surface of a panel, and drying it.

2. 후속되는 현상 단계에서의 현상 장치의 오염을 방지하기 위하여 그 현상장치와의 접촉면인 상기 패널의 스커트 단부의 실면(seal 面)을 스폰지등으로 세정한다.2. To prevent contamination of the developing apparatus in a subsequent developing step, the seal face of the skirt end of the panel, which is the contact surface with the developing apparatus, is cleaned with a sponge or the like.

3. 블랙 매트릭스의 형상을 갖도록 위하여 상기 패널의 내면을 해당 섀도우 마스크를 패턴 마스크 필름으로 채용하여 노광한다.3. In order to have the shape of a black matrix, the inner surface of the panel is exposed using a shadow mask as a pattern mask film.

4. 노광 처리된 상기 포토레지스터 막을 현상하는 스트라이프 상의 필요 포토 레지스터막을 얻는다.4. The necessary photoresist film on the stripe for developing the exposed photoresist film is obtained.

5. 상기 스트라이프상 포토 레지스터막이 마련된 상기 패널의 내면에 액상 흑연을 전면적으로 도포한다.5. Liquid graphite is applied to the entire surface of the panel on which the stripe photoresist film is provided.

6. 패널의 스커트의 측면과 선단면인 실면에 부착된 불필요 흑연을 제거한다.6. Remove unneeded graphite adhering to the side of the skirt of the panel and the seal surface, which is the front end.

7. 상기 패널의 내면에 에칭액을 가하여 상기 스트라이프상 포토레지스터막과 이에 도포된 흑연을 제거하여 필요 스트라이프상 블랙 매트릭스를 얻는다.7. An etching solution is added to the inner surface of the panel to remove the stripe photoresist film and the graphite applied thereto to obtain the required stripe black matrix.

8. 상기 패널의 스커트에 부착된 불필요 흑연을 제거한다.8. Remove the unnecessary graphite attached to the skirt of the panel.

이상과 같은 종래 스크린 제조 방법에 있어서, 통상 패널의 내면에 부착된 흑연을 제거하기 위하여 상기한 바와 같이 별도의 제거공정이 채택되고 있다. 제거 공정 중에는 불필요 흑연막을 제거하기 위한 수단으로 물리적인 제거 수단인 머신과 화학적인 제거 수단인 불산등과 같은 에칭제가 적용되고 있다.In the conventional screen manufacturing method as described above, in order to remove the graphite adhering to the inner surface of the panel, a separate removal process is adopted as described above. During the removal process, an etching agent such as a mechanical removal means and an etching agent such as hydrofluoric acid, which are chemical removal means, are applied as a means for removing an unnecessary graphite film.

이러한 종래 제조 방법에 있어서, 불필요 흑연막 제조 공정은 매우 번거로울 뿐 아니라, 완전한 제거를 위하여 작업상 세심한 주의를 요한다. 그러나, 실제 제품을 완성하여 보면 그중에 상당부분이 미제거 흑연막의 존재에 의한 섀도우 마스크 구멍막힘 등과 같은 원인에 의한 불량품으로 발견되고 있다. 결론적으로 종래의 제조 방법에 있어서의 불필요 흑연막의 제거 공정은 번거로울 뿐 아니라, 완전한 흑연막의 제거가 어렵다는 것이다.In this conventional manufacturing method, the unnecessary graphite film production process is not only very troublesome, but also requires careful attention in operation for complete removal. However, when the actual product is completed, many of them are found to be defective products due to causes such as shadow mask hole clogging due to the presence of the unremoved graphite film. In conclusion, the removal process of the unnecessary graphite film in the conventional manufacturing method is not only cumbersome but also difficult to completely remove the graphite film.

본 발명은 블랙 매트릭스 형성 발생되는 불필요 흑연의 완벽한 제거가 가능하고, 그 공정이 매우 간편한 칼라 음극선관의 스크린 제조 방법 및 이에 적용되는 노광 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a screen of a color cathode ray tube, and an exposure apparatus applied thereto.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제조 방법은, 패널의 내면에 포토 레지스터를 전면적으로 도포하는 단계와, 상기 패널의 스커트 단부의 실면을 세정하는 단계와, 상기 패널의 내면을 해당 섀도우 마스크로 패턴 마스크로 이용하여 노광하는 단계와, 노광 처리된 상기 포토 레지스터 막을 현상하는 스트라이프상의 필요 포토 레지스터막을 얻는 현상 단계와, 상기 스트라이프상 포토 레지스터막이 마련된 상기 패널의 내면에 액상 흑연을 전면적으로 도포하는 단계와, 상기 패널의 내면에 에칭액을 가하여 상기 스트라이프상 포토 레지스터막과 이에 도포된 흑연을 제거하여 필요 스트라이프상 블랙 매트릭스를 얻는 단계를 갖는 음극선관의 스크린 제조 방법에 있어서, 상기 패널 마스크를 통한 노광단계와 현상 단계의 사이에 상기 패널의 스커트에 부착된 불필요 감광성 수지막을 노광하는 단계가 추가로 마련되어, 상기 현상 단계를 통해 패널의 스커트 내면에 감광성 수지막이 잔류케 하여 흑연이 도포된 이후 에칭액에 의해 감광성 수지막이 그에 부착된 흑연과 함께 스커트 내면으로부터 제거되게 하는 점에 그 특징이 있다.In order to achieve the above object, the manufacturing method of the present invention comprises the steps of applying the photoresist to the inner surface of the panel in full, cleaning the actual surface of the skirt end of the panel, the inner surface of the panel with a corresponding shadow mask Exposing using a pattern mask, developing a photoresist film having a stripe shape for developing the exposed photoresist film, and applying liquid graphite to the entire inner surface of the panel on which the stripe photoresist film is provided. And applying an etching solution to the inner surface of the panel to remove the stripe-type photoresist film and the graphite applied thereto, thereby obtaining the required stripe-shaped black matrix, wherein the screen of the cathode ray tube is exposed through the panel mask. Of the panel between and And further exposing the unnecessary photosensitive resin film attached to the substrate, wherein the developing step causes the photosensitive resin film to remain on the inner surface of the skirt of the panel so that the graphite is applied and then the skirt with the graphite to which the photosensitive resin film is attached thereto by an etching solution. It is characterized by being removed from the inner surface.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제조 장치는, 상기 제조 공정에 적용되는 것으로 그 저부에 광원이 마련되고 그 상부에 패널이 탑재되는 테이블이 마련된 노광장치에 있어서, 상기 테이블의 상부에 상기 패널의 스커트를 국부적으로 조명하는 보조 광원이 마련된 점에 그 특징이 있다.In order to achieve the above object, the manufacturing apparatus of the present invention is applied to the manufacturing process, and an exposure apparatus provided with a table on which a light source is provided at a bottom thereof and a panel mounted thereon, wherein The feature is that an auxiliary light source for locally illuminating the skirt is provided.

이하 첨부된 도면 제 1 도 내지 제 7 도를 참조하면서 본 발명의 한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 7.

본 발명에 적용되는 노광장치는 제 7 도에 도시된 바와 같이, 그 내부 하측에 광원(41)이 마련되고 그 상부에 패널(10)이 탑재되는 테이블(44)이 마련된다. 그리고 상기 테이블(44)의 상부 둘레에는 패널(10)의 스커트(11)에 소정 광도의 빛을 집중적으로 조사하는 보조광원(42)이 마련되고, 그 상부에 빛의 조사 방향을 스커트 측으로만 제한하는 광 안내판(43)이 마련된다. 그리고 내부에는 섀도우마스크(30)가 장착되는 보조 테이블(44')이 마련된다.In the exposure apparatus according to the present invention, as shown in FIG. 7, a light source 41 is provided below the inside thereof, and a table 44 on which the panel 10 is mounted is provided. In addition, an auxiliary light source 42 for irradiating light of a predetermined intensity to the skirt 11 of the panel 10 is provided around the upper portion of the table 44, and the irradiation direction of the light is limited only to the skirt side thereof. The light guide plate 43 is provided. In addition, an auxiliary table 44 ′ on which the shadow mask 30 is mounted is provided.

이러한 본 발명의 노광장치가 적용되는 본 발명의 제조 방법은 다음과 같다.The manufacturing method of the present invention to which the exposure apparatus of the present invention is applied is as follows.

1. 패널(10)을 회전시키면서 패널(10)의 내면에 PVA가 포함된 액상 포토 레지스터(21)를 주입하여 패널의 내면 전체에 액상 포토레지스터를 도포하며, 이를 건조함으로써 블랙 매트릭스 제조를 위한 감광성 수지막(20)을 얻는다(제 1 도).1. While rotating the panel 10, a liquid photoresist 21 containing PVA is injected into the inner surface of the panel 10 to apply a liquid photoresist to the entire inner surface of the panel, and then dry the photoresist to produce a black matrix. The resin film 20 is obtained (FIG. 1).

2. 후속되는 현상 단계에서 현상 장치가 오염되는 것을 방지하기 위하여 현상장치의 접촉면인 상기 패널(10)의 스커트(11) 단부의 실면(12)을 스폰지등으로 세정한다.2. In order to prevent the developing apparatus from being contaminated in the subsequent developing step, the actual surface 12 of the skirt 11 end of the panel 10, which is the contact surface of the developing apparatus, is cleaned with a sponge or the like.

3. 블랙 매트릭스의 형상을 갖도록 위하여 광원(41)을 갖는 노광장치(40)에서 상기 패널(10)의 내면을 해당 섀도우 마스크(30)를 패턴 마스킹 필름으로 채용하여 노광한다(제 2 도).3. In the exposure apparatus 40 having the light source 41 in order to have the shape of a black matrix, the inner surface of the panel 10 is exposed by employing the shadow mask 30 as a pattern masking film (FIG. 2).

4. 상기 노광 장치(40) 상기 패널(10)을 그대로 탑재한 상태에서 광 조사방향 제한수단(43)로 갖는 보조광원(42)으로 상기 패널(10)의 연부면(12)을 포함한 스커트(11)를 집중적으로, 그리고 국부적으로 노광하여 이 부위에 도포된 감광성 수지막을 전체적으로 충분히 감광시킨다.4. The skirt including the edge surface 12 of the panel 10 as an auxiliary light source 42 having the light irradiation direction limiting means 43 with the exposure apparatus 40 mounted on the panel 10 as it is ( 11) is exposed intensively and locally to sufficiently expose the photosensitive resin film applied to this site as a whole.

5. 이상과 같이 전면과 그 주변인 별도 단계를 통해 노광 처리된 상기 감광성 수지막(20)을 순수로서 현상하여 패널 내면 바닥의 스트라이프상 감광성 수지막(20a)과 더불어 패널(10)의 스커트(11)의 내면에 마련된 감광성 수지막(20')을 얻는다(제 4 도).5. As described above, the photosensitive resin film 20 exposed through the separate steps of the front surface and its surroundings is developed as pure water so that the skirt 11 of the panel 10 together with the stripe-shaped photosensitive resin film 20a at the bottom of the inner surface of the panel. The photosensitive resin film 20 'provided in the inner surface of () is obtained (FIG. 4).

6. 상기 현상된 감광성 수지막(20a)(20b)이 마련된 상기 패널(10)의 내면에 액상 흑연(51)을 전면적으로 도파하여 건조함으로써 전면적인 흑연막(50)을 얻는다(제 5 도).6. The entire surface of the graphite film 50 is obtained by completely waveguided and drying the liquid graphite 51 on the inner surface of the panel 10 provided with the developed photosensitive resin films 20a and 20b (FIG. 5). .

7. 상기 패널의 내면에 에칭액을 가하여 상기 스트라이프상 포토레지스터막과 이에 도포된 흑연을 제거하여 필요한 스트라이프상 블랙 매트릭스(52)만을 얻는다(제 6 도).7. An etching solution is added to the inner surface of the panel to remove the stripe photoresist film and the graphite applied thereto to obtain only the required stripe black matrix 52 (FIG. 6).

8. 그리고 통상의 과정을 통하여 형광막 형성단계로 상기 패널을 투입한다.8. Then, the panel is introduced into the fluorescent film forming step through a conventional procedure.

이상과 같은 본 발명의 스크린 제조 방법에 의하면 상기 블랙매트릭스를 얻기 위한 에칭단계에서 불필요 흑연이 같이 제거되므로 별도의 흑연 제거 단계가 필요없다. 이는 상기 패널에 감광성 수지를 잔류시켜 그 위에 흑연막이 형성되게, 즉 흑연이 유리면에 직접 접촉되지 않게 함으로써 에칭 단게에서 에칭액에 의해 감광성 수지막이 박리될 때에 이에 도포된 흑연막도 같이 제거됨으로서 가능하다. 이러한 본 발명에 의하면 엄정한 공정이 요구되는 블랙 매트릭스 현상(에칭)단계에서 불필요 흑연이 제거되기 때문에 잔류 흑연이 거의 없게 된다. 따라서, 종래와 같이 잔류 흑연에 의한 섀도우 마스크의 구멍 막힘등과 같은 불량 발생이 크게 저감되게 된다.According to the screen manufacturing method of the present invention as described above, since the unnecessary graphite is removed together in the etching step for obtaining the black matrix, a separate graphite removal step is not necessary. This is possible by leaving the photosensitive resin in the panel so that the graphite film is formed thereon, i.e., the graphite is not in direct contact with the glass surface, thereby removing the graphite film applied thereto when the photosensitive resin film is peeled off by the etching solution at the etching step. According to the present invention, there is almost no residual graphite since unnecessary graphite is removed in the black matrix development (etching) step, which requires a strict process. Therefore, defects such as clogging of the shadow mask due to residual graphite and the like are greatly reduced as in the prior art.

나아가서는, 본 발명에 의하면, 종래에 요구되던 흑연 에칭(흔히 커팅이라 함)을 위한 공정이 제거됨으로서 흑연 커팅시 튀어 오른 불산과 같은 에칭액 의해 블랙매트릭스가 손상되는 경우가 전혀 없게 된다. 더우기 그 설비도 필요없게 되므로 설비의 설치와 유지 비용의 부담을 제거하여 주게 된다.Furthermore, according to the present invention, the process for graphite etching (commonly referred to as cutting), which has been conventionally required, is eliminated, so that the black matrix is not damaged by etching liquid such as hydrofluoric acid splashed during graphite cutting. Moreover, the equipment is also unnecessary, thereby eliminating the cost of installing and maintaining the equipment.

Claims

Applying the photoresist entirely on the inner surface of the panel; And cleaning the actual surface of the skirt end of the panel; Exposing the inner surface of the panel using a shadow mask as a pattern mask; And a developing step of obtaining a stripe-shaped necessary photoresist film for developing the exposed photoresist film; And applying liquid graphite to the entire surface of the panel on which the stripe-shaped photoresist film is provided. And applying an etching solution to the inner surface of the panel to remove the stripe-type photoresist film and the graphite applied thereto to obtain a required stripe-shaped black matrix, wherein the screen of the cathode ray tube is exposed through the panel mask. And exposing the unnecessary photosensitive resin film attached to the skirt of the panel between the and the developing step. And a resin film is removed from the inner surface of the skirt together with graphite attached thereto.

An exposure apparatus provided with a table on which a light source is provided at a bottom thereof, and a panel on which a panel is mounted, wherein the auxiliary light source for locally illuminating the skirt of the panel is provided at the top of the table. Exposure apparatus for color cathode ray tube manufacture applied to a method.

The exposure apparatus for manufacturing a color cathode ray tube according to claim 2, wherein the auxiliary light source comprises a light guide plate for restricting a light traveling direction.