KR950007008A - 웨이퍼 건조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 웨이퍼 건조방법에 있어서, 웨이퍼를 회전시키며 건조하는 스핀 드라이 단계와, 상기 웨이퍼를 600∼800℃로 히팅하여 웨이퍼 표면에 잔존하는 습기를 제거하는 히팅단계와, 히팅되어 온도가 상승된 상기 웨이퍼를 냉각하는 냉각단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조방법에 관한 것으로, 기존의 스핀 드라이 단계 후, 히팅단계를 첨부하여 웨이퍼 건조효과를 극대화 시킴으로써, 불순물 입자의 제거 및 반도체 소자의 특성을 향상시키는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 웨이퍼 건조방법을 나타내는 블록도.
제2도는 웨이퍼가 히팅 챔버에 놓여져 있는 상태를 나타내는 측면도.
Claims (1)
- 웨이퍼 건조방법에 있어서, 웨이퍼를 회전시키며 건조하는 스핀 드라이 단계와, 상기 웨이퍼를 600∼800℃로 히팅하여 웨이퍼 표면에 잔존하는 습기를 제거하는 히팅단계와, 히팅되어 온도가 상승된 상기 웨이퍼를 냉각하는 냉각단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019930016050A KR950007008A (ko) | 1993-08-18 | 1993-08-18 | 웨이퍼 건조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019930016050A KR950007008A (ko) | 1993-08-18 | 1993-08-18 | 웨이퍼 건조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950007008A true KR950007008A (ko) | 1995-03-21 |
Family
ID=66817676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019930016050A KR950007008A (ko) | 1993-08-18 | 1993-08-18 | 웨이퍼 건조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR950007008A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100420009B1 (ko) * | 1999-12-16 | 2004-02-25 | 주성엔지니어링(주) | 반도체소자 제조장치 |
-
1993
- 1993-08-18 KR KR1019930016050A patent/KR950007008A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100420009B1 (ko) * | 1999-12-16 | 2004-02-25 | 주성엔지니어링(주) | 반도체소자 제조장치 |
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