KR940020479A - 위상 시프트 마스크와 그 검사 방법(Phase shift mask and its inspection method) - Google Patents

위상 시프트 마스크와 그 검사 방법(Phase shift mask and its inspection method) Download PDF

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Abstract

크롬 필름으로 제조된 주기적인 라인과 공간 패턴은 유리 기판상에 형성되고, 위상 시프터는 상기 라인과 공간패턴의 투명한 부분위마다 정열된다. 스텝퍼와 위상 시프트 마스크를 사용하여, 웨이퍼상에 피복된 포토레지스트 필름은 다양한 촛점조절에 의하여 i-라인의 광에 여러번 노출되어 발달한다. 다음으로 웨이퍼 상에 위치된 위상 시프터를 통한 노출로 인하여 형성된 포토레지스트 패턴의 폭(Ws)과, 위상 시프터를 통과하는 것이 없이 노출되어 형성된 포토레지스트 패턴의 폭(Wo)이 측정된다. 촛점 이탈로 인한 Ws와 Wo사이의 관계를 기초로하여, 투과율 오차와 위상 시프터의 위상 시프트 각도 오차가 측정된다.

Description

위상 시프트 마스크와 그 검사 방법(Phase shift mask and its inspection method)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 실시예를 도시하는 단면도.
제3도는 본 발명의 실시예에서 위상 시프트 각도의 오차 또는 위상 시프터(phase shifter)의 투과율(transmittance)오차와, 포토레지스트 패턴(photoresist pattern)의 폭 사이의 관계를 도시하는 그래프.

Claims (4)

  1. 위상 시프트(a phase shift)마스크에 있어서, 유리 기판상에 형성되며 차광 필름(a light shielding film)으로 제조된 반도체 집적회로 패턴과, 상기 반도체 회로 패턴의 투명한 영역의 한 부분상에 형성되며 투명한 필름으로 제조된 위상 시프터(a phase shift)와, 상기 유리 기판상에 형성되며 차광 필름으로 제조된 주기적으로 반복된 패턴 및, 상기 주기적으로 반복된 패턴의 투명한 부분마다 형성되어 있으며 투명한 필름으로 제조된 다수의 위상 시프터를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상 시프트 마스크.
  2. 제1항에 있어서, 라인과 공간 패턴(a line and space pattern)은 상기 주기적으로 반복된 패턴으로 사용되는 것을 특징으로 하는 위상 스프트 마스크.
  3. 위상 시프트 마스크상에서 위상 시프터의 투과율 오차를 측정하는 방법에 있어서, 위상 시프트 마스크상에 주기적으로 반복되는 패턴을 제공하고 상기 주기적으로 반복된 패턴의 투명한 부분마다 위상 시프터를 정열하는 단계와, 기판상에 형성된 포토레지스트 필름을 갖는 기판을 제공하는 단계와, 제1촛점조절 조건에서 상기 포토레지스트 필름의 제1부분을 주기적으로 반복되는 패턴의 투사광에 노출시키는 단계와, 제2촛점 조절 조건에서 포토레지스트 필름의 제2부분을 주기적으로 반복되는 패턴의 투사광에 노출시키는 단계 및, 포토레지스트 필름을 현상하고 위상 시프터의 투과율 오차를 얻기 위하여 제1부분과 제2부분에서 포토레지스트 패턴의 폭을 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상 시프터의 투과율 오차를 측정하는 방법.
  4. 위상 시프트 마스크상에서 위상 시프터의 위상 시프트 각도 오차를 측정하는 방법에 있어서, 위상 시프트 마스크상에 주기적으로 반복되는 패턴을 제공하고 상기 주기적으로 반복된 패턴의 투명한 부분마다 위상 시프터를 정열하는 단계와, 기판상에 형성된 포토레지스트 필름을 갖는 기판을 제공하는 단계와, 제1촛점 조절 조건에서 상기 포토레지스트 필름의 제1부분을 주기적으로 반복되는 패턴의 투사광에 노출시키는 단계와, 제2촛점 조절 조건에서 포토레지스트 필름의 제2부분을 주기적으로 반복되는 패턴의 투사광에 노출시키는 단계 및, 포토레지스트 필름을 현상하고 위상 시프터의 위상 시프트 각도 오차 얻기 위하여 제1부분과 제2부분에서 포토레지스트 패턴의 폭을 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상 스프터의 위상 시프트 각도 오차를 측정하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940002770A 1993-02-17 1994-02-17 위상 시프터의 위상 시프트 각도 오차를 측정하는 방법 KR0168142B1 (ko)

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