KR940020185A - 방향성 광 필터 및 필터 제작을 위한 홀로그래픽 투영기 시스템 - Google Patents

방향성 광 필터 및 필터 제작을 위한 홀로그래픽 투영기 시스템 Download PDF

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Abstract

감광성 광체는 홀로그램 투영기 시스템에 의해 발생되는 발산형 3차원 정재파 간섭 패턴에 의해 감광된다. 2진 감광체를 사용하는 투영기 시스템은 광학체를 통해 연장하는 6방형 또는 4각형 로드와 같은 최대 강도의 발산 격자를 발생시킨다. 정재파 영상이 기록 및 고정된 후, 광체는 법집형 격자 또는 패턴을 포함하게 되는데, 이 패턴은 발생된 채널을 통해 초점 또는 수렴점까지 정상적인 전파의 방향에 있어서 입사가 다른 광에 대한 흡수 또는 굴절률 변조 효과를 야기한다. 이것은 초점의 깊이, 고분해능, 및 일방향 지향성(방향 투시성)과 같은 특성을 제공함으로써 회절 감소에 따른 항광 방지 효과를 향상시키는 체적 흡수 홀로그램 또는 체적 위상 홀로그램[투과율(굴절률)에 의해 변조되는 전달 함수] 중 어느 하나를 생성한다. 고온 안정성 및 무극성 용액에 용해되는 특수한 감광성 방향성 디아조 화합물이 제공된다. 체적 흡수 홀로그램에서, 상기 화합물은 조사 동안 파괴 간섭에 대응하는 영역에 아조 염료를 형성하도록 현상되는 동안 광학체 내에서 결합제와 반응한다. 본 발명의 광학체는 본 명세서에서 안경 렌즈용으로 기재하였으나 현미경, 검출기, 필름, 비디오 카메라 및 여러 가지 다른 광학 장치용으로도 사용될 수 있다. 또한, 홀로그래픽 투영기 시스템은 주변 장치의 고속 수정 및 평면 또는 비평면 상에 중심계 메쉬 패턴을 기록할 수 있는 제작 방법을 제공할 수 있다.

Description

방향성 광 필터 및 필터 제작을 위한 홀로그래픽 투영기 시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 홀로그래픽 투영기 시스템의 양호한 일 실시예의 개략도,
제6도는 감광성 광학체와 결합된 왜곡 수정 렌즈부를 나타내는 더 확대된 개략도.

Claims (33)

  1. 감광성 기질을 조사하기 위한 홀로그래픽 투영기 시스템에 있어서, 평행한 광을 상대적으로 좁은 빔으로 만들어 제공하는 레이저 광원과, 선택된 에너지 윤곽 분포를 갖는 평행한 광을 신장된 빔으로 만들어 제공하기 위해 상기 좁은 빔의 강도 윤곽을 신장 및 분산하기 위한 수단과, 평행한 복수로 된 3개 이상의 발산 빔 속으로 상기 신장된 영역 빔을 분리하기 위한 수단과, 기질 상부로의 입사 동안 3차원 정재파 간섭 패턴을 발생시키도록 상기 복수의 빔을 신장하여 그들의 경로에서 교차하게 하기 위한 수단을 구비함으로써, 상기 간섭 패턴이 감광성 기질에 최대 강도의 발산 격자를 제공하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 빔 분리 수단과, 일정한 간섭 각으로 수정된 3차원 정재파 간섭 패턴을 제공하는 기질 간에 배치된 수정 렌즈 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 감광성 기질은 안경 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 감광성 기질은 포토레지스트, 굴절률 변조 매체 및 흡수 매체의 군으로부터 선택된 감광성 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  5. 제4항에 있어서, 상기 굴절률 변조 매체는 중크롬산염 젤라틴 및 광중합체 물질로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  6. 제4항에 있어서, 상기 광 흡수 및 폐색매체는 온 할로겐화물, 류코 연료, 아조 염료로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  7. 제1항에 있어서, 상기 감광성 기질은 소포성 디아조 물질을 포함하는 감광성 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  8. 제1항에 있어서, 상기 감광성 기질은 역소포성 디아조 물질을 포함하는 감광성 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 감광성 기질은 아조 염료 영상 물질과 결합된 역 소포성 디아조 물질을 포함하는 감광성 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  10. 제1항에 있어서, 상기 기질은 상부에 감광성 코팅을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  11. 제1항에 있어서, 상기 기질은 내부에 분산된 감광성 물질을 갖는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  12. 제11항에 있어서, 상기 감광성 물질은 디아조 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  13. 제11항에 있어서, 상기 감광성 물질은 장쇄 지방족기를 가지는 디아조 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  14. 제11항에 있어서, 상기 감광성 물질은 무극성 용매에 용해될 수 있는 디아조 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  15. 제1항에 있어서, 상기 빔 분리수단은 홀로그래픽 회절 격자를 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  16. 제15항에 있어서, 상기 홀로그래픽 회절 격자는 반복성 셀 패턴으로 정의되는 데.
    라벨된 숫자는 라디안으로 환산할 때 위상 레벨 0＝0, 1＝2π/3, 2＝π 및 3＝5π/3에 대응하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  17. 제15항에 있어서, 상기 홀로그래픽 회절 격자는 반복성 셀 패턴을 정의되는데,
    라벨된 숫자는 라디안으로 환산할 때 위상 레벨 0＝0.0, 1＝0.295167, 2＝0.6747584, 및 3＝0.647584에 대응하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  18. 제15항에 있어서, 상기 홀로그래픽 회절 격자는 반복성 셀 패턴으로 정의되는데,
    라벨된 숫자는 라이안으로 환산할 때 위상 레벨 0＝0, 1＝π/2 및 3＝3π/2에 대응하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  19. 제15항에 있어서, 상기 홀로그래픽 회절 격자는 입사된 신장 빔을 동일한 강도 윤곽이 3개의 발산 분광 등급 빔으로 분할하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  20. 제15항에 있어서, 상기 홀로그래픽 회절 격자는 입사된 신장 빔을 동일한 강도 윤곽의 4개의 발산 분광 등급 빔으로 분할하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  21. 제1항에 있어서, 상기 홀로그래픽 회절 수단 및 산란된 광에 의해 투영된 소망하지 않은 분광 등급 빔을 차단하기 위한 핀홀 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  22. 제2항에 있어서, 최대 강도의 발산 격자는 상기 최대 강도가 일정한 면적을 이루어 중심점으로부터 발산되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  23. 제1항에 있어서, 상기 좁은 빔을 형성하여 분배하기 위한 수단은 상기 좁은 빔을 상기 신장된 빔으로 재형상하기 위한 빔 신장기 수단과, 상기 신장된 윤곽에 따라 선택된 방식으로 빔 파두의 강도를 분배하기 위한 빔 윤곽 분배기 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  24. 제1항에 있어서, 상기 선택된 에너지 윤곽은 기질의 면에 따라 일정한 강도를 제공하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  25. 감광성 기질에 최대 강도의 발산 격자를 생성하는 방법에 있어서, 선택된 강도 윤곽을 가진 평행한 광 빔을 제공하는 단계와, 평행한 복수로 된 3개 이상의 발산 빔으로 상기 빔을 분리하는 단계와, 3차원 정재파 간섭 패턴을 발생시키도록 상기 복수의 빔을 신장하여 이들 경로에서 교차하게 하는 단계와, 내부에 최대 강도의 발산 격자를 발생시키도록 간섭 패턴으로 감광성 기질을 조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발산 격자 생성 방법.
  26. 제25항에 있어서, 일정한 간섭 각을 제공하도록 간섭 패턴을 수정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 발산 격자 생성 방법.
  27. 제25항에 있어서, 상기 평행한 빔 재공 단계는 신장된 단면에 평행한 빔을 형성하도록 레이저로부터 좁은 광 빔을 신장하는 단계와, 선택된 강도 윤곽을 제공하기 위해 빔의 파두를 분배하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발산 격자 생성방법.
  28. 제25항에 있어서, 상기 빔 분리 단계는 홀로그래픽 회절 격자로 빔을 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발산 격자 생성 방법.
  29. 제25항에 있어서, 상기 기질은 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 발산 격자 생성 방법.
  30. 제15항에 있어서, 상기 홀로그래픽 회절 격자는 반복성 셀 패턴으로 정의되는데,
    라벨된 숫자는 라디안으로 환산할 때 위상 레벨 0＝0 및 1＝π에 대응하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  31. 제4항에 있어서, 상기 감광성 기질로 굴절률 정합 용액에 침수될 때 조사되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  32. 제4항에 있어서, 상기 감광성 기질은 공기 중에서 조사되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
  33. 제4항에 있어서, 상기 감광성 기질은 부조 패턴을 생성하도록 조사 및 에칭된 후 현상되는 포토레지스트 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 투영기 시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940003101A 1993-02-22 1994-02-22 방향성 광 필터 및 필터 제작을 위한 홀로그래픽 투영기 시스템 KR940020185A (ko)

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