KR940006081B1 - Semiconductor memory device controllable current spending - Google Patents

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KR940006081B1
KR940006081B1 KR1019910019739A KR910019739A KR940006081B1 KR 940006081 B1 KR940006081 B1 KR 940006081B1 KR 1019910019739 A KR1019910019739 A KR 1019910019739A KR 910019739 A KR910019739 A KR 910019739A KR 940006081 B1 KR940006081 B1 KR 940006081B1
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삼성전자 주식회사
김광호
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Abstract

The device consists of a decoder which decodes given incoming addresses, a driver which puts a output signal from the decoder into an input node, and amplifies that signal to drive memory cell, a wordline driver which is inserted between a driver and a decoder and consists of discharge elements to discharge a voltage applied to the input nodes of the driver when the memory cell is unselected, and a capacitor which is inserted between the input nodes of the driver and a ground to restrain the voltage going up when the memory cell is unselected.

Description

오동작 및 대기시 전류소비가 억제되는 반도체 메모리 장치Semiconductor memory device with suppressed malfunction and standby current consumption

제 1 도는 종래 기술에 의한 워드라인 구동회로의 일 실시예.1 is an embodiment of a word line driver circuit according to the prior art.

제 2 도는 제 1 도의 전압 파형도.2 is a voltage waveform diagram of FIG.

제 3 도는 종래 기술에 의한 워드라인 구동회로의 다른 실시예.3 is another embodiment of a word line driver circuit according to the prior art.

제 4 도는 제 3 도의 전압 파형도.4 is a voltage waveform diagram of FIG.

제 5 도는 본 발명에 의한 워드라인 구동회로도.5 is a word line driver circuit diagram according to the present invention.

제 6 도는 제 5 도의 전압 파형도.6 is a voltage waveform diagram of FIG.

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 메모리 쎌(cell)을 구동시키는 회로에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor memory devices, and more particularly to circuits for driving memory cells.

반도체 메모리 장치가 고집적화됨에 따라 메모리 쎌의 불량 발생률이 증가되고 있다. 그래서 현재의 반도메 메모리 장치에는 불량난 메모리 쎌을 불량나지 않은 메모리 쎌로 대치하기 위한 리던던트(redundant) 메모리 쎌의 탑재를 필수적으로 하고 있다. 상기 리던던트 메모리 쎌로 불량난 메모리 쎌을 대치하는 동작을 리페어(repair)동작이라 하며, 상기 리페어 동작을 수행하기 위해서는 소정의 어드레스(address)를 디코딩(decoding)할 디코더회로가 필요하게 된다. 그래서 상기 디코더회로가 소정의 선택된 메모리 쎌을 구동하며, 이는 노멀 메모리 어레이(normal memory array)내의 메모리 쎌을 구동하기 위한 노멀 디코더회로와 리던던트 메모리 어레이내의 메모리 쎌을 구동하기 위한 리던던시 디코더회로로 나누어진다. 상기 노멀 또는 리던던시 디코더회로와 메모리 쎌의 사이에는 소정의 퓨우즈(fuse)가 삽입되며 상기 퓨우즈의 컷팅(cutting) 여하에 따라 소정의 메모리 쎌의 선택 또는 비선택이 이루어진다. 이하 본 명세서상에서는 설명의 편의상, 소정의 어드레스로 부터 메모리 쎌의 워드라인을 선택하기 위하여 구비되는 상기 디코더회로 및 상기 퓨우즈등을 통합해서 워드라인 구동회로라 칭한다.As the semiconductor memory device is highly integrated, the failure rate of the memory chips is increased. Therefore, in the current bandome memory device, it is necessary to mount a redundant memory chip to replace the defective memory chip with the bad memory chip. The operation of replacing the defective memory 쎌 with the redundant memory 이라 is called a repair operation, and in order to perform the repair operation, a decoder circuit for decoding a predetermined address is required. Thus, the decoder circuit drives a predetermined selected memory chip, which is divided into a normal decoder circuit for driving a memory chip in a normal memory array and a redundant decoder circuit for driving a memory chip in a redundant memory array. . A predetermined fuse is inserted between the normal or redundancy decoder circuit and the memory chip, and a predetermined memory chip is selected or deselected depending on the cutting of the fuse. In the following description, for convenience of description, the decoder circuit, the fuse, and the like provided to select a word line of the memory V from a predetermined address are collectively referred to as a word line driving circuit.

이와 관련하여 종래에 제시된 워드라인 구동회로에 관하여 제 1 도에 도시하였다. 그리고 상기 제 1 도의 전압 파형도를 제 2 도에 도시하였다. 상기 제 1 도의 구성은 스태틱 램(static RAM)의 일부분 회로도로서 구성에서 디코더회로의 구성소자는 이 분야에 공지된 사항이며 발명의 요점과 관계없는 것으로 생략하였다. 종래기술에 의한 워드라인 구동회로(50)는, 소정의 어드레스를 입력하여 이를 디코딩하기 위한 디코더회로(10)와, 상기 디코더회로(10)의 출력단에 연결되어 있는 퓨우즈(f1)와, 상기 퓨우즈(f1) 및 메모리 쎌(30) 사이에 삽입되어 상기 디코더회로(10)의 출력을 증폭하기 위한 드라이버단(20)과, 상기 드라이버단(20)의 입력노드인 n1에 접속된 저항소자(R)로 구성된다.In this regard, the word line driving circuit shown in the related art is shown in FIG. The voltage waveform diagram of FIG. 1 is shown in FIG. The configuration of FIG. 1 is a partial circuit diagram of the static RAM, in which the components of the decoder circuit are well known in the art and are not related to the gist of the invention. The conventional word line driver circuit 50 includes a decoder circuit 10 for inputting and decoding a predetermined address, a fuse f1 connected to an output terminal of the decoder circuit 10, and A resistor terminal 20 inserted between the fuse f1 and the memory V30 to amplify the output of the decoder circuit 10 and a resistor connected to n1 which is an input node of the driver stage 20. And (R).

상기 제 1 도 회로의 동작 특성을 상기 제 2 도를 참조하여 설명한다. 소정의 어드레스가 입력되어 디코딩된 후에 이는 워드라인(31)으로까지 연결되어 상기 어드레스에 따른 소정의 메모리 쎌(30)이 선택된다. 이때 상기 메모리 쎌(30)에 결함이 없을시에는(즉, 불량쎌이 아닐시에는) 상기 퓨우즈(f1)는 컷팅되지 않게 된다. 그러나 상기 메모리 쎌(30)이 불량쎌로 판명이 될시에는 상기 퓨우즈(f1)를(레이저(laser)투사등의 방법으로) 컷팅한다. 그러면 상기 저항소자(R)에 연결된 n1노드가 접지전압(Vss) 레벨로 되고 이에 따라 n3노드도 접지전압(Vss)레벨로 되어 상기 워드라인(31)은 항상 디세이블(disable)상태로 된다. 그리고 나서 칩의 동작시에 상기와 같은 불량쎌이 선택될시에 컷팅된 상기 퓨우즈(f1)에 의하여 상기 n1노드로는 디코딩된 신호가 전달되지 않으며 상기의 선택된 어드레스는 리던던시 디코더(도시되지 않음)에서 디코딩된후 리던던트 워드라인(도시되지 않음)신호를 인에이블(enable)시켜 리던던트 메모리 쎌(도시되지 않음)로 대치하게 된다. 상기에 불량난 상기 노멀 워드라인(31)신호를 발생하는 회로 구성에서 상기 퓨우즈(f1)가 컷팅되었을시에 상기 n1노드는 저항소자(R)에 연결되어 있는데, 상기 저항소자(R)는 상기 메모리 쎌(30)의 로드(load)저항 재질로서 통상적으로 109-1012Ω 단위의 고저항으로 구성되어 있다. 그리고 상기 저항소자(R)에 연결된 n1노드는 상기 드라이버단(20)내의 T1트랜지스터의 게이트단자에 연결되어 있는데, 여기서 상기 게이트단자와 전원전압(Vcc)단 사이에는 소정의 기생 캐패시턴스(capacitance)가 존재한다.The operating characteristics of the first FIG. Circuit will be described with reference to FIG. After a predetermined address is input and decoded, it is connected to the word line 31 to select a predetermined memory 30 30 according to the address. At this time, when there is no defect in the memory V30 (that is, when it is not defective), the fuse f1 is not cut. However, when the memory V30 turns out to be defective, the fuse f1 is cut (by laser projection or the like). Then, the n1 node connected to the resistance element R becomes the ground voltage Vss level, and thus, the n3 node also becomes the ground voltage Vss level, so that the word line 31 is always in a disabled state. Then, the decoded signal is not transmitted to the n1 node by the fuse f1, which is cut when such a defect is selected in the operation of the chip, and the selected address is a redundancy decoder (not shown). After decoding, the redundant word line (not shown) signal is enabled and replaced with a redundant memory 쎌 (not shown). In the circuit configuration that generates the defective normal word line 31 signal, the n1 node is connected to the resistance element R when the fuse f1 is cut. As a load resistance material of the memory V30, it is generally composed of a high resistance of 10 9 -10 12 kV units. The n1 node connected to the resistance element R is connected to the gate terminal of the T1 transistor in the driver terminal 20, wherein a parasitic capacitance is formed between the gate terminal and the power supply voltage Vcc terminal. exist.

그래서 칩에 최초로 상기 전원전압(Vcc)이 파워-업되어 인가될때 상기 n1노드는 상기 제 2 도의 파형도상으로 나타나는 것처럼 전원전압(Vcc)의 증가와 함께 상기 T1트랜지스터의 게이트-Vcc간의 캐패시턴스에 의하여 커플링(coupling)되어 전압이 증가하게 된다. 상기 n1노드에 순간적으로 차아지된 전압은 상기 저항소자(R)에 의해 방전(discharge)되는데 이 시간은 보통 수십ms-수ms까지 된다. 따라서 n2노드는 상기 n1노드의 전압에 의해 전압레벨이 결정되므로 T4트랜지스터를 구동시킬만한 "하이(high)"레벨로 차아지(charge)되지 못한다. 그래서 칩에 최초로 파워-업(power-up)된 후 상기 n1노드가 접지전압(Vss)레벨로 방전되는 기간동안에(즉, 상기 제 2 도의 t1구간내에) 칩의 테스트(test)가 시작되고 상기 메모리 쎌(30)이 선택되면, 이 기간동안 상기의 노멀 워드라인(31)은 "하이"상태이기 때문에 불량쎌이 선택되어 칩이 오동작을 하게 된다. 또한 이때 상기 n1노드가 "하이"레벨이나 "로우(low)"레벨이 아닌 불명확한 전압레벨로 있게 되어 T1 및 T2트랜지스터의 채널을 통한 직류전류가 발생되어 t1기간내에서 칩의 테스트시에 대기시(stand-by) 누설전류나 과잉전류 등과 같은 전류 페일(fail)을 야기시킨다.Therefore, when the power supply voltage Vcc is powered up and applied to the chip for the first time, the n1 node is caused by the capacitance between the gate and Vcc of the T1 transistor with the increase of the power supply voltage Vcc as shown in the waveform diagram of FIG. Coupling results in an increase in voltage. The voltage charged instantaneously to the n1 node is discharged by the resistance element R, which is usually up to several tens ms to several ms. Therefore, since the voltage level is determined by the voltage of the n1 node, the n2 node cannot be charged to a "high" level capable of driving the T4 transistor. Thus, during the period in which the n1 node is discharged to the ground voltage (Vss) level after the first power-up to the chip (that is, within the t1 section of FIG. 2), the test of the chip is started and the If the memory chip 30 is selected, since the normal word line 31 is in a "high" state during this period, a bad chip is selected and the chip malfunctions. At this time, the n1 node is at an indeterminate voltage level, not at the "high" level or the "low" level, so that a DC current is generated through the channels of the T1 and T2 transistors, so that the standby time during the test of the chip within the t1 period is achieved. This causes current failures such as stand-by leakage current or excess current.

상술한 상기 제 1 도 회로의 문제점을 보완하기 위하여 종래에 제시된 다른 워드라인 구동회로를 제 3 도에 도시하였다. 상기 제 3 도의 회로는 상기 제 1 도 회로의 고저항소자(R)를 항상 "턴온"되어 있는 트랜지스터(Tn)소자로 대치한 것으로, 그외의 구성소자는 상기 제 1 도의 회로와 동일하다. 상기 제 3 도의 전압파형도를 제 4 도에 도시하였으며 상기 제 3 도의 동작특성을 상기 제 4 도를 참조하여 설명한다. 상기 제 3 도의 회로는 전원전압에 게이트가 접속되어 방전시간이 빠르게 이루어지는 엔모오스 트랜지스터(Tn)를 구비하므로서 예를 들어 소정의 메모리 쎌이 불량쎌로 판명되어 이를 디세이블시킬시에 n4노드의 전위를 상기 엔모오스 트랜지스터(Tn)를 통해서(상기 제 4 도에 도시된 바와 같이) 빠른 시간내에 방전시키게 된다. 여기서 상기 엔모오스 트랜지스터(Tn)는, 상기 워드라인(31)이 선택되어 "하이"로 인에이블되어 있을 동안 채널을 통하여 소모되는 전류값을 작게하기 위하여 채널 사이즈를 작게 만들게 된다. 그러나 이로부터 상기 제 1 도와 같은 회로에서 발생되었던 문제를 근본적으로 해결하지 못하게 된다.Another word line driving circuit conventionally proposed in FIG. 3 is shown in FIG. 3 to compensate for the above-described problem of the FIG. 1 circuit. The circuit of FIG. 3 replaces the high resistance element R of the circuit of FIG. 1 with the transistor Tn which is always " turned on ". Other components are the same as those of FIG. The voltage waveform diagram of FIG. 3 is shown in FIG. 4 and the operating characteristics of FIG. 3 will be described with reference to FIG. The circuit of FIG. 3 has an NMOS transistor Tn connected to a gate to a power supply voltage so that the discharge time is fast, so that, for example, the potential of the n4 node when a predetermined memory pin is found to be bad and disabled. Is discharged through the enMOS transistor Tn (as shown in FIG. 4 above) in a short time. In this case, the NMOS transistor Tn makes the channel size small in order to reduce the current value consumed through the channel while the word line 31 is selected and enabled “high”. However, this does not fundamentally solve the problem that occurred in the same circuit as the first degree.

즉, 상기 제 3 도 회로를 내장한 칩의 상기 메모리 쎌(30)이 불량쎌로 판명되어 상기 워드라인(31)을 비선택화할시에 상기 워드라인(31)에 연결된 퓨우즈(f2)가 컷팅되어 상기 워드라인(31)을 비선택화하게 된다. 그러나 이때 상기의 칩을 파워-업시킬시에 상기 T5트랜지스터의 입력노드인 상기 n4노드는 상기 T5트랜지스터의 게이트-Vcc간의 캐패시턴스에 의하여 전압이 상승하게 된다. 이 상승된 전압은 상기 Tn트랜지스터의 채널을 통해서 방전하게 된다. 그러나 이때, 상기 제 4 도에 도시된 바와 같이, 상기 n4노드의 상승된 전압이(크기가 작은) 상기 Tn트랜지스터의 채널을 통해서 방전되는 시간은 상기 Tn트랜지스터의 크기에 반비례하여 늦어지게 되며, 이는 상기 제 1 도 회로의 Vcc 커플링 전압에 의한 상승전압 및 방전되는 시간의 지연으로 인한 칩의 오동작 문제를 완전히 해결하지 못하게 된다. 그러나 제 3 도에서의 Tn의 저항값은 제 1 도에서 저항 R값 보다는 작기 때문에 상승된 전압의 방전 시간은 상대적으로 짧아(t1>t2) WL(31)의 인에이블상태는 제 1 도에서의 WL 인에이블 기간 보다는 단축된다. 또한 상기의 상승된 n4노드 전압에 의해 T5 및 T6트랜지스터의 채널을 통한 직류전류가 발생되어 칩의 테스트시에 대기시 전류 페일을 발생시킨다.That is, the fuse f2 connected to the word line 31 is de-selected when the memory V30 of the chip including the FIG. 3 circuit is found to be defective. It is cut to deselect the word line 31. However, at this time, when the chip is powered up, the n4 node, which is an input node of the T5 transistor, has a voltage increased due to the capacitance between the gate and Vcc of the T5 transistor. This elevated voltage is discharged through the channel of the Tn transistor. However, at this time, as shown in FIG. 4, the time for which the elevated voltage of the n4 node (small in size) is discharged through the channel of the Tn transistor becomes inversely proportional to the size of the Tn transistor, which is The malfunction of the chip due to the delay of the rising time and the discharge time due to the Vcc coupling voltage of the FIG. 1 circuit is not completely solved. However, since the resistance value of Tn in FIG. 3 is smaller than the resistance R value in FIG. 1, the discharge time of the elevated voltage is relatively short (t1 > t2), and the enable state of the WL 31 is shown in FIG. It is shorter than the WL enable period. In addition, the elevated n4 node voltage generates a direct current through the channels of the T5 and T6 transistors, resulting in a standby current failure during the test of the chip.

따라서 본 발명의 목적은 칩의 테스트시 칩의 오동작 및 대기시 전류 페일을 방지하는 워드라인 구동회로를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a word line driving circuit which prevents chip malfunction and standby current failure during test of the chip.

상기 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 소정의 어드레스를 입력하여 이를 디코딩하는 디코더회로와 상기 디코더회로의 출력신호를 소정의 노드에 입력하고 상기의 신호를 증폭하여 이를 소정의 메모리 쎌을 구동하는 신호로서 출력시키는 드라이버회로와 상기 디코더회로 및 드라이버회로 사이에 삽입되는 상기 드라이버회로의 입력노드의 전압을 방전시키기 위한 방전용 소자를 가지는 워드라인 구동회로에 있어서, 상기 드라이버회로의 입력노드와 소정의 접지전압단 사이에 접속되어 상기 입력노드의 전압상승을 억제하기 위한 억제용 소자를 구비함을 특징으로 한다. 상기에서 상기 억제용 소자는 노멀 메모리 쎌 어레이에 구비된다.In order to achieve the object of the present invention, the present invention provides a decoder circuit for inputting and decoding a predetermined address and an output signal of the decoder circuit to a predetermined node and amplifying the signal to obtain a predetermined memory chip. A word line driver circuit having a driver circuit for outputting as a driving signal and a discharge element for discharging a voltage of an input node of the driver circuit inserted between the decoder circuit and the driver circuit, comprising: an input node of the driver circuit; It is characterized by comprising a suppression element connected to a predetermined ground voltage terminal for suppressing the voltage rise of the input node. In the above, the suppression element is provided in a normal memory array.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 의한 억제용 소자를 구비하는 반도체 메모리 장치의 워드라인 구동회로를 제 5 도에 도시하였다. 그리고 상기 제 5 도의 회로가 파워-업될시의 전압 파형도를 제 6 도에 도시하였다.5 shows a word line driving circuit of a semiconductor memory device including the suppressing element according to the present invention. 6 shows a voltage waveform diagram when the circuit of FIG. 5 is powered up.

본 발명에 의한 상기 제 5 도에서 각 디코더회로(60,60')와 각 드라이버회로(70,70')와 각 메모리 쎌(80,80')은 공지된 사항들이므로 설명을 생략한다. 본 발명에 의한 구성상 특징은 상기 드라이버회로(70)의 입력노드(N10)와 소정의 접지전압단(Vss) 사이에 전압상승 억제용 소자인 캐패시터(CN)를 구비한 것이다.In FIG. 5 according to the present invention, the decoder circuits 60 and 60 ', the driver circuits 70 and 70', and the memory chips 80 and 80 'are well known and thus will not be described. A configuration feature according to the present invention is provided with a capacitor CN which is a voltage increase suppressing element between an input node N10 of the driver circuit 70 and a predetermined ground voltage terminal Vss.

상기한 제 5 도의 구성에 의거한 동작특성을 상기 제 6 도를 참조하여 상세히 설명한다. 본 발명에 의한 워드라인 구동회로(100)를 내장한 칩을 테스트하여 상기 메모리 쎌(80)이 불량쎌로 판명되면 퓨우즈 F1을 컷팅시켜 노멀 워드라인(81)을 디세이블시킨다. 그래서 상기 메모리 쎌(80)을 선택하는 어드레스가 인가시에는 상기의 리던던트용 메모리 쎌(80')이 선택되도록 한다. 상기와 같은 리페어 동작을 완료한 칩을 다시 테스트하는 경우나 아니면 그외의 경우에서 칩을 파워-업시키면서 상기의 메모리 쎌(80)을 선택하는 어드레스가 인가될시에 상기 드라이버회로(70)의 전원전압(Vcc)단자에 전압이 상승하면서 T10트랜지스터의 입력노드인 상기 N10노드는 상기 T10트랜지스터의 게이트-Vcc간의 기생 캐패시턴스에 의하여 전압이 상승하게 된다. 그러나 이때의 상승되는 전압은 극히 미약한 정도인데 이는 상기 캐패시터(CN)에 의해 이루어진다.Operation characteristics based on the configuration of FIG. 5 described above will be described in detail with reference to FIG. When the chip including the word line driver circuit 100 according to the present invention is tested and the memory 쎌 80 is found to be defective 퓨, fuse F1 is cut to disable the normal word line 81. Therefore, when the address for selecting the memory chip 80 is applied, the redundant memory chip 80 'is selected. The power supply of the driver circuit 70 when the chip for which the repair operation is completed is tested again or when the address for selecting the memory chip 80 is applied while powering up the chip in other cases. As the voltage increases to the voltage Vcc terminal, the N10 node, which is an input node of the T10 transistor, is increased by a parasitic capacitance between the gate and Vcc of the T10 transistor. However, the rising voltage at this time is extremely weak, which is achieved by the capacitor CN.

즉, 상기 T10트랜지스터의 게이트-Vcc간의 기생 캐패시턴스에 의하여 상기 N10노드의 전압이 상승하여도 이는 상기 캐패시터(CN) (즉, N10노드쪽 단자)에 축적되고, 상기의 축적된 전압은 상기 캐패시터(CN)의 커플링효과에 의해 바로 방전하게 된다. (즉, 상기 캐패시터(CN)가 접지전압(Vss)단자에 접속되어 있으므로 상기 캐패시터(CN)에 축적되는 전압은 상기 캐패시터(CN)의 커플링효과에 의하여 바로 방전하게 된다.) 그래서 상기 N10노드에는, 칩이 파워-업되어 상기 드라이버(80)회로의 전원전압(Vcc)단자에 전압이 상승되고 이에 따른 T10트랜지스터의 게이트-Vcc간의 기생 캐피시턴스에 의한 전압상승이 최대한 억제된다. 따라서 상기 메모리 쎌(80)을 선택하는 워드라인(81)은 계속 디세이블 상태를 유지하게 되어 칩의 오동작이 발생되지 않는다. 또한 상기 캐패시터(CN)의 억제효과에 의하여 상기 N10노드의 전압은 상기 T10 및 T20트랜지스터를 동시에 "턴온"시키는 전압으로 되지 않기 때문에 상기 드라이버회로(70)내에는 직류전류가 발생되지 않게 됨에 따라 칩의 테스트시 대기시 전류페일을 방지할 수 있게 된다.That is, even if the voltage of the N10 node rises due to the parasitic capacitance between the gate and Vcc of the T10 transistor, it is accumulated in the capacitor CN (that is, the N10 node side terminal), and the accumulated voltage is stored in the capacitor ( It is discharged immediately by the coupling effect of CN). (In other words, since the capacitor CN is connected to the ground voltage Vss terminal, the voltage accumulated in the capacitor CN is directly discharged due to the coupling effect of the capacitor CN.) Thus, the N10 node. The chip is powered up to increase the voltage at the power supply voltage Vcc terminal of the driver 80 circuit, thereby suppressing the voltage increase due to parasitic capacitance between the gate and Vcc of the T10 transistor. Therefore, the word line 81 selecting the memory 80 80 remains disabled so that no chip malfunction occurs. In addition, since the voltage of the N10 node does not become a voltage that simultaneously "turns on" the T10 and T20 transistors due to the suppression effect of the capacitor CN, the DC current does not occur in the driver circuit 70. This prevents standby current failure during the test.

한편 제 5 도에서 메모리 쎌(80)이 정상인 경우에 드라이버회로(70)은 통상의 드라이버회로처럼 동작하게 된다. 즉, 퓨우즈 F1이 연결된 상태 그대로 존재하게 되어 노멀 디코더(60)의 출력이 메모리 쎌(80)을 선택하는 통상의 디코딩동작을 수행하게 된다. 이때 리던던시 디코더(60')의 출력은 접지상태가 되어 리던던시 메모리 쎌(80')의 워드라인 81'가 접지상태로서 쎌의 선택동작이 이루어지지 않는다. 여기서 캐패시터(CN)는 노멀 워드라인(81)의 선택시 N10노드에 걸리는 전압을 방전하는 것에 대하여 영향을 주지는 않음을 유의하여야 할 것이다. 왜냐하면 워드라인이 선택될시에 N10노드에 걸리는 전압의 크기 및 인가되는 시간과 퓨우즈 F10이 컷팅되고 나서 전원의 파워-업시 T10트랜지스터의 게이트-Vcc간의 기생 캐패시턴스에 의한 전압의 상승 및 그 유지시간은 커다란 차이가 있기 때문이다. 당 기술분야에 주지의 사실인 바와 같이 노멀 디코더(60)는 워드라인 81에 걸리는 전압의 공급 및 그 방전을 담당하게 된다. 따라서 N10노드에 전압이 걸릴시에 저항용으로서의 엔모오스 트랜지스터(TN)과 캐패시터(CN)를 통한 방전은 다소 있게 되지만, 이는 워드라인 81의 선택을 어렵게 할 정도의 양은 아니며, 동시에 N10노드에 걸리는 전압도 퓨우즈 F10이 컷팅되고 나서 전원의 파워-업시 T10트랜지스터의 게이트-Vcc간의 기생 캐패시턴스에 의해 상승되는 전압보다는 훨씬 크게 되기 때문이며, 이는 당 기술분야에 통상의 지식을 가진자라면 용이하게 이해할 수 있을 것이다.On the other hand, in FIG. 5, when the memory chip 80 is normal, the driver circuit 70 operates like a normal driver circuit. In other words, the fuse F1 remains connected so that the output of the normal decoder 60 performs a normal decoding operation of selecting the memory 쎌 80. At this time, the output of the redundancy decoder 60 'is grounded, and the word line 81' of the redundancy memory V 80 'is grounded, and the selection operation of V is not performed. It should be noted that the capacitor CN does not affect the discharge of the voltage applied to the N10 node when the normal word line 81 is selected. This is because the voltage and the time applied to the N10 node when the word line is selected and the rise and sustain time of the voltage due to the parasitic capacitance between the gate and Vcc of the T10 transistor when the power-up of the power supply after the Fuse F10 is cut. Because there is a big difference. As is well known in the art, the normal decoder 60 is responsible for supplying and discharging the voltage across word line 81. Therefore, when the voltage is applied to the N10 node, discharge through the NMOS transistor (TN) and the capacitor (CN) as a resistor becomes somewhat, but this is not an amount that makes it difficult to select word line 81, and at the same time, This is because the voltage is much higher than the voltage raised by the parasitic capacitance between the gate and Vcc of the T10 transistor at power-up after the Fuse F10 is cut, which is easily understood by those skilled in the art. There will be.

상기 제 6 도에 도시된 바와 같이 메모리 쎌(80)을 선택하는 워드라인(81)의 전압은 칩이 파워-업되어도 캐패시터(CN)에 의해 그 상승레벨이 상기 제 4 도에 도시된 파형도보다 낮아지게 되며, 이에 따라 칩의 동작을 안정하게 한다. 이를 상세히 언급하면, 제 6 도에서 칩이 파워-업되어 전원전압이 0V에서 Vcc레벨(이는 통상의 정상 전원전압레벨임)로 상승되어 드라이버회로(70)의 전원전압(Vcc)단자에 전압이 상승하면서 T10트랜지스터의 입력노드인 상기 N10노드는 상기 T10트랜지스터의 게이트-Vcc간의 기생 캐패시턴스에 의하여 전압이 일시적으로 상승하게 된다. 여기서 제 5 도의 구성과 같이 캐패시터(CN)을 구성하게 되면, 피모오스 트랜지스터(T10)의 소오스단자와 N10노드와의 사이의 기생 캐패시턴스와 본 발명에 의한 캐패시터(CN)의 성분은 서로 직렬연결된 상태가 된다. 그래서 상대적으로 큰 용량인 캐패시터(CN)에 의해 전원전압이 상승되더라도 N10노드에 걸리는 전압은, 상기 캐패시터(CN)(즉, N10노드쪽 단자)에 축적되고, 상기의 축적된 전압은 상기 캐패시터(CN)의 커플링효과에 의해 바로 방전하게 됨에 의해 그 레벨이 극히 미약하게 되어 제 6 도에 도시된 바와 같이 T10 또는 T20을 트립시키는 레벨까지 상승하지는 못하게 된다.As shown in FIG. 6, the voltage of the word line 81 that selects the memory chip 80 is increased by the capacitor CN even when the chip is powered up. Lower, thereby making the operation of the chip stable. In detail, the chip is powered up in FIG. 6 so that the power supply voltage rises from 0V to the Vcc level (which is a normal normal power supply voltage level) so that the voltage is applied to the power supply voltage Vcc terminal of the driver circuit 70. As the voltage rises, the N10 node, which is an input node of the T10 transistor, temporarily increases due to parasitic capacitance between the gate and Vcc of the T10 transistor. Here, when the capacitor CN is configured as shown in FIG. 5, the parasitic capacitance between the source terminal of the PMOS transistor T10 and the N10 node and the components of the capacitor CN according to the present invention are connected in series. Becomes Thus, even if the power supply voltage is increased by the relatively large capacitor CN, the voltage applied to the N10 node is accumulated in the capacitor CN (that is, the N10 node side terminal), and the accumulated voltage is stored in the capacitor ( Direct discharge by the coupling effect of CN) causes the level to be extremely weak and does not rise to the level at which T10 or T20 is tripped as shown in FIG.

한편 본 발명에 의한 전압억제소자인 캐패시터(CN)의 크기는 칩의 동작속도 및 상기 드라이버회로(70)의 크기에 따라 적절한 용량값을 갖도록 조절할 수 있음을 유의하기 바란다.Meanwhile, it should be noted that the size of the capacitor CN, which is a voltage suppressor according to the present invention, can be adjusted to have an appropriate capacitance value according to the operating speed of the chip and the size of the driver circuit 70.

상술한 바와 같이 본 발명에 의한 워드라인 구동회로는, 드라이버회로의 입력노드에 전압상승억제용 소자를 구비하므로서 직류전류의 발생을 방지하여 대기시 전류의 소비를 억제하고, 칩의 오동작을 방지하여 칩의 동작특성을 향상시킨다.As described above, the word line driving circuit according to the present invention includes a voltage increase suppressing element at an input node of the driver circuit, thereby preventing the generation of direct current, suppressing the consumption of standby current, and preventing chip malfunction. Improve the operating characteristics of the chip.

Claims (2)

소정의 어드레스를 입력하여 이를 디코딩하는 디코더회로(60)와, 상기 디코더회로(60)의 출력신호를 소정의 입력노드(N10)에 입력하고 상기의 신호를 증폭하여 이를 소정의 메모리 쎌(80)을 구동하는 신호(81)로서 출력시키는 드라이버회로(70)와, 상기 디코더회로(60) 및 드라이버회로(70) 사이에 삽입되고 상기 메모리 쎌(80)의 비선택시 상기 드라이버회로(70)의 입력노드(N10)에 걸리는 전압을 방전시키기 위한 방전용 소자(TN)로 이루어지는 워드라인 구동회로를 가지는 반도체 메모리 장치에 있어서, 상기 워드라인 구동회로가, 상기 드라이버회로(70)의 입력노드(N10) 및 소정의 접지전압(Vss)단자 사이에 접속되어 상기의 메모리 쎌(80)이 비선택화될시에 상기 입력노드(N10)의 전압상승을 억제하기 위한 억제용 소자를 구비함을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.A decoder circuit 60 for inputting a predetermined address and decoding the same; and an output signal of the decoder circuit 60 to a predetermined input node N10, amplifying the signal, and amplifying the predetermined signal; Is inserted between the decoder circuit 60 and the driver circuit 70, and outputs the signal as a driving signal 81, when the memory chip 80 is unselected. A semiconductor memory device having a word line driving circuit comprising a discharge element TN for discharging a voltage applied to an input node N10, wherein the word line driving circuit is an input node N10 of the driver circuit 70. And a suppression element connected between a predetermined ground voltage (Vss) terminal and suppressing a voltage rise of the input node N10 when the memory V80 is deselected. Semiconductor memory device . 제 1 항에 있어서, 상기 억제용 소자가, 상기 드라이버회로(70)의 입력노드(N10) 및 접지전압(Vss)단자 사이에 전극의 양단이 접속되어 캐패시터(CN)로 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.The semiconductor device according to claim 1, wherein the suppressing element is formed of a capacitor (CN) by connecting both ends of an electrode between an input node (N10) and a ground voltage (Vss) terminal of the driver circuit (70). Memory device.
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