KR940000852A - 윤곽검출 전처리 회로 - Google Patents

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    • G01B7/28Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring contours or curvatures
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    • H03D1/14Demodulation of amplitude-modulated oscillations by means of non-linear elements having more than two poles
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Abstract

본 발명은 윤곽 평탄도를 측정하고자 입력하는 신호중에 포함된 DC성분을 차단하거나 일정주파수이상만 통과시키는 입력신호 조정부(10)와, 상기 입력신호 조정부(10)에서 출력된 신호의 윤곽을 상·하측으로 분리하여 검출하는 제1,2 반파정류부(20),(30)와, 상기 제1,2반파정류부(20),(30)에서 각각 검출된 고주파신호를 저주파 신호로 변환하여 윤곽을 얻는 제1,2 주파수 변환부(40)(50)와, 상기 제1,2 주파수변환부(40)(50)에서 각각 출력된 저주파 신호중에서 선택된 신호를 디지탈신호로 변환하는 아날로그/디지탈 변환부(60)와, 상기 아날로그/디지탈 변환부(60)에서 출력된 데이터와 내부프로그램상에 저장된 기준데이터를 비교하여 윤곽 평탄도를 측정하는 시스템 콘트롤러(70)를 구비하여 샘플링속도가 늦는 아날로그/디지탈 변환기를 사용해도 고주파신호의 윤곽을 검출하도록 하는 것이다.

Description

윤곽검출 전처리 회로
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 윤곽검출 전처리(preprocessing)회로의 개요도.
제2도는 본 발명에 의한 윤곽검출 전처리회로의 실시예시도.

Claims (3)

  1. 윤곽 평탄도를 측정하기위해 입력되는 신호중에 포함되어있는 DC성분을 차단허거나 일정주파수이상만 통과시키는 입력신호 조정부(10)와, 상기 입력신호 조정부(10)에서 출력된 신호의 윤곽을 상·하측으로 분리하여 검출하는 제1,2반파정류부(20)(30)와, 상기 제1,2반파정류(20)(30)에서 각각 검출된 고주파신호를 저주파신호로 변환하여 윤곽을 얻는 제1,2주파수 변환부(40),(50)와, 상기 제1,2주파수 변환부(40)(50)에서 각각 출력된 저주파 신호중에서 선택된 신호를 디지탈신호로 변환하는 아날로그/디지탈 변환부(60)와, 상기 아날로그/디지탈 변환부(60)에서 출력된 데이터와 내부프로그램상에 저장된 기준데이터를 비교하여 운곽 평탄도를 측정하는 시스템 콘트롤러(70)로 구성한 것을 특징으로 하는 윤곽검출 전처리 회로.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1반파정류분(20)는 전달함수가 저항(R2)(R3)에 의해서로 결정되는 연산증폭기(op 1)와, 이 연산증폭기(op 1)의 반전단자와 출력단자에 순방향으로 접속된 다이오드(D1)와, 상기 다이오드(D1)의 캐소우드단자와 출력단에 순방향으로 접속된 다이오드(D2)로 구성한 것을 특징으로 하는 윤곽검출 전처리 회로.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1,2주파수변환부(40)(50)는 제1,2윤곽분리검출부(20)(30)에서 검출되어 출력된 고주파 신호를 저주파 신호로 변환하도록 저역필터로 구성한것을 특징으로 하는 윤곽검출 전처리 회로.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920010088A 1992-06-10 1992-06-10 윤곽검출 전처리 회로 KR0168063B1 (ko)

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