Claims (14)
고체/액체 및/또는 액체/액체 혼합물을 분산, 혼합 또는 균질화시키는 공정으로서, 균질화되는 분산액 또는 현탁액이 적어도 부분적으로 분쇄체(9)로 채워지고 적어도 두개의 회전가능한 기벽요소(2,4)로 둘러싸인회전 분쇄 챔버(5)로 도입되며, 균질화되는 분산액 또는 현탁액이 기벽요소(2,4)의 회전축(3,18)에 가로지르는 방향으로 분쇄 챔버(5)를 통해 이동 또는 안내되는 것을 특징으로 하는 공정.A process for dispersing, mixing or homogenizing a solid / liquid and / or liquid / liquid mixture, wherein the homogenized dispersion or suspension is at least partially filled with a pulverized body 9 and at least two rotatable wall elements 2, 4. Is introduced into the enclosed rotary grinding chamber 5, characterized in that the homogenized dispersion or suspension is moved or guided through the grinding chamber 5 in a direction transverse to the rotary shafts 3 and 18 of the wall elements 2 and 4; Process.
제1항에 있어서, 혼합되는 물질 또는 분쇄체/분쇄물질 혼합물이 두개의 기벽요소(2,4)와 동일한 회전속도로 회전하도록 이동되며, 혼합되는 물질 또는 본쇄체/분쇄물질 혼합눌이 적오도 회전축(3,18)에 향하여 1회 그리고 회전축으로 부터 멀어지게 1회, 주기적으로 이동되는 것을 특징으로 하는 공정.The method of claim 1, wherein the mixed material or the pulverized material / pulverized material mixture is moved to rotate at the same rotational speed as the two wall elements (2, 4), and the mixed material or the main body / pulverized material mixture is not less than Characterized in that it is periodically moved once, towards the rotating shaft (3, 18) and once away from the rotating shaft.
제1항 또는 제2항에 있어서, 혼합챔버(5)에 들어가기 전에, 분산액 또는 현탁액이 분쇄 챔버(5)의 기벽요소(2,4)의 외부에서 회전면들(13,14)사이에 전단 변형력을 받게하는 것을 특징으로 하는 공정.The shear deformation force according to claim 1 or 2, before entering the mixing chamber 5, the dispersion or suspension between the rotating surfaces 13, 14 at the outside of the wall elements 2, 4 of the grinding chamber 5. Process characterized by receiving.
제1항, 제2항에 또는 제3항에 있어서, 축방향 도관(17)을 통해 균일한 혼합물이 배출되는 것을 특징으로 하는 공정.Process according to claim 1, 2 or 3, characterized in that a homogeneous mixture is discharged through the axial conduit (17).
제1항 내지 4항중 너으 한 항에 있어서, 분쇄 챔버가 유효한 직경이 0.5㎜미만, 바람직하게는 0.1㎜미만의 분쇄(19)로 최대 75부피%, 바람직하게는 최대 60부피%까지 채워지는 것을 특징으로 하는 공정.The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the grinding chamber is filled up to 75% by volume, preferably up to 60% by volume of grinding 19 having an effective diameter of less than 0.5 mm, preferably of less than 0.1 mm. Process characterized.
제1항 내지 5항중 어느 한 항에 있어서, 혼합공정이 서로에 대해 상이한 방향 및/또는 상대적으로 다른 rpm으로 회전하는 기벽 요소(2,4)에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 공정.Process according to any one of the preceding claims, characterized in that the mixing process is carried out by means of the wall element (2,4) rotating in different directions and / or relatively different rpm with respect to each other.
분쇄체(9)가 배치되는 분쇄 챔버(5)를 가지는 제1항 내지 제5항중 어느 한 항에 따른 공정을 수행하는 장치로서, 분쇄 챔버(5)가 회전가능하게 운전될 수 있는 적어도 두개의 기벽요소(2,4)로 둘러싸이며, 분쇄 챔버(5)가 회전축(3,18)을 향한 측면과 회전축에서 멀어지는 축면에 적어도 하나의 공급구 및/또는 배출구(15,16,17)를 가지는 것을 특징으로 하는 공정.An apparatus for carrying out the process according to any one of claims 1 to 5, having a grinding chamber (5) in which a grinding body (9) is arranged, wherein at least two of the grinding chambers (5) can be rotatably operated. Surrounded by base wall elements 2, 4, the grinding chamber 5 has at least one supply and / or outlet 15, 16, 17 on a side facing the axis of rotation 3, 18 and an axis away from the axis of rotation. Characterized in that the process.
제7항에 있어서 공급구 및 배출구(15,16)가 분쇄 챔버(5)의 원주상에 연산되어 있는 슬릿에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 공정.Process according to claim 7, characterized in that the supply port and the outlet port (15, 16) are formed by slits computed on the circumference of the grinding chamber (5).
제8항에 있어서, 슬릿(15,16)이 필수적으로 기벽 요소(2,4)의 회전축(3,18)에 대하여 정상적으로 연신되어 있는 분쇄 챔버(5)의 상호 분리판상에 위치하는 것을 특징으로 하는 공정.9. The slit (15, 16) according to claim 8, characterized in that the slits (15, 16) are essentially located on mutual separation plates of the grinding chamber (5) which are normally drawn about the rotational axes (3, 18) of the wall elements (2,4). Process.
제7항, 제8항 또는 제9항에 있어서, 기벽 요소(2,4)로 둘러싸인 분쇄챔버가 적어도 하나의 회전축(3,18)을 포함하는 횡단면내에, 이 회전축에 대하여 가로질러 테이퍼되는 횡단면에 구현되는 것을 특징으로 하는 공정.10. The cross section according to claim 7, 8 or 9, wherein the grinding chamber surrounded by the base wall elements 2, 4 is tapered across this axis of rotation in a cross section comprising at least one axis of rotation 3, 18. The process characterized in that implemented in.
제7항 내지 10항 중 어느 한 항에 있어서, 기벽 요소(2,4)가 공통축(3)을 중심으로 회전가능하게 안착되어 있는 반쪽외피로 형성되는 것을 특징으로 하는장치.Device according to one of the claims 7 to 10, characterized in that the wall element (2, 4) is formed of a half shell which is rotatably seated about a common axis (3).
제7항 내지 10항 중 어느 한 항에 있어서, 기벽 요소(2,4)의 회전축(3,18)이 서로에 대해 경사지게 배치되며, 둔각을 이루는 동안 서로 결합하는 것을 특징으로 하는 공정.Process according to one of the claims 7 to 10, characterized in that the axis of rotation (3, 18) of the wall element (2, 4) is arranged inclined with respect to each other and engaged with each other during an obtuse angle.
제7항 내지 10항 중 어느 한 항에 있어서, 기벽 요소(2,4)가 회전축들(3,18)사이의 각도가 연속적으로 조정가능한 것을 특징으로 하는 공정.Process according to one of the claims 7 to 10, characterized in that the wall element (2,4) is continuously adjustable in angle between the axes of rotation (3,18).
제7항 내지 13항 중 어느 한 항에 있어서, 하나의 기벽 요소(2)가 상대적인 회전에 대하여 고정되고, 갭(12)을 형성하는 제2기벽 요소(4)에 걸쳐 연산되는 부분(7)과 연결되면, 갭(12)내에서 종결하는 것을 특징으로 하는 공정.14. The part 7 according to claim 7, wherein the one wall element 2 is fixed against relative rotation and is calculated over the second wall element 4 forming the gap 12. When terminated in the gap (12).
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.