KR930019272A - 입자상 재료 처리장치 - Google Patents

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KR930019272A
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하마다 켄지
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요리오끼 나타
나라 머시너리 컴파니, 리미티드
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B02—CRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING; PREPARATORY TREATMENT OF GRAIN FOR MILLING
    • B02C—CRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING IN GENERAL; MILLING GRAIN
    • B02C15/00—Disintegrating by milling members in the form of rollers or balls co-operating with rings or discs
    • B02C15/08—Mills with balls or rollers centrifugally forced against the inner surface of a ring, the balls or rollers of which are driven by a centrally arranged member

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  • Food Science & Technology (AREA)
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Abstract

본 발명은 용기와, 상기 용기의 중심부에 설치되는 회전 메인 샤프트와, 일정한 간격으로 상기 메인 샤프트둘레에서 지지되는 다수의 서브 샤프트로 구성되는 입자상 재료 처리장치로서, 다수의 링상부재가 상기 서브 샤프트 및 상기 링상부재간에 충분히 공간이 존재할 수 있도곡 상기 서브 샤프트에 끼워맞춤되며, 상기 링상부재는 용기의 내벽과 접촉하게 됨을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치에 관한 것이다.

Description

입자상 재료 처리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 장치의 일실시예의 종단면도.
제2도는 제1도의 장치의 X-X선 단면도.
제3도는 제1도의 장치의 교반기구의 상세 단면도.
제4도는 본 발명에 사용되는 링상부재의 일예를 보인 도면으로, (a)는 링상부재의 정면도, (b)는 링상부재의 사시도.
제5도는 본 발명에 사용되는 링상부재의 다른 예를 보인 도면으로, (a)는 링상부재의 정면도, (b)는 링상부재의 사시도.
제6도는 본 발명에 따른 장치의 또다른 실시예의 종단면도.

Claims (10)

  1. 용기와, 상기 용기의 중심부에 설치되는 회전 메인 샤프트와, 일정한 간격으로 상기 메인 샤프트 둘레에서 지지되는 다수의 서브샤프트로 구성되는 입자상 재료 처리장치로서, 다수의 링사부재가 상기 서브 샤프트 및 상기 링상부재간에 충분한 공간이 존재할 수 있도록 상기 서브 샤프트에 끼워맞춤되며, 상기 링상부재는 용기의 내벽과 접촉하게 됨을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 서브 샤프트는 아암 형상의 돌기부를 갖춘 누름판에 의해 지지되고, 상기 판은 상기 메인 샤프트의 상하면에 위치함을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치.
  3. 제2항에 있어서, 교반날개가 상기 상하 누름판의 적어도 하부에 설치됨을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치.
  4. 제1항에 있어서, 장치의 상부 밖으로 피처리재로가 분사되는 것을 막는 기구가 제공됨을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 재료의 분사를 막는 기구는 방사상으로 배열된 말개, 메인 샤프트에 고정된 회전 원반 및 상기 회전 원반을 둘러싸는 원통상 부재로 구성됨을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치
  6. 제4항에 있어서, 배플판이 상기 서브 샤프트 및 상기 재료의 분사를 막는 기구사이에 제동됨을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치.
  7. 제1항에 있어서, 칼라가 상기 서브 샤프트에 끼워맞춤되고, 다수의 링상부재는 상기 링상부재가 자유로이 회전할 수 있도록 상기 칼라상에 설치됨을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 용기의 측벽용으로 재킷구조가 사용됨을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치.
  9. 제1항 또는 제8항에 있어서, 실린더가 삽입되고 회전 조인트가 연결되는 중공 메인 샤프트가 상기 실린더의 상부에 설치됨으로써 냉매용 공급회로를 형성함을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 링상부재가 층의 형태로 상기 서브 샤프트에 끼워맞춤되는 경우, 대향하는 링상부재의 접촉면은 작게 구성됨을을 특징으로 하는 입자상 재료 처리장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930004538A 1992-03-25 1993-03-23 입자상 재료 처리장치 KR950012297B1 (ko)

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