KR930017127A - 레이저 광선을 반사표면에 대하여 정확하게 맞추기 위한 방법 및 장치 - Google Patents

레이저 광선을 반사표면에 대하여 정확하게 맞추기 위한 방법 및 장치 Download PDF

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KR930017127A
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제임스 조셉 드룽
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Abstract

부식 모니터 장치에 있어서, 실리콘 웨이퍼와 같은 반사표면 및 레이저 광선 사이의 입사각을 직각으로 조정하기 위한 방법 및 장치는 관통하여 형성된 핀호울을갖추고 있는 회전가능한 거울을 포함한다. 회전가능한 거울은 광선 통로내의 제1위치 및 광선 통로 밖의 제2위치에 움직일 수 있도록 장착된다.
회전가능한 거울이 광선 통로에 위치하는 경우, 레이저 광선은 핀호울을 통해서 레이저 광원으로부터 핀호울을 통과하여 반사표면에 도달할 수 있게 된다.
만약, 광선이 반사 표면에 대하여 직각을 이루면, 광선은 핀호울을 통과하여 레이저 광원을 향하게 된다. 만약, 광선이 반사표면에 대하여 직각을 이루지 않으면, 광선은 회전가능한 거울에 의해서 반사되어 과녁에 도달하게 되고, 이에 따라 적절한 조정을 통해서 광선을 정확하게 맞출수 있게 하는 과녁의 밝게 비추어진 반점을 관찰할 수 있게 된다.

Description

레이저 광선을 반사표면에 대하여 정확하게 맞추기 위한 방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 실시예의 부분 단면도, 제2도는 본 발명에 따른 실시예의 상세 단면도, 제3a도는 본 발명에 따른 실시예의 광선통로를 나타낸 제1개략도, 제3b도는 본 발명에 따른 실시예의 광선통로를 나타낸 제2개략도.

Claims (17)

  1. 반사표면에 대하여 조준된 광선통로를 정확하게 맞추기 위한 장치로서, 관통하여 형성된 핀호울을 포함하는 거울, 및 상기 거울에 의해서 반사된 광선을 수용하기 위한 과녁을 포함하며, 상기 거울이 광원 및 상기표면 사이의 광선 통로내에서 제1위치로 움직일 수 있고, 이에따라 상기 광원통로가 상기 표면에 대하여 직각을 이루는 경우에, 상기 광원으로부터 나온 광선은 상기 핀호울을 통하여 상기 표면에 도달하고, 상기 표면으로 부터 반사되어 동일한 통로를 따라서 상기 거울로 이동하며, 상기 핀호울을 통과하여 상기 광원쪽을 향하게 되고, 상기 거울이 상기 광선통로로 밖의 제2위치로 움직일 수 있으며, 상기 광원통로가 상기 표면에 대하여 직각을 이루지 않는 경우에, 상기 거울에 의해서 반사된 광선이 상기 광원으로부터 시작된 광선의 통로에서 갈라진 통로를 따라 상기 표면으로 부터 상기 거울을 향하도록 구성되어 있는장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광원이 레이저로 구성되어 있는 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 표면이 반도체 웨이퍼의 표면으로 구성되어 있는 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 광원 및 상기 반사표면을 효과적으로 정확하게 맞추기 위해서 상기 반사표면에 대한 상기 광원의 위치를 조정하기 위한 기구를 더 포함하는 장치.
  5. 제1항에 있어서, 창을 포함하는 공정 챔버를 더 포함하며, 상기 창을 통해서 광선이 상기 광원으로부터 상기 공정 챔버내로 들어올 수 있고, 상기 정렬 기구가 상기 광원을 장착시키기 위한 회전대를 더 포함하는 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 창이 상기 과녁에 대한 반사광으로 부터 다중영상을 제거하도록 기울어질 수 있게 조정할 수 있는 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 반사 표면이 특정한 형상을 이루는 위치에 대하여 상기 회전대의 회전을 자동적으로 조정할 수 있는 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 거울을 상기 제1위치 및 상기 제2위치 사이에서 효과적으로 이동시키기 위한 제어로드를 더 포함하며, 상기 거울이 모서리에 장착되고, 상기 제1위치 및 상기 제2위치 사이에서 상기 모서리를 따라 위치한 축에 대하여 회전가능한 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 거울을 상기 광선 통로 외부의 상기 제2위치에 유지시키기 위한 바이어스를 포함하며, 상기 제어로드가 상기 광선통로 내에서 상기 거울을 상기 제1위치내로 이동시키도록 작동되는 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 과녁이 광원/반사 표면의 정확하게 맞추어진 정도를 나타내기 위한 패턴을 더 포함하는 장치.
  11. 제1항에 있어서, 상기 거울이 이 거울을 관통하여 형성된 다수의 핀호울을 더 포함하는 장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 과녁이 광학 탐지기를 더 포함하는 장치.
  13. 부식율 모니터/부식-대-깊이 제어 시스템에 있어서 조준된 광선통로를 반도체 웨이퍼 표면에 대하여 정확하게 맞추기 위한 장치로서, 관통하여 형성된 핀호울을 포함하는 거울, 및 상기 거울로 부터 반사된 광선을 수용하기 위한 과녁을 포함하며, 상기 거울은 광원 및 상기 웨이퍼 표면 사이의 광선통로 내에서 제1위치로 움직일 수 있고, 이에따라 만약, 상기 광원통로가 상기 표면과 직각을 이루게 되면, 상기 광원으로부터 나온 광선은 상기 핀호울을 통과하여 상기 표면에 도달하게 되고, 상기 표면으로 부터 반사되어 동일한 통로를 따라서 상기 핀호울을 통과하며, 광원을 향하게 되고, 상기 거울은 상기 광선통로 밖의 제2위치로 움직일 수 있으며, 상기 광원 통로가 상기 표면에 대하여 직각을 이루지 않는 경우에, 상기 거울에 의해서 반사된 광선이 상기 광원으로 부터 시작된 광선의 통로에서 갈라진 통로를 따라 상기 웨이퍼 표면으로 부터 상기 거울을 향하는 장치.
  14. 조준된 광선 통로를 반사표면에 대하여 정확하게 맞추기 위한 방법으로서, 상기 광선통로 내에서 관통하여 형성된 핀호울을 갖춘 거울을 광원 및 상기 거울로 부터 과녁위로 반사되었는지를 결정하는 단계와, 상기 광원통로가 상기 반사표면에 대하여 직각을 이루지 않는 것을 나타내는 단계와, 광선통로/반사표면을 정확하게 맞추기 위해서 필요한 경우에 상기 광원 및 상기 반사표면 사이의 관계를 조정하는 단계와, 그리고 상기 거울은 상기 광선통로의 밖에 위치시키는 단계를 포함하며, 상기 거울을 상기 광원 및 상기 반사표면 사이에 위치시킴으로써, 상기 광원통로가 상기 표면에 대하여 직각을 이루는 경우에, 상기 광원으로 부터 나온 광선이 상기 핀호울을 통과하여 상기 표면에 도달하고, 상기 표면으로 부터 반사되어 상기 통로를 따라서 상기 거울로 이동하며 상기 핀호울을 통과하여 상기 광원을 향하게 되는 방법.
  15. 제14항에 있어서, 광선 통로/반사표면을 정확하게 맞추는 작업이 수행되는 상기 광원 통로내의 제1위치 및 상기 광원통로 밖의 제2위치 사이에서 제어로드를 갖춘 상기 거울을 거울 모서리 측에 대하여 번갈아 회전시키는 단계를 더 포함하는 방법.
  16. 제14항에 있어서, 상기 광선통로 밖의 상기 제2위치에서 상기 거울을 미는 단계, 및 상기 광선통로 내에서 상기 거울을 상기 제1위치 내로 이동시키도록 상기 제어로드를 작동시키는 단계를 포함하는 방법.
  17. 제14항에 있어서, 레이저 원/반사표면을 정확하게 맞춘 정도를 나타내는 패턴을 상기 과녁에 제공하는 단계를 더 포함하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930000286A 1992-01-16 1993-01-12 레이저 광선을 반사표면에 대하여 정확하게 맞추기 위한 방법 및 장치 KR930017127A (ko)

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6129807A (en) * 1997-10-06 2000-10-10 Applied Materials, Inc. Apparatus for monitoring processing of a substrate
US6331166B1 (en) * 1998-03-03 2001-12-18 Senorx, Inc. Breast biopsy system and method
US6213845B1 (en) * 1999-04-26 2001-04-10 Micron Technology, Inc. Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies and methods for making and using same
US6290572B1 (en) 2000-03-23 2001-09-18 Micron Technology, Inc. Devices and methods for in-situ control of mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies
EP1337886B1 (en) * 2000-11-28 2009-01-14 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Method of and apparatus for adjusting optical component, and optical unit
US6982785B2 (en) * 2001-05-01 2006-01-03 Van Den Engh Gerrrit J Apparatus for determining radiation beam alignment
ATE380089T1 (de) * 2003-03-20 2007-12-15 Trumpf Laser Gmbh & Co Kg Verfahren und anordnung zum ausrichten eines laserstrahls
JP5648903B2 (ja) * 2010-10-27 2015-01-07 株式会社ニコン 形状測定装置、形状測定制御プログラム及び形状測定方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3554653A (en) * 1968-01-24 1971-01-12 Lawrence Zielke Autocollimator
US4125755A (en) * 1977-06-23 1978-11-14 Western Electric Co., Inc. Laser welding
SU1249324A1 (ru) * 1984-07-02 1986-08-07 Уральский Филиал Всесоюзного Научно-Исследовательского И Конструкторского Института "Цветметавтоматика" Устройство дл контрол шероховатости поверхности
US4769523A (en) * 1985-03-08 1988-09-06 Nippon Kogaku K.K. Laser processing apparatus
JPH0338611A (ja) * 1989-07-05 1991-02-19 Think Lab Kk ガスレーザーのビームの通りを修正する方法

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Publication number Publication date
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US5648847A (en) 1997-07-15
DE69300120D1 (de) 1995-06-01
EP0552008B1 (en) 1995-04-26
JPH06208990A (ja) 1994-07-26

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