KR930008888A - 적층형 입자경계절연형 반도체세라믹콘덴서 및 그 제조방법 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract 57
- 230000001932 seasonal effect Effects 0.000 title claims abstract 3
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 title claims description 24
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims 8
- 239000002003 electrode paste Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 79
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract 60
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract 46
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract 32
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 14
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 claims 46
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims 43
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 40
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims 24
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims 21
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims 20
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims 20
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims 20
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims 19
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims 19
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 18
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims 16
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims 15
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims 15
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 claims 14
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims 12
- 229910017493 Nd 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims 12
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 12
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 12
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims 12
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims 12
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims 5
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims 5
- 229910012573 LiSiO Inorganic materials 0.000 claims 4
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 claims 4
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims 4
- 229910010093 LiAlO Inorganic materials 0.000 claims 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims 3
- 238000010405 reoxidation reaction Methods 0.000 claims 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 2
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 claims 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 claims 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims 2
- 241000283690 Bos taurus Species 0.000 claims 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/12—Ceramic dielectrics
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
Description
Claims (43)
- 입자경계 절연형 반도체세라믹내에, 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물에 고용시킨 내부 전극페이스트를 출발원료로 하는 내부 전극을, 이들이 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 형성하고, 또한 이 Ni내부전극의 양끝가장자리에 전기적으로 접속되도록 외부전극을 형성한 것을 특징으로 하는 적층형 입자 경계절연형 반도체 세라믹.
- 제1항에 있어서, 외부 전극이 Pd, Ag, Cu, Zn, Ni중의 적어도 1종류이상의 금속 또는 그들의 합금 혹은 혼합물에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계 절연형 반도체 세라믹 콘덴서.
- 제1항에 있어서, 외부전극이 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상 또는 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상과 Pd, Pt원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물에 고용시키므로써 형성되는 것을 특징으로 하는 적층형 입자 경계절연형 반도체세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 외부 전극이 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상 또는 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상의 Pd, Pt원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물에 고용시킨 하층부외부전극과, Ag 또는 Ag-Pd계의 상층부외부전극에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 외부전극이 Pd, Pt원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물에 고용시키므로써, 형성되는 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계 절연형 반도체세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 외부전극이 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물에 고용시킨 하층부외부전극과, Ag 또는 Ag-Pd계의 상층부 외부전극에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체 세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr과 Ti의 mol비가 0.95≤Sr/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 SrTiO3을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체 세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr과 Ti의 mol비가 0.95≤Sr/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 SrTiO3을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%과, Ne2SiO3, Li2SiO3중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체 세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr과 Ti의 mol비가 0.95≤Sr/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 SrTiO3을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%와 Na2SiO3, Li2SiO3중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, %Al2O3을 0.05~2.0mol%함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체 세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr과 Ti의 mol비가 0.95≤Sr/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 SrTiO3을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%와 NaAlO2, LiAlO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~4.0mol%함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체 세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr(1-x)Bax와 Ti의 mol비가 0.95≤Sr(1-x)Bax/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 Sr(1-x)BaxTiO3(단, 0<x≤0.3)을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체 세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr(1-x)Bax와 Ti의 mol비가 0.95≤Sr(1-x)Bax/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 Sr(1-x)BaxTiO3(단, 0<x≤0.3)을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%와, Na2SiO3, LiSiO3중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr(1-x)Bax와 Ti의 mol비가 0.95≤Sr(1-x)Bax/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 Sr(1-x)BaxTiO3(단, 0<x≤0.3)을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%와, Na2SiO3, LiSiO3중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와 Al2O3을 함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr(1-x)Bax와 Ti의 mol비가 0.95≤Sr(1-x)Bax/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 Sr(1-x)BaxTiO3(단, 0<x≤0.3)을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%와, NaAlO2, LiAlO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~4.0mol% 함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체 세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr(1-x)Cax와 Ti의 mol비가 0.95≤Sr(1-x)Cax/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 Sr(1-x)CaxTiO3(단, 0.01≤x≤0.2)을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr(1-x)Cax와 Ti의 mol비가 0.95≤Sr(1-x)Cax/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 Sr(1-x)CaxTiO3(단, 0.01≤x≤0.2)을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%와, Na2SiO3, LiSiO3중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr(1-x)Cax와 Ti의 mol비가 0.95≤Sr(1-x)Cax/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 Sr(1-x)CaxTiO3(단, 0.001≤x≤0.2)을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%와, Na2SiO3, LiSiO3중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와 Al2O3을 0.05~2.0mol% 함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹콘덴서.
- 제1항에 있어서, 입자경계 절연형 반도체세라믹으로서, Sr(1-x)Cax와 Ti의 mol비가 0.95≤Sr(1-x)Cax/Ti<1.00이 되도록 과잉의 Ti를 함유한 Sr(1-x)CaxTiO3(단, 0.001≤x≤0.2)을 주성분으로 하고, 그것에 Nb2O5O, Ta2O5, V2O5, W2O5, Dy2O5, Nd2O3, Y2O3, La2O3, CeO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~2.0mol%와, Mn원자와 Si원자를 각각 MnO2와 SiO2의 형태로 환산해서 그 합계량에서 0.2~5.0mol%와, NaAlO2<LiAlO2중의 적어도 1종류이상을 0.05~4.0mol%함유해서 이루어진 것을 사용한 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체 세라믹콘덴서.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹저송물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물에 고용시킨 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 입시구이후 환원분위기 중에서 소성함으로써, 적층제를 소결하고, 또한 Ni내부전극을 형성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화한 후 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 외부전극페이트를 도포하여 베이킹해서 외부전극을 형성하는 공정으로 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물에 고용시킨 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 임시구이후 먼저 질소분위기중에서 1000~1200℃까지 승온하고, 그 후 환원분위기 중으로 절환해서 소성함으로써, 적층제를 소결하고, 또한 Ni내부전극을 형성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화한 후 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 외부전극페이트를 도포하여 베이킹해서 외부전극을 형성하는 공정으로 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물에 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그 성형체의 Ni내부전극을 토출시킨 양단부의 외부전극페이스트를 도포하고, 그 후 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 입시구이후 환원분위기 중에서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화한 후 외부전극을 재환원하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물에 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그성형체의 Ni내부전극을 토출시킨 양단부의 외부전극페이스트를 도포하고, 그 후 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 입시구이후 먼저 질소분위기중에서 1000~1200℃까지 승온하고 그후 환원분위기 중으로 절환해서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화한 후 회부전극을 재환원하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물에 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 이 임시구이체의 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 외부전극페이스트를 도포하고, 환원분위기 중에서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화한 후 외부전극을 재환원하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 이 임시구이체의 Ni 내부전극을 토출시킨 양단부의 외부전극페이스트를 도포하고, 먼저 질소분위기중에서 1000~1200℃가지 승온하고 그후 환원분위기중으로 절환해서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화후 외부전극을 재환원하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구하는 공정과, 탈지, 임시구이후 환원분위기중에서 소성하는 공정과, 소성후 또 하층부외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd계의 상층부 외부전극을 공기중 또는 질소분위기중에서 베이킹하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적측형 입자경계절연형 반도체 세라믹콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체의 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 외부전극페이스트를 도포하고, 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 탈지 임시구이후, 먼저 질소분위기중에 1000~1200℃까지 승온하고, 환원분위기 중으로 절환해서 소성하는 공정과, 소성후 또 하층부외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd계의 상층부 외부전극을 공기중 또는 질소분위기중에서 베이킹하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체의 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부외부전극페이스트를 도포하고, 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 탈지 임시구이후 환원분위기 중에서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화후 Ni 외부전극을 재환원하는 공정과 또 하층부외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd계의 상층부 외부전극을 공기중 또는 질소분위기중에서 베이킹하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체 세라믹콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체의 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부외부전극페이스트를 도포하고, 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 탈지, 임시구이후 먼저 질소분위기중에서 1000~1200℃까지 승온하고, 그후 환원분위기 중으로 절환해서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화후, Ni외부전극을 재환원하는 공정과 또 하층부외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd계의 상층부 외부전극을 공기중 또는 질소분위기중에서 베이킹하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체 세라믹콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체의 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부외부전극페이스트를 도포하고, 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 탈지, 임시구이후 환원분위기 중에서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 하층부외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd 계의 외부전극페이스트를 도포하는 공정과, 그후 재환원 하는 공정과, 또 그후에 공기중에서 열처리하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체 세라믹콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체의 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부외부전극페이스트를 도포하고, 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 탈지, 임시구이후 먼저 질소분위기중에서 1000~1200℃까지 승온하고, 그후 환원분위기 중으로 절환해서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화후하층부 외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd 계의 외부전극페이스트를 도포하는 공정과, 그후 재환원 하는 공정과,또 그후에 공기중에서 열처리하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체 세라믹콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 그후 이 성형체의 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부외부전극페이스트를 도포하고, 환원분위기 중에서 소성하는 공정과, 또 하층부외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd 계상층부 외부전극을 공기중 또는 질소분위기중에서 베이킹하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체 세라믹콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 교호로 대향하는 끝가장자리에 이르도록 인쇄(단 최상층 및 최하층의 생시이트에는 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 이 성형체를 공기중에서 탈지 임시구이하는 공정과, 그후 이 임시구이체의 Ni 내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부외부전극페이스트를 도포하고 먼저 질소분위기 중에서 1000~1200℃까지 승온하고, 그후 환원 분위기중으로 절환해서 소성하는 공정과, 소성후 또 하층부외부전극의 위에 Ag또는 Ag-Pd 계의 상층부외부전극을 공기중 또는 질소분위기중에서 베이킹하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경게 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부전극 페이스트를 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 이 성형체를 공기중에서 탈지 임시구이하는 공정과,그후 이 임시구이체의 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부외부전극페이스트를 도포하고, 환원분위기중에서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화후 재환원하는 공정과, 또 그후에 하층부 외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd 계의 상층부외부전극을 공기중 또는 질소분위기중에서 베이킹하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체 세라믹콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위해 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부전극 페이스트를 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 이 성형체를 공기중에서 탈지 임시구이하는 공정과, 그후 이 임시구이체의 Ni 내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부외부전극페이스트를 도포하고, 먼저 질소분위기중에서 1000~1200℃까지 승온하고, 그후 환원 분위기중으로 절환해서 소성하는 공정과, 소성후, 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화후 재환원하는 공정과, 또 그후에 하층부 외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd 계의 상층부외부전극을 공기중 또는 질소분위기중에서 베이킹하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체 세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부 전극 페이스트를 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 이 성형체를 공기중에서 탈지 임시구이하는 공정과, 그후 이 임시구이체의 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부외부전극페이스트를 도포하고, 환원분위기 중에서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화후 하층부 외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd계의 상층부외부전극페이스트를 도포하는 공정과, 그후 재환원하는 공정과 또 그후에 공기중에서 열처리하는 공정으로 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체 세라믹콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부전극 페이스트를 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 탈지 임시구이하는 공정과, 그후 이 임시구이체의 Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부외부전극페이스트를 도포하고, 먼저 질소분위기 중에서 1000~1200℃까지 승온하고, 그 후 환원분위기 중으로 절환해서 소성하는 공정과, 소성후 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화후 재환원하는 공정과, 또 그후에 하층부 외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd계의 상층부외부전극페이스트를 도포하는 공정과, 그후 재환원하는 공정과, 또 그후에 공기중에서 열처리하는 공정으로 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계 절연형 반도체 세라믹콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부전극 페이스트를 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 이 성형체를 공기중에서 탈지 임시구이하는 공정과, 환원분위기중에서 소성하는 공정과, 소성후, 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화후, Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 하층부 외부전극페이스트를 환원 또는 질소분위기중에서 베이킹하고, 또 하층부외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd계의 상층부 외부전극을 공기중 또는 질소분위기중에서 베이킹하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 입자경계 절연형 반도체세라믹 조성물의 혼합분말을 출발원료로 하고, 그 혼합뷴말을 분쇄, 혼합, 건조한후, 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이하는 공정과, 임시구이후, 재차 분쇄한 분말을 유기바인더와 함께 용매중에 분사시켜 생시이트로 하고, 그후 이 생시이트의 위헤 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물 혼합분말을 공기중 또는 질소분위기 중에서 임시구이, 분쇄한후, 유기바인더와 함께 용매중에 분산시킨 내부전극 페이스트를 인쇄하지 않음)하는 공정과, 이 내부전극페이스트가 인쇄된 생시이트를 적층, 가압, 압착해서 성형체를 얻고, 이 성형체를 공기중에서 탈지, 임시구이하는 공정과, 그후 먼저 질소분위기중에서 1000~1200℃까지 승온하고, 그후 환원분위기중으로 절환해서 소성하는 공정과, 소성후, 공기중에서 재산화하는 공정과, 재산화후, Ni내부전극을 노출시킨 양단부에 하층 외부전극페이스트를 환원 또는 질소분위기중에서 베이킹하고, 또 하층부외부전극의 위에 Ag 또는 Ag-Pd계의 상층부외부전극을 공기중 또는 질소분위기중에서 베이킹하는 공정을 가진 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 제19항 또는 제20항에 있어서, 외부 전극이 Pd, Ag, Cu, Zn, Ni중의 적어도 1종류이상의 금속 또는 그들의 합금 혹은 혼합물에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 제19항~24항에 어느 한 항에 있어서, 외부 전극이 저원자가의 Li, Na, K원자중의 적어도 1종류이상의 또는 저원자가의 Pd, Pt 원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물에 고용시키므로써 형성되는 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 제19항~24항의 어느 한항에 있어서, 외부 전극이 Pd, Pt 원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni 원자를 함유한 화합물에 고용시키므로써 형성되는 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 제25~38항의 어느 한 항에 있어서, 하층부 외부전극이 저원자가의 Li, Na, K 원자중의 적어도 1종류이상또는 저원자가의 Li, Na, K 원자중의 적어도 1종류 이상과 Pt,Pt 원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물에 고용시키므로써 형성되는 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.
- 제25~38항의 어느 한 항에 있어서, 하층부 외부 전극이 Pd, Pt 원자중의 적어도 1종류이상을 Ni 또는 Ni원자를 함유한 화합물에 고용시키므로써 형성되는 것을 특징으로 하는 적층형 입자경계 절연형 반도체세라믹 콘덴서의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27400190 | 1990-10-11 | ||
JP90-274001 | 1990-10-11 | ||
JP91-152991 | 1991-06-25 | ||
JP3152991A JP2757587B2 (ja) | 1990-06-26 | 1991-06-25 | 粒界絶縁型半導体セラミックコンデンサ及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR930008888A true KR930008888A (ko) | 1993-05-22 |
KR960011913B1 KR960011913B1 (ko) | 1996-09-04 |
Family
ID=26481739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019910017867A KR960011913B1 (ko) | 1990-10-11 | 1991-10-11 | 적층형입자경계절연형 반도체세라믹콘덴서 및 그 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR960011913B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100468674B1 (ko) * | 1997-07-24 | 2005-03-16 | 삼성전자주식회사 | 반도체장치의소자분리방법 |
-
1991
- 1991-10-11 KR KR1019910017867A patent/KR960011913B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100468674B1 (ko) * | 1997-07-24 | 2005-03-16 | 삼성전자주식회사 | 반도체장치의소자분리방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR960011913B1 (ko) | 1996-09-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 19911011 |
|
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 19911011 Comment text: Request for Examination of Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 19940927 Patent event code: PE09021S01D |
|
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 19950327 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 19940927 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |
|
J2X1 | Appeal (before the patent court) |
Free format text: APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL |
|
PJ2001 | Appeal |
Appeal kind category: Appeal against decision to decline refusal Decision date: 19961130 Appeal identifier: 1995201001503 Request date: 19950629 |
|
PB0901 | Examination by re-examination before a trial |
Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal Patent event date: 19950629 Patent event code: PB09011R01I Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event date: 19941227 Patent event code: PB09011R02I |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 19950918 Patent event code: PE09021S01D |
|
G160 | Decision to publish patent application | ||
PG1605 | Publication of application before grant of patent |
Comment text: Decision on Publication of Application Patent event code: PG16051S01I Patent event date: 19960808 |
|
B701 | Decision to grant | ||
PB0701 | Decision of registration after re-examination before a trial |
Patent event date: 19961130 Comment text: Decision to Grant Registration Patent event code: PB07012S01D Patent event date: 19950816 Comment text: Transfer of Trial File for Re-examination before a Trial Patent event code: PB07011S01I |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 19961213 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 19961213 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 19990820 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20000831 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20010829 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20020822 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20030825 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20040823 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20050824 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20060824 Year of fee payment: 11 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20060824 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
PC1903 | Unpaid annual fee |