KR930008661A - 화상의 비선형 정규화 장치 및 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 미지 패턴과 표준 패턴의 상관을 산출하기 위해 사전처리를 수행하는 화상의 비선형 정규화 장치 및 방법에 관한 것이다. 국부 공간밀도 함수p(Xi,Yj)(여기에서 i=1 내지 I, j=1 내지 J는 소정의 표본화 간격r로 상기 미지 패턴을 표본화하여 얻어지는 2차원 패턴 f(Xi,Yj)로부터 구해진다. 상기 공간밀도 함수p(Xi,Yj)는 X방향 및 Y방향에 대한 선간격으로 역수의 곱으로 구해진다. X방향 누적함수 hx(Xi) 및 Y방향 누적함수 hy(Yj)는 상기 공간 밀도함수p(Xi,Yj)를 연속적으로 더함으로써 구해진다. 상기 새로운 표본점(X′i,Y′j)의 두 인접점간의 간격으로 정의되는 새로운 표번점 간격은 누적함수 hx(Xi)와의 곱이 제1 고정값을 갖고, 상기 함수 hy(Yj)와의 곱이 제2 고정값을 갖는 조건을 만족시키는 것이다. 상기 새로운 표본점(X′i,Y′j)에 대한 정규화 표본값은 상기 2차원 패턴f(Xi,Yj)상에서 계산을 수행하거나 상기 미지 패턴을 재표본화 함으로써 구해지는 것이다.

Description

화상의 비선형 정규화 장치 및 방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제 1 도는 본 발명에 의한 화상의 비선형 정규화 장치의 제1 내지 제6실시예 구성을 도시한 기능 블록도,

제 2 도는 표본화된 2차원 패턴의 배치를 도시한 개념도,

제 3 도는 상기 제 2 도를 확대 도시한 개요도,

제 7 도는 제1실시예에 의해 처리되는 입력화상을 설명하는 도면.

Claims (16)

1. 미지(unknown) 패턴과 표준 패턴의 상관을 산출하기 위해 사전처리를 수행하는 화상의 비선형 정규화 장치에 있어서, 종방향 및 횡방향에 적어도 4개의 인접 패턴이 2차원 패턴과 동일하고, 상기 2차원 패턴과 동일한 방향 또는 그에 대한 선대칭 방향으로 향하고, X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격의 상관으로서 공간밀도p(Xi,Yj)가 구해지는 방식으로 상기 미지 패턴이 배열된다는 조건하에, 표본화 간격(r)으로 상기 미지패턴을 표본화하여 얻어지는 상기 2차원 패턴 f(Xi,Yj)으로부터 국부 공간밀도 함수p(Xi,Yj)(여기에서 i=1 내지 I, j=1 내지 J)를 구하는 수단, 고정된 변수(Xi)에 대해 Y1부터 YJ까지 변하는 변수(Yj)를 갖는 상기 공간밀도 함수p(Xi,Yj)를 연속적으로 더함으로써, X방향의 누적함수 hx(Xi)를 산출하는 수단, 고정된 변수 (Yi)에 대해 X1부터 Xi/까지 변화하는 변수(Xi)를 갖는 상기 공간 밀도함수p(Xi,Yj)를 연속적으로 더함으로써, Y방향의 누적함수 hy(Yj)를 산출하는 수단, 상기 누적함수 hx(Xi) 및 hy(Yj)를 각각 연속적으로 누적함수 hx(X) 및 hy(Y)로 확장하는 수단, 새로운 표본점 (X′i,Y′j)의 두 인접점간의 간격으로 정의되는 새로운 표본화 간격(δi,εj) 이 상기 누적함수 hx(Xi)와 δi와의 곱이 제1 고정값을 취하고, 상기 누적함수 hy(Yj)와 εj와의 곱이 제2 고정값을 취하는 조건을 만족하는 형태에서, 새로운 표본점(X′i,Y′j)을 결정하는 수단, 및 상기 2차원 패턴f(Xi,Yj)상에서 계산을 수행하거나 상기 미지 패턴을 재표본화함으로써, 상기 새로운 표본점 (X′i,Y′j)에서의 정규화 표본값을 산출하는 수단을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 화상 비선형 정규화 장치.
2. 제 1항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격의 역수의 곱인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 장치.
3. 제 1항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격의 역수의 합인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 장치.
4. 제 1항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격이 합의 역수인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 장치.
5. 미지 패턴과 표준 패턴의 상관을 산출하기 위해 사전처리를 수행하는 화상의 비선형 정규화 장치에 있어서, 소정의 표본화 간격(r)으로 미지 패턴을 표본화하여 구해진 2차원 패턴 f(Xi,Yj)(i=1 내지 M,j=1내지 N)으로부터 특성 파라메타의 일 세트를 구하는 수단, 종방향 및 횡방향에 적어도 4개의 인접 패턴이 2차원 패턴과 동일하고, 상기 2차원 패턴과 동일한 방향 또는 그에 대한 선대칭 방향으로 향하는 방식으로 상기 2차원 패턴 f(Xi,Yj)이 배열된다는 조건하에 상기 2차원 패턴f(Xi,Yj)로부터 국부공간밀도p(Xi,Yj)를 산출하는 수단, 고정된 변수(Xi)에 대해 Y1부터 YJ까지 변하는 변수(Yj)를 갖는 공간 밀도함수p(Xi,Yj)를 연속적으로 더함으로써, X방향의 누적함수 hx(Xi)를 산출하는 수단, 고정된 변수(Yj)에 대해 X1부터 Xi까지 변화하는 변수(Xi)를 갖는 상기공간 밀도함수p(Xi,Yj)를 연속적으로 더함으로써, Y방향의 누적함수 hy(Yj)를 산출하는 수단, 상기 누적함수 hx(Xi) 및 hy(Yj)를 각각 연속적인 누적함수 hx(X) 및 hy(Y)로 확장하는 수단, 상기 일세트의 특성 파라메타의 좌표와 상기 공간밀도 함수p(Xi,Yj)의 좌표간의 불일치를 조정하는 수단, 및 새로운 표본점(X′iY′j)의 두 인접점 간의 간격으로 정의되는 새로운 표본화 간격 (δi,εj)이 상기 누적함수 hx(Xi)와 δi와의 곱은 제1고정 값을 취하고, 상기 누적함수 hy(Yj)와 εj와의 곱은 제2고정 값을 취하는 조건을 만족하는 형태에서, 상기 일세트의 특성 파라메타의 새로운 표본점(X′iY′j)을 결정하는 수단을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 장치.
6. 제 5항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격의 역수의 곱인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 장치.
7. 제 5항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격의 역수의 합인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 장치.
8. 제 5항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격이 합의 역수인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 장치.
9. 미지 패턴과 표준 패턴의 상관을 산출하기 위해 사전처리를 수행하는 화상의 비선형 정규화 장치에 있어서, 종방향 및 횡방향에 적어도 4개의 인접 패턴이 2차원 패턴과 동일하고, 상기 2차원 패턴과 동일한 방향 또는 그에 대한 선대칭 방향으로 향하고, X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격의 상관으로서 공간밀도p(Xi,Yj)가 구해지는 방식으로 상기 미지 패턴이 배열된다는 조건하에, 표본화 간격(r)으로 상기 미지패턴을 표본화하여 얻어지는 상기 2차원 패턴 f(Xi,Yj)으로부터 국부 공간밀도 함수p(Xi,Yj)(여기에서 i=1 내지 I, j=1 내지 J)를 구하는 제1단계, 고정된 변수(Xi)에 대해 Y1부터 YJ까지 변하는 변수(Yj)를 갖는 상기 공간밀도 함수p(Xi,Yj)를 연속적으로 더함으로서, Y방향의 누적함수 hy(Yj)를 산출하는 제2단계, 고정된 변수(Yj)에 대해 X1부터 Xi까지 변화하는 변수(Xi)를 갖는 상기 공간 밀도함수p(Xi,Yj)를 연속적으로 더함으로써 Y방향으로 누적함수 hy(Yj)를 산출하는 제3단계, 상기 누적함수 hx(Xi) 및 hy(Yj)를 각각 연속적으로 누적함수 hx(X) 및 hy(Y)로 확장하는 제4단계, 새로운 표본점 (X′i,Y′j)의 두 인접점간의 간격으로 정의되는 새로운 표본화 간격(δi,εj)이 상기 누적함수 hx(Xi)와 δi와의 곱이 제1 고정값을 취하고, 상기 누적함수 hy(Yj)와 εj와의 곱이 제2 고정값을 취하는 조건을 만족하는 형태에서, 새로운 표본점(X′i,Y′j)을 결정하는 제5단계, 및 상기 2차원 패턴f(Xi,Yj)상에서 계산을 수행하거나 상기 미지 패턴을 재표본화함으로써, 상기 새로운 표본점 (X′i,Y′j)에서의 정규화 표본값을 산출하는 제6단계를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 화상 비선형 정규화 방법.
10. 제 9항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격의 역수의 곱인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 방법.
11. 제 9항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격의 역수의 합인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 방법.
12. 제 9항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격이 합의 역수인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 방법.
13. 미지 패턴과 표준 패턴의 상관을 산출하기 위해 사전처리를 수행하는 화상의 비선형 정규화 방법에 있어서, 소정의 표본화 간격(r)으로 미지 패턴을 표본화하여 구해진 2차원 패턴 f(Xi,Yj)(i=1 내지 M,j=1내지 N)으로부터 특성 파라메타의 일 세트를 구하는 제1단계, 종방향 및 횡방향에 적어도 4개의 인접 패턴이 2차원 패턴과 동일하고, 상기 2차원 패턴과 동일한 방향 또는 그에 대한 선대칭 방향으로 향하는 방식으로 상기 2차원 패턴 f(Xi,Yj)이 배열된다는 조건하에 상기 2차원 패턴f(Xi,Yj)로부터 국부공간밀도p(Xi,Yj)를 산출하는 제2단계, 고정된 변수(Xi)에 대해 Y1부터 YJ까지 변하는 변수(Yj)를 갖는 공간 밀도함수p(Xi,Yj)를 연속적으로 더함으로써, X방향의 누적함수 hx(Xi)를 산출하는 제3 단계, 고정된 변수(Yj)에 대해 X1부터 Xi까지 변화하는 변수(Xi)를 갖는 상기공간 밀도함수p(Xi,Yj)를 연속적으로 더함으로써, Y방향의 누적함수 hy(Yj)를 산출하는제4 단계, 상기 누적함수 hx(Xi) 및 hy(Yj)를 각각 연속적인 누적함수 hx(X) 및 hy(Y)로 확장하는 제5단계, 상기 일세트의 특성 파라메타의 좌표와 상기 공간밀도 함수p(Xi,Yj)의 좌표간의 불일치를 조정하는 제6단계, 및 새로운 표본점(X′iY′j)의 두 인접점 간의 간격으로 정의되는 새로운 표본화 간격(δi,εj)이 상기 누적함수 hx(Xi)와 δi와의 곱은 제1고정 값을 취하고, 상기 누적함수 hy(Yj)와 εj와의 곱은 제2고정 값을 취하는 조건을 만족하는 형태에서, 상기 일세트의 특성 파라메타의 새로운 표본점(X′iY′j)을 결정하는 제7단계를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 장치.
14. 제13항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격의 역수의 곱인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 방법.
15. 제13항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격의 역수의 합인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 방법.
16. 제13항에 있어서, 상기 선간격 상관은 상기 X방향에 대한 선간격 및 Y방향에 대한 선간격이 합의 역수인 것을 특징으로 하는 화상의 비선형 정규화 방법.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.