KR930005093A - 전자빔 총 - Google Patents

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KR930005093A
KR930005093A KR1019920015421A KR920015421A KR930005093A KR 930005093 A KR930005093 A KR 930005093A KR 1019920015421 A KR1019920015421 A KR 1019920015421A KR 920015421 A KR920015421 A KR 920015421A KR 930005093 A KR930005093 A KR 930005093A
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KR
South Korea
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sides
filament
electron beam
cathode block
anode
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Application number
KR1019920015421A
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English (en)
Inventor
제이 힐 러셀
에이 조엘 스미스 파이
Original Assignee
로버트 아이 퍼얼맨
더 비이오우시이 그루우프 인코포레이팃드
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J31/00Cathode ray tubes; Electron beam tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/06Electron sources; Electron guns
    • H01J37/07Eliminating deleterious effects due to thermal effects or electric or magnetic fields
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/143Electron beam

Abstract

내용 없음.

Description

전자빔 총
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 전자빔 형성에 사용된 빔 형성기를 예시하기 위해 절단된 애노드 부분들을 갖는 본 발명에 따른 전자빔총의 사시도,
제2도는 제1도의 정면도,
제3도는 제2도의 선(3-3)을 따라 취해진 제2도의 단면도,
제4도는 절단된 애노드 부분들을 갖는 제1도의 배면도.

Claims (3)

  1. 두개의 전기 전도성 측면을 갖는 분할 캐소드 블럭; 캐소드 블럭의 두 측면 사이에 위치되 그곳에 연결되어, 캐소드 블럭의 두 측면에 전류가 공급되면 전자를 방출하는 필라멘트; 필라멘트 위를 지나 필라멘트 정면에 위치된 정면 연부에서 끝나는 역 'U'자형 단면의 상부 부분을 갖는 애노드; 및 애노드와 필라멘트 사이에 위치되며, 필라멘트를 애노드로 부터 보호하고 전자론 리본형 전자빔 형태로 자신 아래를 지나 애노드 상부 부분의 정면연부를 향하게 강제하도록 형태진 빔 형성기를 포함하는 전자빔 증착 소오스에 사용하기 위한 전자빔에 있어서, 상기 빔 형성기는 사이에 수직 틈을 지니는 두 부분을 갖고; 그 두 부분은 캐소드 블럭의 두 측면에 독립적으로 연결되므로, 빔 형성기의 두부분이 캐소드 블럭의 두 측면과 잘 열접촉하게 되고, 캐소드 블럭의 두 측면은 빔 형성기의 두 측면을 위한 히드 싱크로 기능하여 빔 형성기 내부에 불균일한 열 경사가 생기는 것과 그에 따른 빔 형성기의 열로인한 휘어짐과 이동을 방지하며, 상기 빔 형성기의 두 부분 사이의 틈은 전자가 그곳을 통과해 애노드에 이르지 못하도록 크기가 이루어지는 것을 특징으로 하는 개선된 상기 전자빔 총.
  2. 제1항에 있어서, 상기 틈 약 0.127㎜∼0.254㎜ 사이의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 개선된 전자빔 총.
  3. 제1항에 있어서, 상기 틈은 약 0.254㎜인 것을 특징으로 하는 개선된 전자빔 총.
    ※ 참고사항 ; 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920015421A 1991-08-27 1992-08-26 전자빔 총 KR930005093A (ko)

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US07/750.363 1991-08-27

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CA2070457C (en) 1996-04-30
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