Claims (3)
아르곤 또는 헬륨가스가 충진되는 제1가스용기(1)와, 상기 제1가스용기 (1)로부터 관로를 형성하는 제1가스관(2), 제2가스조절밸브(3), 제2 및 제3가스관(4 및 8), 유량흐름조절기(9), 제10가스관(10), 제2가스조절밸브(11) , 제11가스관(12), 제2기화기(13), 제7가스관(14)와, 상기 제3가스관(8)으로부터 관로를 형성하는 제4가스관(5), 제3가스조절밸브(6), 제5가스관(7)과, 저부에 제1히타부(22)가 설치되며 상기 제7가스관(14)으로부터 아르곤 또는 헬륨가스를 유입받아 자신에 저장된 화합물을 반응시키는 제2가스용기(15)와, 상기 제2가스용기(15) 및 상기 제5가스관(7)으로 부터 관로를 형성하는 제6가스관(16)과, 상기 제6가스관(16)으로부터 관로를 형성하는 제4가스조절밸브(17), 제8가스관(18), 제5가스관(20)과, 상기 제2가스관(20)으로 부터의 가스가 챔버(21)로 유입되도록 구성되는 기화시스템에 있어서, 상기 제8가스관(8) 및 제9가스관(20) 사이에 제1기화기(19)가 설치되는 것을 특징으로 하는 기화시스템.A first gas container (1) filled with argon or helium gas, a first gas pipe (2), a second gas control valve (3), a second and a third gas pipe forming a pipeline from the first gas container (1) Gas pipes 4 and 8, flow rate regulator 9, 10th gas pipe 10, second gas control valve 11, 11th gas pipe 12, second vaporizer 13, 7th gas pipe 14 And a fourth gas pipe (5), a third gas control valve (6), a fifth gas pipe (7) forming a pipeline from the third gas pipe (8), and a first heater part (22) at the bottom. Pipe line from the second gas container (15) and the second gas container (15) and the fifth gas pipe (7) which receives argon or helium gas from the seventh gas pipe (14) and reacts the compound stored therein. A sixth gas pipe 16 forming a pipe, a fourth gas control valve 17, an eighth gas pipe 18, a fifth gas pipe 20, and the second gas pipe forming a pipe line from the sixth gas pipe 16; The gas from the gas pipe 20 is configured to flow into the chamber 21. The vaporization system according to claim 1, wherein a first vaporizer (19) is provided between the eighth gas pipe (8) and the ninth gas pipe (20).
제1항에 있어서, 상기 재11, 제7, 제5, 제6, 제8 및 제9가스관(12, 14, 7, 16, 18 및 20) 외주면 각각에 제6, 제7, 제2, 제3, 제4, 제5히타부(23, 24, 28, 25, 26 및 20) 각각이 설치되는 것을 특징으로하는 기화시스템.The method of claim 1, wherein the sixth, seventh, second, Evaporation system, characterized in that each of the third, fourth, fifth heater (23, 24, 28, 25, 26 and 20) is installed.
제1항에 있어서, 상기 제1기화기(19)는 자신의 저부 및 상부에 가스유입구(29) 및 출구(30)가 형성되는 실린더(31)와, 상기 실린더 외주면 좌,우측부에 설치되고 제1 및 제2 절연체(32 및 33)로 각기 쌓여지는 제1 및 제2열선(34 및 35)과, 상기 실린더(31)의 유입구(25)에 설치되며 유입되는 화합물을 분사시키기 위한 주입기(36)와, 상기 실린더(31)의 내주면에 설치되어 상기 주입기(35)로부터 분사되는 화합물을 흡수하는 원통형 그물망(37)과, 상기 그물망의 내주면에 설치되어 상기 그물망(37)으로부터 발생되는 불순물을 차단하기 위한 금속필터(38)로 구성되는 것을 특징으로 하는 기화시스템.According to claim 1, The first vaporizer 19 is a cylinder 31 having a gas inlet 29 and an outlet 30 formed in its bottom and top, and the left and right sides of the cylinder outer peripheral surface First and second heating wires 34 and 35 stacked on the first and second insulators 32 and 33, respectively, and an injector 36 for injecting the compound introduced into the inlet 25 of the cylinder 31. ), A cylindrical mesh 37 installed on the inner circumferential surface of the cylinder 31 to absorb the compound injected from the injector 35, and an impurity formed on the inner circumferential surface of the mesh to block impurities generated from the mesh 37. Vaporization system, characterized in that consisting of a metal filter (38) for.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.