KR930002392B1 - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head Download PDF

Info

Publication number
KR930002392B1
KR930002392B1 KR1019850002104A KR850002104A KR930002392B1 KR 930002392 B1 KR930002392 B1 KR 930002392B1 KR 1019850002104 A KR1019850002104 A KR 1019850002104A KR 850002104 A KR850002104 A KR 850002104A KR 930002392 B1 KR930002392 B1 KR 930002392B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magnetic
metal thin
film
ferromagnetic metal
thin film
Prior art date
Application number
KR1019850002104A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR850006946A (en
Inventor
쥰이찌 사이또
도미오 고바야시
헤이기찌 사또오
다쓰오 히사무라
Original Assignee
소니 가부시끼가이샤
오오가 노리오
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 소니 가부시끼가이샤, 오오가 노리오 filed Critical 소니 가부시끼가이샤
Publication of KR850006946A publication Critical patent/KR850006946A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR930002392B1 publication Critical patent/KR930002392B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/187Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/187Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
    • G11B5/1875"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
    • G11B5/1877"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
    • G11B5/1878"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

내용 없음.No content.

Description

자기헤드Magnetic head

제1도는 종래의 자기헤드의 사시도.1 is a perspective view of a conventional magnetic head.

제2도는 본 발명의 일실시예의 자기헤드의 사시도.2 is a perspective view of a magnetic head of one embodiment of the present invention.

제3도 내지 제11도는 제2도의 자기헤드를 제작하는 공정을 차례로 도시한 사시도.3 to 11 are perspective views sequentially showing a process of manufacturing the magnetic head of FIG.

제12도 내지 제l9도는 본 발명의 다른 실시예의 자기헤드를 제작하는 공정을 차례로 도시한 사시도.12 to 9 are perspective views sequentially showing a process of manufacturing a magnetic head according to another embodiment of the present invention.

제20도는 제12도 내지 제19도에 도시한 공정에 의해 제작된 자기 헤드의 사시도.20 is a perspective view of a magnetic head manufactured by the process shown in FIGS. 12 to 19. FIG.

제2l도는 본 발명의 또 다른 실시예의 자기헤드의 사시도.Figure 2l is a perspective view of a magnetic head of another embodiment of the present invention.

제22도는 제2l도의 자기헤드의 테이프 접촉면을 확대하여 도시한 평면도.FIG. 22 is an enlarged plan view of the tape contact surface of the magnetic head of FIG.

제23도 내지 제30도는 제21도의 자기헤드를 제작하는 공정을 차례로 도시한 사시도.23 to 30 are perspective views sequentially showing the process of manufacturing the magnetic head of FIG.

제31도는 제21도의 자기헤드의 변형예로서 도시한 자기헤드의 사시도.FIG. 31 is a perspective view of the magnetic head shown as a modification of the magnetic head of FIG.

제33도 내지 제40도는 제32도의 자기헤드를 제작하는 공정을 차례로 도시한 사시도.33 to 40 are perspective views sequentially showing a process of manufacturing the magnetic head of FIG.

제41도 내지 제47도는 본 발명과 다른 실시예의 자기헤드를 제작하는 공정을 차례로 도시한 사시도.41 to 47 are perspective views sequentially showing a process of manufacturing the magnetic head of the present invention and another embodiment.

제48도는 제41도 내지 제47도에 도시한 공정에 의해 제작되는 자기헤드의 사시도.FIG. 48 is a perspective view of a magnetic head produced by the process shown in FIGS. 41 to 47. FIG.

제49도는 본 발명의 다른 실시예의 자기헤드의 사시도.49 is a perspective view of a magnetic head of another embodiment of the present invention.

제50도는 제49도의 자기헤드의 테이프 접촉면을 확대하여 도시한 평면도.FIG. 50 is an enlarged plan view of the tape contact surface of the magnetic head of FIG. 49; FIG.

제51도 내지 제57도는 자기헤드를 제작하는 공정을 차례로 도시한 사시도.51 to 57 are each a perspective view sequentially showing a process of manufacturing a magnetic head.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

11a,11b : 자기 코어 반쪽부재 11' : 테이프 접촉면11a, 11b: magnetic core half member 11 ': tape contact surface

12a,12b : 강자성 금속박막 13a,13b : 비자성 고경도막12a, 12b: ferromagnetic metal thin film 13a, 13b: nonmagnetic high hardness film

l4a,l4b,15 : 산화물 유리 g : 자기갭l4a, l4b, 15 oxide glass g magnetic gap

41a,41b : 자기 코어 반쪽부재 41' : 테이프 접촉면41a, 41b: magnetic core half member 41 ': tape contact surface

42a,42b,43 : 산화물 유리 44a,44b : 강자성 금속박막42a, 42b, 43: oxide glass 44a, 44b: ferromagnetic metal thin film

45a,45b : 비자성 고경도막 g : 자기갭45a, 45b: non-magnetic hard film g: magnetic gap

51a,51b : 자기코어 반쪽부재 51' : 테이프 접촉면51a, 51b: magnetic core half member 51 ': tape contact surface

52a,52b : 강자성 금속박막 53a,53b,54 : 산화물 유리52a, 52b: ferromagnetic metal thin film 53a, 53b, 54: oxide glass

55a,55b : 비자성 고경도막 g : 자기갭55a, 55b: non-magnetic hard film g: magnetic gap

71a,71b : 자기코어 반쪽 부재 71' : 테이프 접촉면71a, 71b: magnetic core half member 71 ': tape contact surface

73a,73b : 강자성 금속 박막 74 : 산화물 유리73a, 73b: ferromagnetic metal thin film 74: oxide glass

75a,75b : 비자성 고경도막 g : 자기갭75a, 75b: non-magnetic hard film g: magnetic gap

101a,l01b : 자기 코어 반쪽부재 101' : 테이프 접촉면101a, l01b: magnetic core half member 101 ': tape contact surface

103a,104b : 비자성 금속박막 1l04a,104b : 비자성 고경도막103a, 104b: nonmagnetic metal thin film 1l04a, 104b: nonmagnetic high hardness film

105 : 산화물유리 g : 자기갭105: oxide glass g: magnetic gap

111a,111b : 자기코어 반쪽 부재 111a,111b : 자기코어 반쪽 부재111a, 111b: magnetic core half member 111a, 111b: magnetic core half member

111' : 테이프 접촉면 113a,113b : 강자성 금속 박막111 ': Tape contact surface 113a, 113b: Ferromagnetic metal thin film

114 : 산화물유리 115a,115b : 비자성 고경도막114: oxide glass 115a, 115b: nonmagnetic high hardness film

g : 자기갭g: magnetic gap

본 발명은 자기헤드, 특히 강자성 산화물 재료와 강자성금속재료의 복합자성재료로 된 자기헤드에 관한것이다.The present invention relates to a magnetic head, in particular a magnetic head made of a composite magnetic material of ferromagnetic oxide material and ferromagnetic metal material.

예를들면 VTR(비데오 테이프 레코더)용 자기기록 매체인 자기 테이프에 자기기록되는 신호가 고밀도화됨에 따라 자기 테이프로서 높은 잔류자속밀도 Br를 갖는 메탈테이프등이 사용되고 있다. 이 메탈테이프등의 높은 항자력 Hc를 갖는 자기 테이프에 사용되는 자기헤드는 자기갭에서 발생되는 신호 고밀도화를 따라 자기헤드의 트랙폭을 좁게 할 필요가 있다. 거기서 이런 자기헤드로서는 종래보다 여러가지가 제안되고있으며, 이 협트랙화 자기헤드로서는 제1도에 도시한 헤드가 알려져 있다. 이 제1자기 헤드는 Mn-Zn페라이트 등의 강자성 산화물로 되 코어 반쪽부재(1a,1b)의 자기갭 형성면측에 트랙 폭 규제 오목부에 의해 페라이트 돌기부(1a',1b')를 형성하고 이 돌기부(1a',1b')의 양측면에 스퍼터링(sputtering)등의 진공박막형성 기술을 사용하여 센더스트(sendust)등의 강자성 금속박막(2a,2b)을 피착 형성하고, 이 한쌍의 코어반쪽 부재(1a,1b)를 트랙폭 규제 오목홈에 용융충진되는 보강용 유리(3)에 의해 융착 결합하고 있다. 이 자기 헤드는 상기 돌기부(1a',1b')의 선단근방에 피착된 강자성 금속박막(2a,2b)을 이용하여 자기갭(g)을 형성하고 있기 때문에 자기저항이 작은 효율좋은 협트랙 헤드를 얻을 수 있다.For example, a metal tape having a high residual magnetic flux density Br is used as a magnetic tape as a signal recorded on a magnetic tape, which is a magnetic recording medium for a VTR (video tape recorder), becomes higher. A magnetic head used for a magnetic tape having a high coercive force Hc such as a metal tape needs to narrow the track width of the magnetic head in accordance with the increase in signal density generated in the magnetic gap. There have been various proposals for such magnetic heads than before, and the head shown in FIG. 1 is known as the narrow tracked magnetic head. The first magnetic head is made of ferromagnetic oxide such as Mn-Zn ferrite, and the ferrite protrusions 1a ', 1b' are formed on the magnetic gap forming surface side of the core half members 1a, 1b by the track width regulating recesses. On both sides of the projections 1a 'and 1b', a ferromagnetic metal thin film 2a, 2b such as senddust is deposited using vacuum thin film forming technology such as sputtering, and the pair of core half members are formed. (1a, 1b) are fusion-bonded by the glass 3 for reinforcement melt-filled in the track width regulation recessed groove. Since the magnetic head forms a magnetic gap g by using ferromagnetic metal thin films 2a and 2b deposited near the tip ends of the protrusions 1a 'and 1b', an efficient narrow track head with low magnetic resistance is formed. You can get it.

그러나, 이와 같이 복합자성재료로된 자기헤드에 있어서 자기 갭 형성면의 강자성 금속박막은 금속자성재료를 스퍼터링 등의 진공박막 형성 기술에 의한 형성이 적합하지만 페라이트상에 자성 금속박막을 형성하고, 그 위로부터 융착용 유리를 충전한 경우, 자성 금속 박막이 약한 부분에 응력이 집중하고 변형되거나 또 잔금이나 갈라짐등을 발생하여 불량율이 높아진다.However, in the magnetic head made of a composite magnetic material, the ferromagnetic metal thin film on the magnetic gap forming surface is suitable for forming a magnetic metal thin film on a ferrite by forming a magnetic metal material by a vacuum thin film forming technique such as sputtering. When the fusion glass is filled from above, the stress concentrates on the weak portion of the magnetic metal thin film, deforms, cracks, cracks, etc., and the defective rate increases.

즉, 페라이트상에 센더스트, 아몰파스 등의 자성 금속 재료를 적층하면 이 금속재료쪽이 페라이트에 대해 열팽창 계수가 약 30 내지 50% 크기 때문에 글래스팩(glass pack)이나 융착시의 승온시에 페라이트나 유리에 대해 인장응력이 작용하게 되며 잔금이나 갈라짐이 발생하기 쉽다. 또, 센더스트등의 자성 금속 박막을 피착 형성한 후 직접 유리를 용융 충전하면 금속과 유리가 반응하고, 금속 박막의 단부(edge), 표면이 변형해 버린다. 이때문에, 상술한 복합 재료로 이루어지는 자기헤드는 원료소비율이 나빠서 생산성에 결점을 갖고 있었다.In other words, if a magnetic metal material such as sendest or amorphous is laminated on a ferrite, the metal material has a thermal expansion coefficient of about 30 to 50% relative to the ferrite, so that the ferrite at the time of glass pack or fusion is heated. B. Tensile stress acts on the glass, and it is easy to cause cracking or cracking. Moreover, after depositing and forming magnetic metal thin films, such as a sender, melting and filling glass directly, metal and glass will react, and the edge and the surface of a metal thin film will deform | transform. For this reason, the magnetic head which consists of the above-mentioned composite material had a bad raw material consumption rate, and had a drawback in productivity.

본 발명은 이러한 점에 비추어 만들어진 것으로, 강자성 산화물로된 자기 코어에 피착형성되는 강자성 금속 박막을 안정한 것으로 하고 트랙폭 정밀도를 충분히 확보할 수 있어 원료소비에 대한 제품의 비율이 높아 양산성에 좋은 신뢰성 높은 자기헤드를 제공하는 것이다.The present invention has been made in view of the above, and the ferromagnetic metal thin film deposited on the magnetic core made of ferromagnetic oxide is stable, and the track width precision can be sufficiently secured, and the ratio of the product to the consumption of raw materials is high. It is to provide a magnetic head.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해 강자성 산화물로된 자기 코어 반복 부재쌍의 접합면에 진공 박막형성기술에 의해 강자성 금속 박막을 형성하고, 이 자기코어 반쪽 부재쌍을 맞대어 자기갭을 형성한 차기헤드에 있어서, 자기갭 형성면과 강자성 금속박막 형성면이 소요각도로 경사져 있으며 또 테이프 접촉면에 비자성 고경도막을 거쳐서 강자성 금속박막과 산화물 유리를 배치함으로써 강자성 금속 박막의 변형, 잔금이나 갈라짐 및 자기 특성 약화를 방지하도록 구성한 것이다.In order to achieve the above object, the present invention forms a ferromagnetic metal thin film on the joint surface of a magnetic core repeating member pair made of ferromagnetic oxide by vacuum thin film forming technology, and forms a magnetic gap by opposing the magnetic core half member pairs. In this case, the magnetic gap forming surface and the ferromagnetic metal thin film forming surface are inclined at a required angle, and the ferromagnetic metal thin film and the oxide glass are disposed on the tape contact surface via a nonmagnetic high hardness film, thereby deforming, retaining, cracking, and magnetic properties of the ferromagnetic metal thin film. It is configured to prevent weakening.

이하 본 발명의 일실시예를 도면을 기초로 하여 설명한다.An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

제2도는 본 발명에 관계되는 자기 헤드의 일예의 사시도이다. 이 복합자성 재료로 된 자기헤드는 예를들면 한 쌍의 자기 코어 반쪽부재(11a,11b)가 Mn-Zn페라이트 등의 강자성 산화물에 의해 형성되고 자기갭g의 근방부에는 고투자율 합금 센더스트등으로 된 강자성 금속 박막(l2a,12b)이 스퍼터링 등의 진공박막형성기술을 이용하여 형성되고 이 강자성 금속박막(l2a,l2b)상에 Ta2O5나 Cr,TiO2,SiO2등의 비자성 고경도, 고강도막(13a,13b)이 형성되어 있다. 또 자기갭 g의 형성면 근방 즉 테이프 접촉면(11')에 있어서의 자기갭의 양측부에 트랙폭을 규제하고 융착하는 산화물 유리(14a,l4b 및 15)가 용융 충전되어 있다.2 is a perspective view of an example of a magnetic head according to the present invention. The magnetic head made of this composite magnetic material is, for example, a pair of magnetic core half members 11a and 11b formed of ferromagnetic oxide such as Mn-Zn ferrite, and a high permeability alloy sender in the vicinity of the magnetic gap g. The ferromagnetic metal thin films l2a and 12b are formed using vacuum thin film formation techniques such as sputtering, and nonferrous metals such as Ta 2 O 5 , Cr, TiO 2 , and SiO 2 are formed on the ferromagnetic metal thin films l2a and l2b. High hardness and high strength films 13a and 13b are formed. Further, oxide glasses 14a, l4b, and 15 are melt-filled in the vicinity of the formation surface of the magnetic gap g, i.e., on both sides of the magnetic gap in the tape contact surface 11 ', to restrict and fuse the track width.

그런데, 강자성 금속 박막(12a,12b)의 형성면과 자기갭 g의 형성면은 자기헤드의 테이프 접촉면(11')의 평면도를 제3도에 도시한 바와 같이 소요각도로 경사져 있다. 이 경사각도는 기록 재생시 자기 테이프에 가해지는 강자성 금속박막(l2a,12b)의 적층간의 절연층과 자기갭 g과의 상호작용이 가장 작은 경사각도 예를들면 45°로 설정하는 것이 바람직하다.By the way, the formation surface of the ferromagnetic metal thin films 12a and 12b and the formation surface of the magnetic gap g are inclined at a required angle as shown in FIG. 3 by a plan view of the tape contact surface 11 'of the magnetic head. This inclination angle is preferably set to an inclination angle of 45 °, for example, where the interaction between the insulating layer and the magnetic gap g between the laminations of the ferromagnetic metal thin films l2a and 12b applied to the magnetic tape during recording and reproduction is the smallest.

또 강자성 금속박막(12a,12b)은 자기갭 g의 근방에만 형성되어 있기 때문에 그 형성 면적이 적어도 되고 예를들면 스퍼터링 장치로 일괄처리 가능한 갯수를 대폭으로 증가할 수 있어서 양산성 향상을 도모할 수 있다.In addition, since the ferromagnetic metal thin films 12a and 12b are formed only in the vicinity of the magnetic gap g, the formation area thereof is minimal, and for example, the number of batches that can be batch processed by a sputtering device can be greatly increased, thereby improving productivity. have.

또 적층형성되는 강자성 금속박막(12a,12b)의 두께 t는,In addition, the thickness t of the ferromagnetic metal thin films 12a and 12b formed by lamination is

t = TwSinθt = TwSinθ

이면 되므로 트랙폭에 상당하는 막두께를 적층 형성할 필요없이 헤드제작에 필요한 시간을 단축시킬 수 있다. 여기서 Tw는 트랙폭이며 θ는 강자성 금속박막 형성 표면과 갭형성 표면이 이루는 각도이다(제3도 참조).Since it is a back surface, the time required for head production can be shortened without having to laminate | stack and form the film thickness corresponding to track width. Where Tw is the track width and θ is the angle between the ferromagnetic metal thin film forming surface and the gap forming surface (see FIG. 3).

또 강자성 금속박막(12a,12b)상에 즉 강자성 금속박막(12a,12b)과 산화물유리(15)사이에 비자성 고경도막(13a,13b)을 형성해둠으로써 자기 코어 반쪽부재(11a,11b)와 산화물 유리(l5)사이의 찌그러짐을 분산하여 짧은 범위(단범위)상태의 찌그러짐으로 하거나 또 강자성 금속박막(12a,l2b)의 늘어남을 방지하게 되고 강자성 금속박막(12a,12b)의 잔금이나 갈라짐의 발생을 방지할 수 있어서 자기헤드의 신뢰성을 향상할 수있음과 동시에 자기헤드 제조의 원료 소비율을 양호하게 할 수 있다.The magnetic core half members 11a and 11b are formed on the ferromagnetic metal thin films 12a and 12b, i.e., between the ferromagnetic metal thin films 12a and 12b and the oxide glass 15 by forming the nonmagnetic high hardness films 13a and 13b. Dispersing the crush between the oxide glass and the oxide glass l5 to prevent crushing in a short range (short range) state or to prevent the growth of the ferromagnetic metal thin films 12a and 12b and to prevent the remaining of the ferromagnetic metal thin films 12a and 12b. Can be prevented from occurring, the reliability of the magnetic head can be improved, and the raw material consumption of the magnetic head can be improved.

또, 자기갭 g를 형성하는 강자성 금속박막(l2a,12b)이 자기갭 g의 근방부에 배치되어 있고, 자기헤드 후부측이 접합면적이 넓은 강자성 산화물로 형성되어 있으므로 전기 저항이 작고 강도가 좋은 고성능 자기헤드가 된다.In addition, since the ferromagnetic metal thin films l2a and 12b forming the magnetic gap g are arranged in the vicinity of the magnetic gap g, and the magnetic head rear side is formed of a ferromagnetic oxide having a large junction area, the electrical resistance is small and the strength is good. It becomes a high performance magnetic head.

또, 자기갭 g이 고투자율을 갖는 강자성 금속박막(12a,12b)에만 형성되어 있으므로 메탈테이프등의 높은 저항력 Hc을 갖는 자기 테이프에 대응한, 기록재생 출력이 높은 자기헤드로 되어 있다.In addition, since the magnetic gap g is formed only on the ferromagnetic metal thin films 12a and 12b having high magnetic permeability, the magnetic head has a high recording / reproducing output corresponding to the magnetic tape having high resistivity Hc such as metal tape.

또, 코어 반쪽부재(11a)의 경사면(11a') 및 산화물 유리(14a)상을 연결한 일평면상에 강자성 금속 박막(12a)이 피착형성되고 또 다른쪽 코어 반쪽부재(11b)의 경사면(11b') 및 산화물 유리(14b)상을 연결한 일평면 상에 강자성 금속박막(12b)이 피착 형성되어 있으므로, 예를들면 센더스트 막으로된 강자성 금속박막(12a,12b)의 막구성, 즉 기둥형 결정의 성장방위는 자기갭 g근방 및 상기 경사면(11a',11b')부에 걸쳐서 일방향으로 평행으로 잘린 균일한 것으로 되어 있다. 이때문에 자기헤드는 자로에 따른 방향으로 강자성 금속박막(12a,l2b)전체가 높은 투자율을 나타내게 되며 높은 기록 재생출력이 얻어진다.Further, a ferromagnetic metal thin film 12a is deposited on one plane connecting the inclined surface 11a 'and the oxide glass 14a on the core half member 11a, and the inclined surface of the other core half member 11b. 11b ') and the ferromagnetic metal thin film 12b is deposited on one plane connecting the phases of the oxide glass 14b, for example, the film structure of the ferromagnetic metal thin films 12a and 12b made of the sender film, i.e. The growth direction of the columnar crystal is uniformly cut in parallel in one direction over the magnetic gap g and the inclined surfaces 11a 'and 11b'. For this reason, the magnetic head exhibits a high permeability of the entire ferromagnetic metal thin films 12a, l2b in the direction along the magnetic path, and high recording / reproducing output is obtained.

또 상기 자기혜드의 후부측에는 Mn-Zn페라이트 등의 강자성 산화물 종류를 맞대어 접합하였으며 큰 접착강도를 얻을 수 있어서 원료소비율의 향상을 도모할 수 있다. 또 가공시에 백 트랙 엇갈림이 발생하지 않는 신뢰성 높은 자기 헤드로 되어 있다.In addition, the rear side of the magnetic hydride is bonded to each other by ferromagnetic oxides such as Mn-Zn ferrite, and a large adhesive strength can be obtained, thereby improving raw material consumption rate. Moreover, it is a highly reliable magnetic head which does not generate back track gap at the time of processing.

또, 상기 자기헤드의 자기테이프 접촉면이 거의 강자성 산화물로 되어 있으므로 내마모성을 갖는 자기 헤드로 되어 있다.In addition, since the magnetic tape contact surface of the magnetic head is almost a ferromagnetic oxide, it is a magnetic head having wear resistance.

또 본 발명에 따르면 수 ㎛ 내지 수십 ㎛의 넓은 범위의 트랙폭을 용이하게 형상할 수 있고 절연막을 거쳐서 예를들면 다층으로 적층되는 강자성 금속박막(12a,12b)의 적층수를 적게하여 협트랙화 자기헤드로할 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to easily form a track width in the range of several micrometers to several tens of micrometers, and to narrow the number of layers of ferromagnetic metal thin films 12a and 12b which are laminated in multiple layers via an insulating film. It can be a magnetic head.

이상 설명한 바와 같이 상기 자기헤드는 자기갭 g가 변형 혹은 잔금, 갈라짐 등이 없는 안정된 강자성 금속 박막으로 형성됨으로써, 이 자기갭으로부터 발생하는 자계강도가 높고 재생출력 높게 취하는 등, 예를들면 메탈테이프 등의 높은 저항력 Hc을 갖는 자기 테이프에 고밀도 기록하는데 적합한 헤드로 되어 있다.As described above, the magnetic head is formed of a stable ferromagnetic metal thin film having no magnetic gap g, no deformation, no residue, no cracking, and the like, so that the magnetic field strength generated from the magnetic gap is high and the regeneration output is high. It has a head suitable for high density recording on a magnetic tape having a high resistivity Hc.

그런데, 강자성 금속박막(l2a,12b)의 형성면과 자기갭 g의 형성면이 이루는 각도 θ는 상술한 45°에 한하지 않고 20°내지 80°정도의 범위로 해도 좋다. 여기서 20°이하의 각도이면 인접트랙으로부터의 크로스 로크가 커지며 바람직하게는 30°이상의 각도를 갖게하는 것이 좋다. 또, 상기 경사각도를 90°로 한 경우는 내마모성이 약하므로 80°이하로 하는 것이 좋다. 또 경사각도를 90°로 하면 자기갭 g근방에 형성되는 상술한 강자성 금속박막(12a,l2b)의 막두께를 트랙폭과 같게 형성할 필요가 있으며, 진공박막 형성기술을 사용하여 박막을 형성하는데 있어서 많은 시간을 소요하거나 막 구조가 불균일화 해버리는 점에서 바람직하지 못하다.Incidentally, the angle θ formed between the formation surfaces of the ferromagnetic metal thin films l2a and 12b and the formation surface of the magnetic gap g may be in the range of 20 ° to 80 °, not limited to the above-mentioned 45 °. If the angle is 20 degrees or less, the cross lock from the adjacent track becomes large, and preferably, the angle is 30 degrees or more. In addition, when the inclination angle is set to 90 degrees, wear resistance is weak, so it is better to set it to 80 degrees or less. In addition, when the inclination angle is set to 90 °, it is necessary to form the film thickness of the above-described ferromagnetic metal thin films 12a and l2b formed in the vicinity of the magnetic gap g to be the same as the track width, and to form a thin film using vacuum thin film forming technology. Therefore, it is not preferable in that it takes a lot of time or the film structure becomes uneven.

다음에 상술한 제3도에 도시한 자기헤드의 제조공정을 제4도 내지 제11도를 기초로하여 설명한다.Next, the manufacturing process of the magnetic head shown in FIG. 3 mentioned above is demonstrated based on FIG. 4 thru | or FIG.

우선, 제4도에 도시한 바와 같이 예를들어 Mn-Zn페라이트등의 강자성 산화물기판(20)의 길이방향 한쪽 모서리에 절입홈(21)을 회전 숫돌 또는 전해 에칭등에 의해 복수개 형성한다. 즉 상기 기판(20)의 상면(20)에는 자기갭 형성면에 대응하고 상기 절입홈(21)은 기판(20)의 자기갭 형성위치 근방에 상당하는 부분에 형성된다.First, as shown in FIG. 4, for example, a plurality of cutting grooves 21 are formed at one corner in the longitudinal direction of a ferromagnetic oxide substrate 20 such as Mn-Zn ferrite by a grindstone or electrolytic etching. That is, the upper surface 20 of the substrate 20 corresponds to the magnetic gap forming surface, and the cutout groove 21 is formed at a portion corresponding to the magnetic gap forming position of the substrate 20.

다음에 제5도에 도시한 바와 같이 상기 절입홈(21)에 고융점 유리(22)를 용융 충진한 후 상면(20')과 전면(20")을 평면 연마한다.Next, as shown in FIG. 5, after the high melting point glass 22 is melt-filled in the cutting groove 21, the top surface 20 'and the front surface 20 "are ground-polished.

거기서 제6도에 도시한 바와 같이 고융점 유리(22)를 충진한 후 상기 절입홈(21)의 일부와 겹치도록 상기 한쪽 모서리부에 절입홈(21)과 서로 인접하는 복수개의 절입홈(23)을 형성한다. 이때 형성되는 절입홈(23)의 한쪽 내측면(23')에는 상기 유리(22)의 일부가 노출되어 있다. 또, 이 내벽면(23')과 상기 상면(20')과의 교선(23")은 상기 전면(20")과 직각을 이루고 있다. 그리고 이 내벽면(23')과 상면(20')이 이루는 각도는 소요각도, 예를들어 45°으로 되어 있다.Thereafter, as shown in FIG. 6, after filling the high melting point glass 22, the plurality of cutting grooves 23 adjacent to the cutting groove 21 and the cutting groove 21 adjacent to each other so as to overlap a part of the cutting groove 21. ). At this time, a part of the glass 22 is exposed on one inner surface 23 ′ of the cutting groove 23 formed. Moreover, the intersection 23 "of this inner wall surface 23 'and the said upper surface 20' is perpendicular to the said front surface 20". The angle formed between the inner wall surface 23 'and the upper surface 20' is a required angle, for example, 45 °.

다음에 제7도에 도시한 바와 같이 상기 기판(20)의 절입홈(23)근방에 스퍼터링 등의 진공박막 형성기술을 이용하여 고투자율 합금인 예를들어 센더스트등을 절연막을 거쳐 피착 적층하고 강자성 금속박막(24)을 형성한다. 이 강자성 금속 박막(24)을 형성하는데 있어서 절입홈(23)의 한쪽 내벽면(23')상에 효율좋게 피착하도록 상기 기판(20)을 경사시켜 스퍼터링 장치내에 배치하도록 한다.Next, as shown in FIG. 7, a high permeability alloy, for example, a sender and the like is deposited and deposited through the insulating film in the vicinity of the cutting groove 23 of the substrate 20 by using a vacuum thin film forming technique such as sputtering. A ferromagnetic metal thin film 24 is formed. In forming the ferromagnetic metal thin film 24, the substrate 20 is inclined and disposed in the sputtering device so as to be efficiently deposited on one inner wall surface 23 'of the cutting groove 23.

그리고 이와 같이 피착형성된 강자성 금속박막(24)상에 제8도에 도시한 바와 같이 Ta2O5나 TiO2,SiO2등의 비자성 고경도막(25)을 스퍼터링 등에 의해 피착형성한다. 본예에 있어서는 이 비자성 고경도막(25)은 강자성 금속박막(24)상에 Cr막(25')을 0.1㎛정도의 두께로 형성하고, 이어서 그위에 Ta2O5막(25")을 l㎛정도의 두께로 스퍼터링등에 의해 형성하고 있다. 이와 같이 Cr막(25')을 강자성 금속박막(24)상에 형성함으로써 이 강자성 금속박막(24)에 대한 Ta2O5막(25")의 피착이 양호하게 된다. 거기서 제9도에 도시한 바와 같이 강자성 금속박막(24)과 비자성 고경도막(25)이 적층하여 피착된 절입홈(23)에 상기 유리(22)보다 저융점의 유리(26)을 용융 충전한 후 기판 상면(20')과 전면(20")을 평면 연마하고 경면마무리를 행한다. 이때 전공정에서 피착한 비자성 고경도막(25)의 일부가 상부 절입홈(23)의 내측면에 피착된 상태의 강자성금속박막(24)을 덮은 상태로 되어 있다.As shown in FIG. 8, a nonmagnetic high hardness film 25, such as Ta 2 O 5 , TiO 2 , SiO 2 , or the like is deposited on the ferromagnetic metal thin film 24 thus formed by sputtering or the like. In this example, the nonmagnetic high hardness film 25 forms a Cr film 25 'on the ferromagnetic metal thin film 24 with a thickness of about 0.1 mu m, and then forms a Ta 2 O 5 film 25 "thereon. It is formed by sputtering to a thickness of about 占 퐉. Thus, by forming the Cr film 25 'on the ferromagnetic metal thin film 24, the Ta 2 O 5 film 25 "with respect to the ferromagnetic metal thin film 24 is formed. The deposition becomes good. Therein, as shown in FIG. 9, the glass 26 having a lower melting point than the glass 22 is melt-filled in the cut-out groove 23 in which the ferromagnetic metal thin film 24 and the nonmagnetic high hardness film 25 are laminated. Then, the upper surface 20 'and the front surface 20 "of the substrate are polished and subjected to mirror finishing. At this time, a part of the non-magnetic hard film 25 deposited in the previous step is deposited on the inner surface of the upper cutting groove 23. The ferromagnetic metal thin film 24 in a closed state is covered.

이상과 같이하여 제9도에 도시한 양 코어 반쪽부재블록(20a,20b)을 얻는다. 그리고 한쪽 코어 반쪽 부재 블록(20a)에 제10도에 도시한 바와 같이 권선홈(27)을 형성하는 홈가공을 행한다. 이 코어 반쪽 부재블록(20a)의 절입홈(21a)에는 고융점 유리(22a)가 용융충진되고 절입홈(23a)의 내벽면(23a')에는 강자성금속박막(24a)이 비자성 고경도막(25a)에 의해 피복된 상태로 피착 형성되어 있다. 다음에 상기 코어 반쪽 부재 블록(20a)의 자기갭 형성면인 상면(20a')과 권선홈이 없는 다른쪽 코어 반쪽 부재 블록(20b)의 자기갭 형성면인 상면을 막이 부착된 갭 스페이서를 거쳐서 제11도에 도시한 바와 같이 트랙부 즉 강자성금속박막(24a,24b)이 서로 마주보도록 맞대고 상기 저융점유리(26)에 의해 유리융착을 행한다. 이후 이코어 반쪽 부재 블록(20a,20b)을 접합시킨 합체블록(201)을 제11도에 도시한 a-a선, a'-a'선 위치에서 슬라이싱(slicing)가공하므로 복수개의 헤드칩을 얻을 수 있다. 이 슬라이싱 가공은 경우에 따라서는 방위각만 경사시켜 행한다.In this manner, both core half member blocks 20a and 20b shown in FIG. 9 are obtained. Then, groove processing for forming the winding groove 27 is performed in one core half member block 20a as shown in FIG. A high melting point glass 22a is melt-filled in the cutting groove 21a of the core half member block 20a, and a ferromagnetic metal thin film 24a is formed in the inner wall surface 23a 'of the cutting groove 23a. It adheres and is formed in the state covered by 25a). Next, the upper surface 20a ', which is the magnetic gap forming surface of the core half member block 20a, and the upper surface, which is the magnetic gap forming surface of the other core half member block 20b without the winding groove, are attached to each other via a gap spacer with film. As shown in FIG. 11, the track portions, that is, the ferromagnetic metal thin films 24a and 24b are faced to each other, and glass fusion is performed by the low melting point glass 26. As shown in FIG. Then, the slicing process of the coalescing block 201 in which the e-core half member blocks 20a and 20b are joined is performed at the aa line and the a'-a 'line positions shown in FIG. 11 to obtain a plurality of head chips. have. This slicing process is performed by tilting only the azimuth angle in some cases.

여기서 상술한 비자성 고경도막(25)으로서는 W,Mo,Si,Ta등의 고융점 금속 및 그 산화물을 이용할 수있고 이 경우 막두께를 수 ㎛ 이하로 형성하는 것이 바람직하며, 또 상술한 바와 같은 강자성 금속박막상에 Cr막을 거쳐서 피착하는 것이 바람직하다. 이는 Cr막을 거침으로써 강자성 금속 박막과의 피착이 양호하게 되기 때문이다. 한편 본 실시예에서는 비자성 고경도막(25)은 Cr막-Ta2O5막으로 형성되었으나 Cr막-SiO2막-Ta2O5막의 순서로 형성하여도 좋으며, 또 Ti막을 0.1㎛정도로 하고, 이어서 TiO2막을 1㎛정도로 적층 피착해도 좋다.As the non-magnetic high hardness film 25 described above, high melting point metals such as W, Mo, Si, Ta, and oxides thereof can be used. In this case, it is preferable to form a film having a thickness of several μm or less. It is preferable to deposit on a ferromagnetic metal thin film via Cr film. This is because the deposition with the ferromagnetic metal thin film becomes good by passing the Cr film. In this embodiment, bonded to each other to a non-magnetic high-hardness film 25 is formed of Cr film -Ta 2 O 5 film, but formed of a Cr film -SiO 2 -Ta 2 O 5 layer film in order, and also so 0.1㎛ Ti film Subsequently, a TiO 2 film may be laminated and deposited on the order of 1 μm.

이상과 같이 형성되는 헤드칩의 자기 테이프 접촉면을 원통연마하면 제2도에 도시한 자기헤드가 얻어진다. 이 제2도의 자기헤드에 있어서, 한쪽 코어 반쪽부재(1la)는 상기 한쪽 블록(20a)을 모재로 하고 있으며, 다른쪽 코어 반쪽부재(11b)는 상기 다른쪽 블록(20b)이 모재로 되어 있다. 또 산화물 유리(14a,14b)는 상기 고융점 유리(22a,22b)에 각각 대응하고 산화물 유리(15)는 상기 저융점 유리(26)에 대응하고 있으며, 또 이 자기헤드의 강자성 금속박막(12a,12b)은 상기 금속박막(24a,24b)에, 비장성 고경도막(13a,13b)은 상기 고경도막(25a,25b)에 각각 대응하고 있다. 또 상기 자기헤드의 권선구멍(16)은 상기 한쪽 블록(20a)에 형성된 권선홈(27)에 대응하고 있다.Cylindrical polishing of the magnetic tape contact surface of the head chip formed as described above yields the magnetic head shown in FIG. In the magnetic head of FIG. 2, one core half member 1la has the one block 20a as a base material, and the other core half member 11b has the other block 20b as a base material. . The oxide glasses 14a and 14b correspond to the high melting point glass 22a and 22b, respectively, and the oxide glass 15 corresponds to the low melting point glass 26. The ferromagnetic metal thin film 12a of the magnetic head is also provided. And 12b correspond to the metal thin films 24a and 24b, and the non-thickness high hardness films 13a and 13b correspond to the high hardness films 25a and 25b, respectively. The winding hole 16 of the magnetic head corresponds to the winding groove 27 formed in the one block 20a.

이와 같이 상기 헤드에서는 예를들어 센더스트 막인 강자성 금속박막의 막구조, 즉 기둥형 결정의 성장방위는 막구조의 불균일한 부분을 갭면 연마 가공에 의해 절취해버리기 때문에 절입홈(23a,23b)의 내벽면(23a',23b')인 경사평면, 즉 일평면상에 일방향으로 절단된 균일한 것으로 되어 있다. 이 때문에 강자성금속박막(24a,24b)의 각부가 헤드의 자로 방향에 따라 높은 투자율을 나타내게 되며 또 이 강자성 금속박막(24a,24b)은 융착형 산화물 유리(26)에 대하여 비자성 고경도막(25a,25b)에 의해 보호되어 변형이나 잔금, 갈라짐등이 발생하지 않고 안정되게 되며, 상기 자기헤드는 안정된 고출력을 얻을 수 있다.As described above, in the head, the growth structure of the ferromagnetic metal thin film, for example, the sender film, that is, the columnar crystal growth, cuts out uneven portions of the film structure by gap surface polishing, so that the cutting grooves 23a, 23b The inclined planes that are the inner wall surfaces 23a 'and 23b', that is, the uniform cut in one direction on one plane. Therefore, each part of the ferromagnetic metal thin films 24a and 24b exhibits a high permeability according to the direction of the magnetic path of the head, and the ferromagnetic metal thin films 24a and 24b have a nonmagnetic high hardness film 25a with respect to the fused oxide glass 26. It is protected by (25b), and it becomes stable, without deformation | transformation, a balance, a crack, etc., and the said magnetic head can obtain a stable high output.

또 상기 자기헤드는 헤드의 후부측 접합면, 즉 백캡 면에 있어서 강자성 산화물 종류가 직접 융착되어 있으므로 헤드칩 내파괴 강도가 크게 제조하기 쉬운 헤드로 되어 있으며, 강자성 금속박막의 안정됨과 아울러 원료소비율의 향상을 도모할 수 있다.In addition, since the magnetic head is directly fused at the rear junction surface of the head, that is, the back cap surface, the magnetic head has a high breakdown strength, which is easy to manufacture, and the ferromagnetic metal thin film is stabilized and the raw material consumption rate is increased. Improvement can be aimed at.

다음에 제12도 내지 제20도를 기초로한 다른 공정에 의해 제작되는 자기헤드의 예를 설명한다.Next, an example of a magnetic head manufactured by another process based on FIGS. 12 to 20 will be described.

우선 제12도에 도시한 바와 같이 예를들면 Mn-Zn 페라이트 등의 강자성 산화물 기판(30)의 자기테이프접촉면에 대응하는 상면(30')에, 이 상면(30')을 경사로 횡단하는 단면 ]자형 홈(31)을 복수개 형성한다. 여기서, 홈(31)의 깊이는 헤드의 권선구멍에 도달할 정도의 깊이이다.First, as shown in FIG. 12, a cross section of the upper surface 30 'corresponding to the magnetic tape contact surface of the ferromagnetic oxide substrate 30, such as Mn-Zn ferrite, inclinedly crosses the upper surface 30'. A plurality of female grooves 31 are formed. Here, the depth of the groove 31 is a depth enough to reach the winding hole of the head.

다음에, 제13도에 도시한 바와 같이 상기 홈(31)에 고융점 유리(32)를 용융충진한 후, 상면(30')과 전면(30")을 평면 연마한다.Next, as shown in FIG. 13, after the high melting point glass 32 is melt-filled in the said groove | channel 31, the upper surface 30 'and the front surface 30 "are ground-polished.

그리고 제14도에 도시한 바와 같이 고융점 유리(32)를 충전한 상기 홈(31)의 일부와 겹치고, 이 홈(31)과는 역방향으로 경사지게 상면(30')을 횡단하는 단면 ]자형 홈(33)을 상기 상면(30')에 복수 형성한다. 이홈(33)의 깊이는 상기 홈(31)과 같은 정도이다. 이때 이 홈(33)의 내측면(33')과 전면(30")과의 교선(33")은 전면(30")에 노출한 상기 고융점 유리(32)의 단면상에 있으며, 또 이 교선(3")은 상면(30')과 직각을 이루고 있다. 또 내측면(33')과 전면(30")이 이루는 각도는 소요각도, 예를들면 45°로 되어 있다.And as shown in FIG. 14, the cross section] -shaped groove which overlaps a part of the said groove | channel 31 which filled the high melting point glass 32, and crosses the upper surface 30 'inclined in the opposite direction to this groove | channel 31. A plurality of 33 are formed on the upper surface 30 '. The depth of the groove 33 is about the same as that of the groove 31. At this time, the intersection 33 "between the inner surface 33 'and the front surface 30" of this groove 33 is in the cross section of the said high melting point glass 32 exposed to the front surface 30 ", and this intersection 3 " is perpendicular to the upper surface 30 '. The angle formed between the inner surface 33 'and the front surface 30 "is a required angle, for example, 45 degrees.

다음에 제15도에 도시한 바와 같이 상기 기판(30)의 홈(33)근방에 스퍼터링등의 진공박막 형성 기술을 이용하여 고투자율 합금인 예를들어 샌더스트를 절연막을 거쳐서 피착형성하고 강자성 금속박막(34)을 형성한다. 이때 상기 홈(33)의 내측면(33')상에 효율좋게 피착되도록 상기 기판(30)을 경사시켜 스퍼터링 장치내에 배치한다.Next, as shown in FIG. 15, a high permeability alloy, for example, sandblast is deposited through an insulating film in the vicinity of the groove 33 of the substrate 30 by using a vacuum thin film formation technique such as sputtering. The thin film 34 is formed. At this time, the substrate 30 is inclined and disposed in the sputtering apparatus so as to be efficiently deposited on the inner surface 33 ′ of the groove 33.

그리고 제16도에 도시한 바와 같이 상기 강자성 금속박막(34)상에 예를들면 Cr 막(35')을 막두께 0.1㎛정도, 이어서 Ta2O5막(35")을 막두께 1㎛ 정도 스퍼터링에 의해 피착하고 비자성 고경도막(35)을 형성한다. 이리하여 강자성 금속박막(34)과 비자성 고경도막(35)이 적층 형성된 상기 홈(33)에 상기 유리(32)보다 융점이 낮은 유리(36)를 용융 충전한 후 상면(30')과 전면(30")을 평면 연마하고 경면 연마 마무리를 행한다. 이때 상기 금속박막(34)과 상기 비자성 고경도막(35)의 적층막의 일부가 상기 홈(33)의 내측면(33')에 남고, 이 내측면(33')에 강자성 금속박막(34)이 피착된 상태로 된다.As shown in FIG. 16, on the ferromagnetic metal thin film 34, for example, the Cr film 35 'is about 0.1 mu m thick, and then the Ta 2 O 5 film 35 "is about 1 mu m thick. It is deposited by sputtering to form a nonmagnetic high hardness film 35. Thus, a melting point lower than that of the glass 32 is formed in the groove 33 in which the ferromagnetic metal thin film 34 and the nonmagnetic high hardness film 35 are laminated. After melt-filling the glass 36, the upper surface 30 'and the front surface 30 "are ground-polished and mirror polishing finish is performed. At this time, a part of the laminated film of the metal thin film 34 and the nonmagnetic high hardness film 35 remains on the inner surface 33 'of the groove 33, and the ferromagnetic metal thin film 34 on the inner surface 33'. This is in a deposited state.

이상과 같이 하여 제17도에 도시한 코어 반쪽부재 블륵(30a,30b)을 얻는다.In this manner, the core half member blocks 30a and 30b shown in FIG. 17 are obtained.

그리고 한쪽 코어 반쪽부재 블록(30a)에 제18도에 도시한 바와 같이 권선홈(37)을 형성하는 홈가공을 행한다. 이 코어 반쪽부재 블록(30a)의 홈(31a)에는 고융점 유리(32a)가 용융충전되고, 홈(33a)의 내측면(33a')에는 강자성 금속박막(34a)이 형성되고, 이 강자성 금속박막(34a)과 저융점 유리(36)사이에 비자성고경도막(35a)이 개재되어 있다.Then, groove processing for forming the winding groove 37 is performed in one core half member block 30a as shown in FIG. The high melting point glass 32a is melt-filled in the groove 31a of the core half member block 30a, and a ferromagnetic metal thin film 34a is formed on the inner surface 33a 'of the groove 33a. A nonmagnetic high hardness film 35a is interposed between the thin film 34a and the low melting glass 36.

이와 같이 형성되는 한쪽 코어 반쪽부재 블록(30a)의 자기갭 형성면의 전면(30a")과 다른쪽 코어 반쪽부재 블록(30b)의 마찬가지 갭 형성면인 전면을 막부착 갭 스페이서를 거쳐 제19도에 도시한 바와 같이 트랙부, 즉 강자성 금속박막(34a,34b)을 맞대어 저융점 유리(36)에 의해 유리 융착한다. 그 후 양 코어 반쪽부재 블록(30a,30b)을 합친 블록(301)을 제19도에 도시한 b-b 선, b'-b 선의 위치에서 슬라이싱 가공하므로 복수개의 헤드칩을 얻을 수 있다.19 through the membrane-attached gap spacer on the front surface 30a "of the magnetic gap formation surface of one core half member block 30a formed in this way, and the same gap formation surface of the other core half member block 30b. As shown in Fig. 2, the glass parts are fused by the low melting point glass 36 to face the track portions, i.e., the ferromagnetic metal thin films 34a and 34b, and then the block 301 which combines the two core half member blocks 30a and 30b is then joined. Slicing is performed at positions bb and b'-b shown in FIG. 19, whereby a plurality of head chips can be obtained.

다음에 상기 헤드칩의 자기테이프 미끄럼 접촉면을 원통 연마함으로써 제20도에 도시한 자기헤드로 된다. 이 제20도의 자기헤드에 있어서 한쪽 자기코어 반쪽부재(41a)는 상기 한쪽 코어 반쪽부재 블록(30a)을 모재로 하고 다른쪽 자기코어 부재(41b)는 상기 다른쪽 코어 반쪽부재 블록(30b)을 모재로 하고 있다. 또 산화물 유리(42a,42b)는 홈(31a,31b)에 충전된 고융점 유리(32a,32b)에 각각 대응하고, 산화물 유리(43)는홈(33a,33b)에 충전된 상기 저융점 유리(36)에 대응하고 있다. 또, 이 자기헤드에 형성되어 있는 강자성금속박막(44a,44b)은 상기 홈(33a,33b)의 내측면(33a',33b')에 피착된 상기 금속박막(34a,34b)에 각각대응하고, 또 비자성 고경도막(45a,45b)은 상기 저융점 유리(36)와의 사이에 개재되어 있는 Cr 막(35')과Ta2O5막(35'')으로 이루어지는 비자성 고경도막(35a,35b)과 각각 대응하고 있다. 또 권선구멍(46)은 상기 권선홈(37)에 대응하고 있다.Next, the magnetic tape sliding contact surface of the head chip is cylindrically polished to obtain the magnetic head shown in FIG. In the magnetic head of FIG. 20, one magnetic core half member 41a has the one core half member block 30a as a base material, and the other magnetic core member 41b uses the other core half member block 30b. It is made of base material. The oxide glasses 42a and 42b correspond to the high melting point glass 32a and 32b filled in the grooves 31a and 31b, respectively, and the oxide glass 43 is the low melting point glass filled in the grooves 33a and 33b. 36). The ferromagnetic metal thin films 44a and 44b formed on the magnetic head correspond to the metal thin films 34a and 34b deposited on the inner surfaces 33a 'and 33b' of the grooves 33a and 33b, respectively. The nonmagnetic high hardness films 45a and 45b are made of a Cr film 35 'and a Ta 2 O 5 film 35''interposed between the low melting glass 36 and a nonmagnetic high hardness film 35a. And 35b) respectively. The winding hole 46 corresponds to the winding groove 37.

이상 설명한 공정에서 만들어지는 제20도에 도시한 자기헤드는 상술한 제2도에 도시한 자기헤드와 마찬가지로 자기갭 g의 형성면과 강자성 금속박막(44a,44b)의 형성면(41a',41b')이 테이프 접촉면(4l')에서 보다 소요각도 경사져 있으며, 또 이 강자성 금속박막(44a,44b)은 비자성 고경도막(45a,45b)에 의해 융착유리(43)에 대하여 보호되어 변형이나 잔금, 갈라짐등이 발생하지 않고 안정되어 자기갭 근방에만 형성되어 있으므로 제2도에 도시한 자기헤드와 마찬가지로 양호한 효과를 얻을 수 있다.The magnetic head shown in FIG. 20 produced in the above-described process is similar to the magnetic head shown in FIG. 2 above, and the formation surface of the magnetic gap g and the formation surfaces 41a 'and 41b of the ferromagnetic metal thin films 44a and 44b. ') Is more inclined at the tape contact surface 4l', and the ferromagnetic metal thin films 44a and 44b are protected against the fused glass 43 by the nonmagnetic high hardness films 45a and 45b, thereby deforming or remaining As the magnetic head shown in FIG. 2 can be obtained, it is stable and formed in the vicinity of the magnetic gap.

이와 같이 안정된 강자성 금속박막(44a,44b)만에 의해 자기갭 g을 형성하고 있으므로 기록재생출력이 높은 메탈 테이프등에 대응한 자기헤드로 되어 있다.Since the magnetic gap g is formed only by the stable ferromagnetic metal thin films 44a and 44b in this manner, the magnetic head corresponds to a metal tape having a high recording / reproducing output.

또, 코어 반체(41a,41b)의 경사면(41a',41b')과 비자성 재료(42a,42b)상을 연결한 연속 평면상에 강자성금속박막(44a,44b)이 형성되어 있으므로 강자성 금속박막(44a,44b)은 각부에 있어서 막구조가 균일하게 되며 자료에 따른 방향으로 고투자율을 나타내기 때문에 자기헤드 기록재생 출력이 높아진다.In addition, since the ferromagnetic metal thin films 44a and 44b are formed on a continuous plane connecting the inclined surfaces 41a 'and 41b' of the core halves 41a and 41b to the nonmagnetic materials 42a and 42b, the ferromagnetic metal thin films 44a and 44b have a uniform film structure in each portion and exhibit a high permeability in the direction along the data, resulting in high magnetic head recording / reproducing output.

그런데 제19도의 합체된 블록(301)을 슬라이싱하는 b-b 선, b'-b' 선은 양쪽 코어 반쪽부재 블록(30a,30b)의 맞대기면에 수직으로 되어 있으나 이 맞대기면에 대해 슬라이싱 방향을 경사시켜 방위기록용 기록헤드를 제작할 수 있다.The bb line and b'-b 'line slicing the coalesced block 301 of FIG. 19 are perpendicular to the butt surfaces of both core half member blocks 30a and 30b, but the slitting direction is inclined with respect to the butt surface. In this way, a recording head for bearing recording can be manufactured.

한편, 본 실시예에 있어서도 비자성 고경도막으로서는 상술한 실시예와 마찬가지로 W,Mo,Si,Ti 등의 고융점 금속 및 그 산화물이 적합하며 막두께 수㎛로 형성하는 것이 바람직하고 또 베이스로서 Cr 막을 형성하는 것이 바람직하다.Also in this embodiment, as the non-magnetic high hardness film, high melting point metals such as W, Mo, Si, Ti and the like and oxides thereof are suitable, and the film thickness is preferably several mu m. It is preferable to form a film.

다음에 자기갭 근방에만 강자성 금속박막을 형성하는 것은 아니며 헤드의 전면부, 즉 전방갭 형성면보다 후부측, 즉 백갭 형성면까지 연속하여 강자성 금속박막을 형성한 본 발명의 다른 실시예인 제21도의 자기헤드를 기초로 설명한다. 이 자기헤드는 자기코어 반쪽부재(51a,51b)가 강자성 산화물인 예를들어 Mn-Zn페라이트로 형성되고 코어 반쪽부재(51a,51b)의 맞대기면인 자기갭 g의 형성면과 코어 반쪽부재(51a,51b)의 접합면 근방에 피착 형성된 예를들어 센더스트 막인 강자성 금속박막(52a,52b)의 형성면은 테이프 접촉면(51')에서 보아 예를들어 45°의 각도로 경사져 있다. 또 이 금속박막(52a,52b)은 전방갭 형성면으로부터 백갭 형성면에 이르기까지 연속하여 형성되고, 이 금속박막(52a,52b)만으로 자기갭 g이 형성되어 있다. 또 보강재인 산화물 유리(53a,53b)는 접합면 근방에 충전되어 있으며, 융착용 유리(54)는 강자성 금속박막(52a,52b)사이에 비자성인 고융점 금속 및 그 산화물로 이루어지는 비자성 고경도막(55a,55b)을 거쳐서 충전되어 있다. 그리고 이런 산화물 유리(53a,53b,54)는 트랙폭 Tw을 규제하는 역할도 있다. 또,(56)은 한쪽코어 반쪽부재(51a)측에 형성된 권선구멍이다.Next, the ferromagnetic metal thin film is not formed only in the vicinity of the magnetic gap, and the magnetism of FIG. 21 is another embodiment of the present invention in which the ferromagnetic metal thin film is continuously formed from the front portion of the head, that is, the rear side, that is, the back gap formation surface, than the front gap formation surface. It demonstrates based on a head. The magnetic head is formed of, for example, Mn-Zn ferrite in which the magnetic core half members 51a and 51b are ferromagnetic oxides, and the formation surface of the magnetic gap g, which is an abutting surface of the core half members 51a and 51b, and the core half member ( The formation surfaces of the ferromagnetic metal thin films 52a and 52b, which are, for example, sender films formed on the junction surfaces of 51a and 51b, are inclined at an angle of, for example, 45 ° as seen from the tape contact surface 51 '. The metal thin films 52a and 52b are continuously formed from the front gap forming surface to the back gap forming surface, and the magnetic gap g is formed only by the metal thin films 52a and 52b. In addition, the oxide glass 53a, 53b as a reinforcing material is filled in the vicinity of the bonding surface, and the fusion glass 54 is made of a nonmagnetic high melting point metal and its oxide between the ferromagnetic metal thin films 52a, 52b. It is charged via (55a, 55b). The oxide glasses 53a, 53b, 54 also serve to regulate the track width Tw. Reference numeral 56 denotes a winding hole formed on one core half member 51a side.

그런데, 상기 강자성 금속박막(52a,52b)은 코어 반쪽부재(51a,51b)의 돌기부 한쪽 경사면(51a',51b')인 일평면 상에 형성되어 있기 때문에, 이 금속박막(52a,52b)은 각부에 있어서 막구조가 균일하게 되어 있고, 자기헤드의 자로방향에 따라 이 금속박막(52a,52b) 전체가 높은 투자율을 나타내고 또 이 금속박막(52a,52b)은 융착형 비자성재(54)에 대하여 비자성 고경도막(55a,55b)에 의해 보호되어 융착시 승온에 의해 변형혹은 잔금, 갈라짐등이 발생하지 않고 안정하게 유지되어 자기헤드 기록 재생출력이 높아져 있다.However, since the ferromagnetic metal thin films 52a and 52b are formed on one plane which is the inclined surfaces 51a 'and 51b' of the protrusions of the core half members 51a and 51b, the metal thin films 52a and 52b are formed. In each part, the film structure is uniform, and according to the magnetic path direction of the magnetic head, the entire metal thin films 52a and 52b exhibit a high permeability, and the metal thin films 52a and 52b are bonded to the fused nonmagnetic material 54. It is protected by the non-magnetic high hardness films 55a and 55b, and is maintained stable without deforming, remaining, cracking, etc. due to the elevated temperature during fusion, thereby increasing the magnetic head recording / reproducing output.

또, 헤드의 자기테이프 접촉면(51')의 평면도를 제22도에 도시한 바와 같이 강자성 금속박막(52a,52b)은 각 층이 Ta2O5, Al2O3, ZrO2, Si2N4, SiO2등의 고내마모성 절연막을 거쳐서 적층형성되어 있다. 한편 금속박막(52a,52b)의 적층수는 임의로 설정할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 22, a plan view of the magnetic tape contact surface 51 'of the head, the ferromagnetic metal thin films 52a and 52b have Ta 2 O 5 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , and Si 2 N. 4, through a high abrasion resistance of the SiO 2 insulating film, etc. are laminated. On the other hand, the number of laminated metal thin films 52a and 52b can be arbitrarily set.

다음에, 이와 같은 자기헤드의 제조공정을 제23도 내지 제30도를 기초로 설명한다.Next, a manufacturing process of such a magnetic head will be described based on FIGS. 23 to 30. FIG.

우선, 제23도에 도시한 바와 같이 Mn-Zn 페라이트등의 강자성 산화물기판(60)의 상면부에 회전숫돌등을 사용하여 상면부를 횡단하도록 단면 V자형 홈(61)을 복수개 형성한다.First, as shown in FIG. 23, a plurality of cross-sectional V-shaped grooves 61 are formed in the upper surface of the ferromagnetic oxide substrate 60 such as Mn-Zn ferrite so as to traverse the upper surface by using a rotary grindstone or the like.

그리고 제24도에 도시한 바와 같이 상기 홈(61)에 고융점 유리(62)를 용융충전한 후 평면 연마가공을 행한다.As shown in FIG. 24, the groove 61 is melt-filled with the high melting point glass 62, and then subjected to plane polishing.

다음에 제25도에 도시한 바와 같이 상기 홈(61)과는 겹치지 않고, 이 홈(61)과 인접한 단면 V자형 홈(63)을 복수개 형성한다. 이 홈(63)의 내벽면의 경사각도는 상면에 대해 예를들면 45°로 되어 있다. 이와같이 형성한 기판(60)상면에 제26도에 도시한 바와 같이 센더스트 등의 강자성 금속을 스퍼터링, 이온도금증착등의 진공박막형성 기술을 사용하여 상기 고내마모성 절연막을 거쳐 강자성 금속박막(64)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 25, a plurality of cross-sectional V-shaped grooves 63 adjacent to the grooves 61 are formed without overlapping with the grooves 61. As shown in FIG. The inclination angle of the inner wall surface of the groove 63 is, for example, 45 ° with respect to the upper surface. As shown in FIG. 26, the ferromagnetic metal thin film 64 is formed on the upper surface of the substrate 60 through the highly wear-resistant insulating film by using a vacuum thin film forming technique such as sputtering or ion plating deposition. To form.

그리고 그 위에 예를들어 Cr 막(65')을 0.1 ㎛ 정도 두께로 피착하고 이어서 Ta2O5막(65")을 1㎛ 정도두께로 스퍼터링등에 의해 피착하여 비자성 고경도막(65)을 형성한다. 이 비자성 고경도막(65)으로서는W,Mo,Si,Ta 등의 고융점 금속 및 그 산화물의 수 ㎛ 두께이하의 것이 적합하다. 이 비자성 고경도막(65)의 강자성 금속박막(64)에 대한 피착에 있어서 Cr 막(65')을 개재함으로써 접착이 양호하게 행해질 수있다.Then, for example, a Cr film 65 'is deposited to a thickness of about 0.1 μm, and then a Ta 2 O 5 film 65 ″ is deposited to a thickness of about 1 μm by sputtering or the like to form a nonmagnetic high hardness film 65. As the nonmagnetic high hardness film 65, those having a high melting point metal such as W, Mo, Si, Ta, and the like and having a thickness of several micrometers or less are suitable, etc. The ferromagnetic metal thin film 64 of the nonmagnetic high hardness film 65 is suitable. Adhesion can be satisfactorily performed by interposing the Cr film 65 'in the deposition on the substrate.

다음에, 제28도에 도시한 바와 같이 상기 기판(60)의 상면부를 강자성 금속박막(64)과 비자성 고경도막(65)의 적층막이 상기 홈(63)에만 잔류하도록 평면연마 가공하고, 한쌍의 코어 반쪽부재 블록(60a,60b)을 얻는다. 그리고, 한쪽의 코어 반쪽부재 블록(60a)에 제29도에 도시한 바와 같이 권선홈(66) 및 유리 충전홈(67)을 형성하는 홈가공을 행한다.Next, as shown in FIG. 28, the top surface of the substrate 60 is subjected to planar polishing so that the laminated film of the ferromagnetic metal thin film 64 and the nonmagnetic high hardness film 65 remains only in the groove 63, and a pair Core half member blocks 60a and 60b are obtained. And the groove processing which forms the winding groove 66 and the glass filling groove 67 is performed in one core half member block 60a as shown in FIG.

다음에, 제30도에 도시한 바와 같이, 이 권선홈(66)을 형성한 코어 반쪽부재 블록(60a)과 권선홈이 없는 코어 반쪽부재 블록(60b)을 갭형성 면으로 되는 전면이 마주보도록 하여, 갭스페이서를 거쳐 트랙부 즉 강자성 금속박막(64a와 64b)을 맞대어서, 권선홈(66) 및 유리 충전홈(67)에 저융점 유리재를 삽입하여 융착접합하므로서 블록(601)을 형성한다. 이때, 양 코어 반쪽부재 블록(60a,60b)의 강자성 금속박막(64a,64b)의 표면측에 비자성 고경도막(65a,65b)을 거쳐서 형성되는 홈부(63a',63b')에 저융점 유리(68)가 충전된 상태로 된다.Next, as shown in FIG. 30, the core half member block 60a on which the winding groove 66 is formed and the core half member block 60b without the winding groove face each other so as to face the gap forming surface. Thus, the block portion 601 is formed by inserting a low melting point glass material into the winding groove 66 and the glass filling groove 67 by abutting the track portion, that is, the ferromagnetic metal thin films 64a and 64b through a gap spacer. do. At this time, low melting point glass is formed in the groove portions 63a 'and 63b' formed on the surface side of the ferromagnetic metal thin films 64a and 64b of both core half member blocks 60a and 60b via the nonmagnetic high hardness films 65a and 65b. 68 is in a charged state.

그래서, 상기 블록(601)을 제30도에 있어서 c-c 선, c'-c' 선의 위치에서 슬라이싱 가공하므로서, 복수개의 헤드칩을 얻는다. 그후, 이 헤드칩의 자기테이프 접촉면을 원통연마하는 것으로써 제21도에 도시된 자기헤드로 된다. 여기서, 이 자기헤드의 한쪽의 코어 반쪽부재(51a)는 한쪽의 코어 반쪽부재 블록(60a)을 모재로 하고, 다른쪽의 코어 반쪽부재(51b)는 다른쪽의 코어 반쪽부재 블록(60b)을 모재로 하고 있다. 또, 강자성 금속박막(52a,52b)은 상기 금속박막(64a,64b)에 대응하고, 산화물 유리(53a,53b)는 상기 고융점유리(62a,62b)에 대응하며, 또 산화물 유리(54)는 상기 저융점 유리(68)에 대응하고 있고, 그리고 비자성고경도막(55a,55b)은 Cr 막(65')과, Ta2O5막(65")으로 이루어지는 비자성 고경도막(65a,65b)에 대응하고있다. 더우기, 권선구멍(56)은 상기 권선홈(66)에 대응하고 있다.Thus, by slicing the block 601 at positions cc and c'-c 'in FIG. 30, a plurality of head chips are obtained. Thereafter, the magnetic tape contact surface of the head chip is subjected to cylindrical polishing to obtain the magnetic head shown in FIG. Here, one core half member 51a of this magnetic head has one core half member block 60a as a base material, and the other core half member 51b uses the other core half member block 60b. It is made of base material. The ferromagnetic metal thin films 52a and 52b correspond to the metal thin films 64a and 64b, and the oxide glasses 53a and 53b correspond to the high melting point glasses 62a and 62b, and the oxide glass 54 is used. Corresponds to the low melting glass 68, and the nonmagnetic high hardness films 55a and 55b are made of a Cr film 65 'and a Ta 2 O 5 film 65 ". 65b) Moreover, the winding hole 56 corresponds to the winding groove 66. As shown in FIG.

그런데, 상술한 제조공정에 있어서, 강자성 금속박막(64a,64b)의 막구조의 불균일한 부분은 제28도에서 설명한 연마공정, 즉 갭면 연마 가공시에 잘려나가 버리기 때문에 홈(63a,63b)의 경사면에는 균일한 막구조를 가지는 강자성 금속박막(64a,64b)이 비자성 고경도막(65a,65b)에 의해 피복된 상태로 남고, 유리융착시의 승온시에도 변형하거나 잔금이나 갈라짐이 생기지 않고, 안정된 상태로 유지된다. 이 때문에 상기자기헤드는 한 평면상에 형성된 강자성 금속박막(64a,64b)이 자로에 따라 그 각부의 고투자율로 되는 것으로 안정한 고출력이 얻어지게 된다.By the way, in the above-mentioned manufacturing process, the nonuniform portions of the film structure of the ferromagnetic metal thin films 64a and 64b are cut off during the polishing process described in FIG. 28, that is, the gap surface polishing process. On the inclined surface, the ferromagnetic metal thin films 64a and 64b having a uniform film structure remain covered with the nonmagnetic high hardness films 65a and 65b, and do not deform or leave cracks or cracks even when the glass is fused. It remains stable. For this reason, the magnetic head has a high magnetic permeability of the ferromagnetic metal thin films 64a and 64b formed on one plane, so that a stable high output is obtained.

그런데 제30도의 합체한 블럭(601)을 슬라이싱하는 c-c 선, c'-c' 선은 양 코어 반쪽부재 블록(60a,60b)의 맞대기면에 수직으로 되어 있지만 이 맞대기면에 대하여 슬라이싱 방향을 경사시켜 방위각 기록용 자기헤드를 제작할 수가 있다.By the way, the cc line and the c'-c 'line slicing the united block 601 of FIG. 30 are perpendicular to the butt surfaces of both core half member blocks 60a and 60b, but the slitting direction is inclined with respect to the butt face. The magnetic head for azimuth recording can be manufactured.

상술한 바와 같이 제2도, 제20도 및 제21도에 도시하는 본 발명의 자기헤드는 제작에 있어 강자성 산화물 기판에 형성된 홈에 미리 유리를 충전하여 놓고 이 홈 근방에 강자성 금속박막을 피착하는 경사평면을 형성하기 위한 홈가공을 실시하고 있다. 이 때문에 갭 근방의 박막부분과 경사면상의 박막부분의 특성이 균일하게 되고, 또 이 강자성 금속박막은 융착 유리에 대하여 비자성 고경도막에 의해 보호되어 안정된 상태로 유지되고 더우기 갭부에 강자성 산화물재가 노출하지 않도록 하는 고출력 헤드로 되어 있다.As described above, the magnetic head of the present invention shown in FIGS. 2, 20, and 21 is formed by filling glass in a groove formed in a ferromagnetic oxide substrate in advance and depositing a ferromagnetic metal thin film in the vicinity of the groove. Grooving is performed to form an inclined plane. As a result, the characteristics of the thin film portion near the gap and the thin film portion on the inclined surface become uniform, and the ferromagnetic metal thin film is protected by a nonmagnetic high hardness film against the fused glass, which is maintained in a stable state. Furthermore, the ferromagnetic oxide material is not exposed to the gap portion. It has a high output head to prevent.

이와 같은 본 발명의 자기헤드는 페라이트가 갭부에 트랙폭으로 예를들어 40%의 길이에 걸쳐 노출하는 종래의 자기헤드와 실험치를 비교하면 고항자력 테이프의 예를들어 메탈테이프에 대한 기록재생출력이 1 내지 5MHz내에서 약 3dB 높은 값을 나타내었다.The magnetic head of the present invention compares the experimental value with the conventional magnetic head, in which ferrite is exposed to the gap in track width, for example, over 40% of the length. The value is about 3 dB higher within 1 to 5 MHz.

또 본 발명의 자기헤드는 제작시의 변동이 적고 원료소비율도 양호하다.In addition, the magnetic head of the present invention has little variation in production and good raw material consumption rate.

그런데, 제2도에 도시하는 자기헤드에서는 강자성 금속박막(52a,52b)이 테이프 접촉면(51')을 경사지게 가로지르도록 배치되어 있지만 제3도에 도시하는 바와 같이 자기헤드의 양 코어 반쪽부재(51a',51b') 각각의 한 측면측에 강자성 금속박막(52a',52b')을 형성하고, 테이프 접촉면에 V자형으로 강자성 금속박막(52a',52b')을 배치하고, 이 금속박막에 의해 자기갭(g)이 형성되도록 해도 좋고, 이것은 제2도 및 제20도에 도시하는 자기헤드에 관해서도 마찬가지이다. 또 이 경우도 강자성 금속박막(52a',52b')은 융착유리에 대하여 비자성 고경도막(55a',55b')에 의해 보호하도록 이 비자성 고경도막(55a',55b')을 강자성 금속박막(52a',52b')상에 피착형성한다.By the way, in the magnetic head shown in FIG. 2, the ferromagnetic metal thin films 52a and 52b are disposed to cross the tape contact surface 51 'at an inclined angle, but as shown in FIG. 51a 'and 51b'), ferromagnetic metal thin films 52a 'and 52b' are formed on one side of each side, and ferromagnetic metal thin films 52a 'and 52b' are arranged in a V-shape on the tape contact surface, The magnetic gap g may be formed by this, and this also applies to the magnetic head shown in FIG. 2 and FIG. Also in this case, the ferromagnetic metal thin films 52a 'and 52b' protect the non-magnetic high hardness films 55a 'and 55b' so as to be protected by the nonmagnetic high hardness films 55a 'and 55b' against the fusion glass. It deposits on (52a ', 52b').

그런데, 자기코어 반쪽부재를 형성하는 강자성 산화물로서는 Mn-Zn 페라이트 외에 Ni-Zn 페라이트등을 사용해도 좋다. 또 강자성 금속박막을 형성하는 고투자율 자성재료로서는 센더스트 외에 퍼말로이나 비정질 합금을 사용해도 좋다.By the way, as the ferromagnetic oxide forming the magnetic core half member, in addition to Mn-Zn ferrite, Ni-Zn ferrite or the like may be used. As the high permeability magnetic material for forming the ferromagnetic metal thin film, a permalo or an amorphous alloy may be used in addition to the sender.

여기서 비정질 합금을 사용하는 경우, 강자성 금속박막의 막구조의 균일성은 자기적 이방성이 문제로 되고 본 발명과 같이 한 평면상에 박막을 형성하면 막 각부분의 이방성이 동일하게 된다. 그리고, 적층되는 강자성 금속박막의 적층수는 일층으로서도 다층으로서도 좋고 어느경우에 있어서도 본 발명은 유효하다.Here, in the case of using an amorphous alloy, the uniformity of the film structure of the ferromagnetic metal thin film becomes a problem of magnetic anisotropy. When a thin film is formed on one plane as in the present invention, the anisotropy of each part of the film becomes the same. The number of laminated ferromagnetic metal thin films to be laminated may be either one layer or multiple layers, and the present invention is effective in any case.

다음에 본 발명의 또다른 실시예 즉 자기코어 반쪽부재의 전면측의 테이프 접촉면을 예를들어 세라믹등의 고내마모성 비자성재료로 형성한 헤드를 제32도 이하를 참조하여 설명한다.Next, another embodiment of the present invention, i.e., a head made of a highly wear-resistant nonmagnetic material such as ceramic, for example, with the tape contact surface on the front side of the magnetic core half member will be described with reference to FIG.

우선, 제32도에 도시하는 자기헤드는 예를들어 1쌍의 자기코어 반쪽부재(71a,71b)는 페라이트등의 강자성 산화물로 형성되고, 이 양코어 반쪽부재(71a,71b)의 전면측의 테이프 접촉면(71')은 예를들어 티탄산칼슘(Ti-Ca 계 세라막), 산화물 유리, 티나니아(Ti2O), 알루미나(A12O3) 등의 고내마모성 비자성재료(72a,72b)에 의해 형성되어 있고, 갭(g)의 근방에는 고투자율합금의 센더스트등의 강자성 금속박막(73a,73b)이 스퍼터링증착등의 진공박막형성 기술을 이용하여 절연막을 거쳐서 적층형성되고 있다. 그리고 이 강자성 금속박막(73a,73b)은 자기갭(g)의 형성면 근방에 용융충전되는 융착용의 산화물 유리(74)에 대하여 비자성고경도막(75a,75b)에 의해 보호되고 있다. 또, 도면중 76은 권선홈이다.First, the magnetic head shown in FIG. 32 is formed of, for example, a pair of magnetic core half members 71a and 71b made of ferromagnetic oxide such as ferrite, and the front side of both core half members 71a and 71b. The tape contact surface 71 'is a highly wear-resistant nonmagnetic material 72a, 72b such as, for example, calcium titanate (Ti-Ca-based cera membrane), oxide glass, tinania (Ti 2 O), alumina (A1 2 O 3 ), or the like. In the vicinity of the gap g, ferromagnetic metal thin films 73a and 73b, such as sender of a high permeability alloy, are laminated via an insulating film using a vacuum thin film forming technique such as sputtering deposition. The ferromagnetic metal thin films 73a and 73b are protected by the nonmagnetic high hardness films 75a and 75b with respect to the fusion oxide glass 74 which is melt-charged in the vicinity of the formation surface of the magnetic gap g. In the figure, 76 is a winding groove.

이 자기헤드는 자기갭(g)의 형성면과 강자성 금속박막(73a,73b)의 형성면과의 관계는 제2도에 도시하는 자기헤드와 동일하지만, 테이프 접촉면은 고내마모성 비자성 재료(72a,72b)로 형성되어 있으므로 테이프접촉면에는 페라이트등의 자성재료가 노출하지 않고 갭형성면의 연마공정에 있어서 그 연마량에 구애받지않고 강자성 금속박막의 두께가 일정하고 트랙폭 정밀도는 확보하기 쉽고 가공치수를 십수 ㎛ 이상의 정밀도로 행해도, 즉 가공치수 공차는 커도 트랙폭 정밀도가 충분히 확보될 수 있다. 또 비데오 헤드에 있어서는 테이프와의 상대속도가 크기 때문에 테이프 접촉면에 돌출하는 페라이트는 단결정이 필요하고 재료가 격은 높게 되지만, 본 예에서는 후방 갭측의 페라이트는 테이프와의 접촉에 대한 편마모성의 염려가 없기때문에 Hi-μ 다결정 즉 소결형태의 다결정 페라이트를 사용할 수가 있어 가격이 낮아지게 된다.The magnetic head is the same as the magnetic head shown in FIG. 2 between the forming surface of the magnetic gap g and the forming surface of the ferromagnetic metal thin films 73a and 73b, but the tape contact surface has a high wear resistant nonmagnetic material 72a. 72b), the magnetic material such as ferrite is not exposed on the tape contact surface, and the thickness of the ferromagnetic metal film is constant and the track width accuracy is easy and processed regardless of the polishing amount in the gap forming surface polishing process. Even if the dimension is performed with a precision of several tens of micrometers or more, that is, the track width accuracy can be sufficiently secured even if the machining dimension tolerance is large. In the video head, since the relative speed with the tape is large, the ferrite projecting on the tape contact surface requires a single crystal and the material price is high. However, in the present example, the ferrite on the rear gap side has no fear of uneven wear against the tape. As a result, it is possible to use Hi-μ polycrystals, that is, sintered polycrystalline ferrite, resulting in low cost.

또, 본 예의 자기헤드에 있어서도 강자성 금속박막(73a,73b)은 융착용 유리에 대하여 비자성 고경도막(75a,75b)에 의해 보호되므로써 안정된 고출력의 헤드로 된다.Also in the magnetic head of the present example, the ferromagnetic metal thin films 73a and 73b are protected by the nonmagnetic high hardness films 75a and 75b with respect to the fusion glass, thereby becoming a stable high output head.

이상 설명한 바와 같이, 본 예의 자기헤드는 제2도에 도시한 자기헤드와 마찬가지로 자기갭으로부터 발생하는 자계의 강도가 높다거나 재생출력이 높게 된다는 등의 효과를 가짐과 동시에, 테이프 접촉면은 내마모성 비자성 재료에 의해 형성되어 있으므로서 갭형성면 연마시의 종료 위치에 불구하고 트랙폭은 강자성금속박막의 경사단면 칫수단으로 정해져 가공칫수공차가 광범위하게 행해질 수 있고, 원료 소비율이 좋아 단가가 싸며, 메탈 테이프등의 고 항자력(Hc)을 갖는 자기 테이프에 고밀도 기록을 하기에 적합한 헤드가 얻어진다.As described above, the magnetic head of this example has the effect that the magnetic field generated from the magnetic gap is high or the regeneration output is high, similar to the magnetic head shown in FIG. 2, and the tape contact surface is abrasion resistant and nonmagnetic. The track width is determined by the inclined cross section of the ferromagnetic metal thin film in spite of the end position at the time of grinding the gap-forming surface because it is formed of the material, and the processing tolerance can be widened. A head suitable for high density recording on a magnetic tape having a high magnetic force Hc such as a tape is obtained.

다음에, 상술한 제32도에 도시하는 자기 헤드의 제조공정을 제34도 내지 제40도에 의거하여 설명한다.Next, the manufacturing process of the magnetic head shown in FIG. 32 mentioned above is demonstrated based on FIGS. 34-40.

먼저, 제34도에 도시한 바와같이 예를들어 Mn-Zn 페라이트등의 강자성 산화물 기판(81)의 한 단면에 예를들어 티탄산 칼슘(Ti-Ca계 세라믹), 산화물 유리, 티타니아(TiO2), 알루미나(Al2O3)등의 고 내마모성 비자성판(82)을 수십 ㎛의 용융 유리판을 끼워서 열압착하고, 복합판재(80)를 형성한다. 그리고, 제35도에 도시한 바와 같이 내마모성 비자성판(82)의 한 모서리부로부터 자성재기판(81)에 걸쳐서 내마모성 비자성판(82)의 전면과 수직이 되도록 절결홈(82')을 회전숫돌 또는 전해 엣칭등에 의해 소정 간격으로 복수형성한다. 즉, 복합판(80)의 상면(80')의 자기갭 형성위치 근방에 상당하는 부분에 형성된다.First, as shown in FIG. 34, for example, calcium titanate (Ti-Ca-based ceramics), oxide glass, titania (TiO 2 ), and the like on one cross section of a ferromagnetic oxide substrate 81 such as Mn-Zn ferrite. And high abrasion-resistant nonmagnetic plate 82 such as alumina (Al 2 O 3 ) are thermocompression-bonded by sandwiching a molten glass plate of several tens of micrometers to form a composite plate material 80. Then, as shown in FIG. 35, the notch groove 82 'is rotated so as to be perpendicular to the front surface of the wear-resistant nonmagnetic plate 82 from one corner of the wear-resistant nonmagnetic plate 82 to the magnetic material substrate 81. FIG. Or it forms in multiple numbers at predetermined intervals by electrolytic etching etc. That is, it is formed in the portion corresponding to the magnetic gap formation position of the upper surface 80 'of the composite plate 80.

다음에, 제36도에 도시한 바와같이 복합판(20)의 전방부 즉 절입홈(82')을 포함하는 부분의 면에 샌더스트등의 금속 자성재료를 스퍼터링등의 박막형성 기술을 사용하여 강자성 금속박막(83)을 형성한다. 이때, 절결홈(82')의 한측면(82")상에 효율이 좋은 금속자성재료가 피착하도록 복합판(20)을 경사시켜 스퍼터링장치내에 배치되도록 한다.Next, as shown in FIG. 36, metal magnetic materials such as sand dust are applied to the front surface of the composite plate 20, that is, the portion including the cutting groove 82 ', using a thin film forming technique such as sputtering. A ferromagnetic metal thin film 83 is formed. At this time, the composite plate 20 is inclined so as to be disposed in the sputtering apparatus so that a highly efficient metal magnetic material is deposited on one side 82 ″ of the notch groove 82 ′.

그리고, 이 강자성 금속박막(83)상에 예를들어 Cr 막(84')을 0.1㎛ 정도의 두께로 피착하고, 계속하여Ta2O5막(84")을 1㎛ 정도의 두께로 스퍼터링등에 의해 피착하여 비자성 고경도막(84)을 형성한다.On this ferromagnetic metal thin film 83, for example, a Cr film 84 'is deposited to a thickness of about 0.1 mu m, and then a Ta 2 O 5 film 84 "is sputtered to a thickness of about 1 mu m. It deposits and forms the nonmagnetic high hardness film 84. FIG.

다음에, 강자성 금속박막(83)과 비자성 고 경도막(84)이 적층 형성된 절결홈(82')에 비자성재로서의 유리(85)를 용융 충전한 후, 복합판(80)의 전방면과 상면을 연마하므로서 제38도에 도시하는 코어 반쪽부재 블록(80a,80b)을 얻는다. 그리고, 한쪽의 코어 반쪽부재 블록(80a)에는 제39도에 도시한 바와같이 권선홈(86)의 홈가공을 행한다. 다음에, 이 홈가공을 실시한 한쪽의 코어 반쪽부재 블록(80a)과 홈이 없는 다른쪽의 코어 반쪽부재 블록(80b)을 그 상면부에 있어서 갭 스페이서를 거쳐서 트랙부, 즉 강자성 금속박막(83a과 83b)이 일치하도록 맞대어서 제40도에 도시한 바와 같이 갭응착을 행한다. 이 합체블록(801)을 제40도에 도시하는 d-d선, d'-d'선의 위치에서 슬라이싱가공하므로서, 복수개의 헤드칩을 얻을 수가 있다. 여기서, 갭융착을 행하는 갭 스페이서로서는 SiO2, ZrO2, Ta2O5, Cr등을 사용할 수 있다.Next, after the glass 85 as a nonmagnetic material is melt-filled in the notch groove 82 'in which the ferromagnetic metal thin film 83 and the nonmagnetic high hardness film 84 are laminated, the front surface of the composite plate 80 and By grinding the upper surface, core half member blocks 80a and 80b shown in FIG. 38 are obtained. Then, one core half member block 80a is subjected to groove processing of the winding groove 86 as shown in FIG. Next, one core half member block 80a subjected to this groove processing and the other core half member block 80b without grooves are provided on the upper surface portion thereof with a track spacer, that is, a ferromagnetic metal thin film 83a. And 83b) are matched to each other, and gap bonding is performed as shown in FIG. By slicing the coalescing block 801 at positions dd and d'-d 'shown in FIG. 40, a plurality of head chips can be obtained. Here, SiO 2 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , Cr or the like can be used as a gap spacer for performing gap fusion.

이와같이 하여 얻어진 헤드칩의 자기테이프 접촉면을 원통연마하므로서, 제32도에 도시한 헤드로 된다. 이 제32도의 자기헤드에 있어서 한쪽의 자기코어 반쪽부재(71a)는 상기 한쪽의 코어반쪽부재 블록(80a)의 자성제 기판(81a)을 모재로 하고, 다른쪽의 자기 코어 반쪽부재(11b)는 상기 다른쪽의 코어 반쪽부재 블록(80b)의 자성제 기판(81b)을 모재로 하고 있으며, 또 테이프 접촉면(71')의 내마모성 비자성재(72a,72b)는 상기 비자성판(82a,82b)과 대응하고 있다. 또, 이 자기헤드의 강자성 금속박막(73a,73b)은 상기 금속박막(83a,83b)에 각각 대응하고 있고, 산화물 유리(74)는 유리(85)와 대응하며, 비자성 고 경도막(75a,75b)은 Cr 막(84')과 Ta2O5막(84")으로 이루어지는 비자성 고경도 막(84a,84b)과 대응하고, 더우기 권선구멍(76)은 상기 한쪽의 코어 반쪽부재 블록(80a)에 형성된 권선홈(86)에 대응하고 있다.Cylindrical polishing of the magnetic tape contact surface of the head chip thus obtained results in the head shown in FIG. In the magnetic head of FIG. 32, one magnetic core half member 71a has the magnetic substrate 81a of the one core half member block 80a as a base material, and the other magnetic core half member 11b. The magnetic substrate 81b of the other core half member block 80b is used as the base material, and the wear-resistant nonmagnetic materials 72a and 72b of the tape contact surface 71 'are formed of the nonmagnetic plates 82a and 82b. Corresponds to. The ferromagnetic metal thin films 73a and 73b of the magnetic head correspond to the metal thin films 83a and 83b, respectively, and the oxide glass 74 corresponds to the glass 85 and the nonmagnetic high hardness film 75a. 75b corresponds to the non-magnetic hardened films 84a and 84b made of a Cr film 84 'and a Ta 2 O 5 film 84 ", and furthermore, the winding hole 76 has one core half member block. It corresponds to the winding groove 86 formed in the 80a.

즉, 전방 갭(g) 근방에만 강자성 금속재료에 의해 이루어지는 강자성 금속박막(83a,83b)을 배치하고, 또 테이프 접촉면에 노출하는 자성 금속박막(83a,83b)이외의 부분이 내마모성 비자성재(82a,82b) 및 비자성 고경도막(84a,84b)으로 이루어지는 자기헤드가 얻어진다.That is, the ferromagnetic metal thin films 83a and 83b made of a ferromagnetic metal material are disposed only in the vicinity of the front gap g, and portions other than the magnetic metal thin films 83a and 83b exposed to the tape contact surface are wear-resistant nonmagnetic materials 82a. , 82b) and a magnetic head composed of nonmagnetic high hardness films 84a and 84b.

이상 설명한 바와같이, 본예의 자기헤드는 미리 내마모성 비자성재를 붙인 자성재 기판에 그 자기갭 형성면으로 되는 평면에 대해 20°내지 80°각도를 이루는 평면을 후공정에서 숫돌가공등으로 형성하고, 갭면과는 경사진 위치관계에 있는 이 평면상에 강자성 금속박막을 전공 박막 형성 기술에 의해 형성하고, 그리고 적어도 자기갭 근방에 있어서는 경사진 평면상에 성장하고 있는 금속박막만이 남도록 갭면 연마가공을 행하고 있으므로, 강자성 금속박막은 각부에 있어서 균일한 막구조로 되고, 또 이 강자성 금속박막은 융착유리에 대해 비자성 고경도 막에 의해 보호되므로서 변형하거나, 잔금이나 갈라짐등이 발생하지 않고 안정되며, 헤드출력의 고안정화가 가능하게 된다. 게다가, 상기 자기헤드는 테이프 접촉면이 내마모성 비자성재에 의해 형성되어 있으므로, 갭면 연마공정에 있어서 가공 칫수공차를 크게 하여도 트랙폭 정밀도를 충분히 확보할 수 있고, 또 헤드의 후부측의 접합면 즉 후방갭측에 있어서는 강자성 산화물 종류가 직접 유리융착되어있으므로 헤드칩의 내파괴 강도가 크고 제조하기가 쉬운 헤드로 되며, 원료 소비율의 향상을 도모할 수 있음과 동시에 이 후방갭측의 강자성 산화물은 테이프와의 접촉에 대한 편마모의 염려가 없기 때문에 다결정즉 소결형태의 다결정 페라이트를 사용할 수가 있어 가격이 낮아지게 된다.As described above, the magnetic head of the present example forms a plane having a angle of 20 ° to 80 ° with respect to the plane which becomes the magnetic gap forming surface on the magnetic material substrate to which the wear-resistant nonmagnetic material is attached in advance, by grinding wheel, etc. in a later step, A ferromagnetic metal thin film is formed by the electroporation thin film formation technique on this plane inclined with respect to the gap surface, and the gap surface polishing is performed so that only the metal thin film growing on the inclined plane remains at least near the magnetic gap. As a result, the ferromagnetic metal thin film has a uniform film structure in each part, and the ferromagnetic metal thin film is protected by a non-magnetic hardened film against the fused glass, and thus it is stable without deforming, cracking or cracking. As a result, it is possible to stabilize the head output. In addition, since the magnetic head has a tape-contacting surface formed of a wear-resistant nonmagnetic material, the track width accuracy can be sufficiently secured even in the gap surface polishing step even if the processing tolerance is increased. On the gap side, the ferromagnetic oxide type is directly glass-fused, so that the breakdown strength of the head chip is large and the head is easy to manufacture. The ferromagnetic oxide on the rear gap side is in contact with the tape. Since there is no fear of uneven wear, polycrystalline ferrite in the form of polycrystal, that is, sintered form, can be used, resulting in low cost.

다음에, 제41도 내지 제48도에 기초하여 또 다른 제조공정에 의해 제조되는 자기헤드의 예를 설명한다.Next, an example of a magnetic head manufactured by another manufacturing process will be described based on FIGS. 41 to 48. FIG.

먼저, 제41도에 도시한 바와 같이, 예를들어 Mn-Zn 페라이트등의 강자성 산화물 기판(91)의 상면에 티탄산 칼슘(Ti-Ca계 세라믹), 산화물 유리, 티타니아(TiO2), 알루미나(A12O3)등의 고 내마모성 비자성판(92)을 유리융착등에 의해 붙여서 자성, 비자성 복합블록(90)을 형성한다. 이 복합블록(90)의 자기테이프접촉면에 대응하는 상면, 즉 내마모성 비자성판(92)의 상면에 제42도에 도시한 바와같이 이 상면을 경사지게 횡단하도록 한 단면 ㄷ자형의 홈(92')을 자성재 기판(91)의 상면에 걸쳐서 소정 간격으로 복수성형한다. 여기서, 홈(92')의 깊이는 헤드의 권선구멍에 도달할 정도의 깊이로 한다.First, as shown in FIG. 41, for example, calcium titanate (Ti-Ca-based ceramic), oxide glass, titania (TiO 2 ), alumina (for example, Mn-Zn ferrite, etc.) are formed on the upper surface of a ferromagnetic oxide substrate 91. A high wear resistant nonmagnetic plate 92 such as A1 2 O 3 ) is attached by glass fusion or the like to form a magnetic, nonmagnetic composite block 90. The upper surface corresponding to the magnetic tape contact surface of the composite block 90, that is, the upper surface of the wear-resistant nonmagnetic plate 92, has a cross-sectional c-shaped groove 92 'which is obliquely traversed as shown in FIG. Plural molding is performed at predetermined intervals over the upper surface of the magnetic material substrate 91. Here, the depth of the groove 92 'is such that the depth reaches the winding hole of the head.

다음에, 제43도에 도시한 바와 같이 상기 복합블록(90)의 홈(92') 근방에 스퍼터링등의 진공박막 형성기술을 사용하여 고 투자율 합금 예를들어 샌더스트를 절연막을 거쳐 피착적층하여 강자성 금속박막(93)을 형성한다. 이때, 홈(92')의 한측면(92")상에 효울이 좋게 피착되도록 복합 블록(90)을 경사시켜 스퍼터링 장치내에 배치하도록 한다.Next, as shown in FIG. 43, a high permeability alloy, for example, sand dust is deposited and deposited through the insulating film in the vicinity of the groove 92 'of the composite block 90 by using a vacuum thin film forming technique such as sputtering. A ferromagnetic metal thin film 93 is formed. At this time, the composite block 90 is inclined to be disposed in the sputtering apparatus so that the effect is well deposited on one side 92 ″ of the groove 92 ′.

계속하여, 이 강자성 금속박막(93)의 위에 제44도에 도시한 바와같이, 예를들어, Cr 막(94')을 0.1㎛ 정도의 두께로, 게다가 Ta2O5막(94")을 1㎛ 정도의 두께로 스퍼터링등에 의해 피착하여 비자성 고 경도막(94)을 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 44 on the ferromagnetic metal thin film 93, for example, the Cr film 94 'has a thickness of about 0.1 mu m, and the Ta 2 O 5 film 94 " A nonmagnetic high hardness film 94 is formed by being deposited by sputtering or the like to a thickness of about 1 μm.

그리고 제45도에 도시한 바와 같이 홈(92')에 비자성 고 경고막(94)의 위로부터 유리(95)의 용융충전을 행한 후, 복합 블록(90)의 상면과 전면을 평면 연마하고, 경면 마무리를 행하여 코어 반쪽부재 블록(90a,90b)을 얻는다. 이때, 상기 홈(92')의 한쪽의 내측면(92")에 강자성 금속박막(93)의 일부가 비자성 고 경도막(94)에 의해 피복된 상태로 남게된다. 또한, 이 경우 금속박막(93)등은 홈(92')의 다른쪽 내측면, 저면에도 남게되나, 이것은 미소하므로, 이 부분의 도시는 생략한다.As shown in FIG. 45, after the glass 95 is melt-filled from the top of the non-magnetic high warning film 94 in the groove 92 ', the upper surface and the front surface of the composite block 90 are polished flat. The mirror half finish is performed to obtain core half member blocks 90a and 90b. At this time, a part of the ferromagnetic metal thin film 93 remains on one inner surface 92 ″ of the groove 92 ′ coated with the nonmagnetic high hardness film 94. In this case, the metal thin film 93 and the like remain on the other inner side surface and the bottom surface of the groove 92 ', but since this is minute, the illustration of this portion is omitted.

다음에, 제46도에 도시한 바와 같이, 한쪽의 코어반쪽부재 블록(90a)에 권선홈(96)을 형성하는 홈가공을 행한다. 이 홈가공을 실시한 한쪽의 코어 반쪽부재 블록(90a)과 홈이 없는 다른쪽의 코어 반쪽부재 블록(90b)과를 각각 자기갭 형성면이 되는 전면을 막으로 부착한 갭스페이서를 거쳐서 제47도에 도시한 바와같이 강자성 금속박막(93a와 93b)이 일치하도록 맞대어 유리융착한다.Next, as shown in FIG. 46, the groove processing which forms the winding groove 96 in one core half member block 90a is performed. Fig. 47 through a gap spacer in which one core half member block 90a subjected to the groove processing and the other core half member block 90b without a groove are attached to each other with a front surface serving as a magnetic gap forming surface. As shown in the drawing, the ferromagnetic metal thin films 93a and 93b are faced to each other and glass-fused.

이후, 이 합체된 블록(901)을 e-e선, e'-e'선의 위치에서 슬라이싱 가공하므로서 복수개의 헤드칩을 얻을 수가 있다.Subsequently, a plurality of head chips can be obtained by slicing the coalesced block 901 at positions e-e and e'-e '.

다음에, 상기 헤드 칩의 자기테이프 접촉면, 즉 내마모성 비자성재 상면을 원통연마하므로서 제48도에 도시하는 자기헤드가 된다. 이 제48도의 자기헤드에 있어서 한쪽의 자기코어 반쪽부재(101a)는 상기 한쪽의 코어 반쪽부재 블록(90a)를 모재로 하고, 다른쪽의 자기코어 반쪽부재(101b)는 상기 다른쪽의 코어 반쪽부재 블록(90b)을 모재로 하고 있으며, 또 테이프 접촉면(101')의 내마모성 비자성재(102a,1202b)는 상기 비자성제(92a,92b)와 대응하고 있다. 이 자기헤드에 형성되어 있는 강자성 금속박막(103a,103b)은 상기 홈(92a',92b')의 내측면에 피착한 상기 금속박막(93a,93b)에 대응하고, 그리고 이것을 보호하는 비자성 고경도막(104a,104b)은 Cr 막(94')과 Ta2O5막(94")으로 이루어지는 비자성 고 경도막(94a,94b)과 대응하고 있으며, 자기갭(g)의 형성면 근방에 용융충전되는 산화물 유리(105)는 융착 유리제(95)에 대응하고, 또 권선구멍(106)은 상기 권선홈(96)에 대응하고 있다.Next, the magnetic head shown in Fig. 48 is subjected to cylindrical polishing of the magnetic tape contact surface of the head chip, that is, the upper surface of the wear-resistant nonmagnetic material. In the magnetic head of FIG. 48, one magnetic core half member 101a has the one core half member block 90a as a base material, and the other magnetic core half member 101b has the other core half. The member block 90b is used as the base material, and the wear-resistant nonmagnetic materials 102a and 1202b of the tape contact surface 101 'correspond to the nonmagnetic materials 92a and 92b. The ferromagnetic metal thin films 103a and 103b formed on the magnetic head correspond to the metal thin films 93a and 93b deposited on the inner surfaces of the grooves 92a 'and 92b' and protect the nonmagnetic high diameter. The coating films 104a and 104b correspond to the nonmagnetic high hardness films 94a and 94b formed of the Cr film 94 'and the Ta 2 O 5 film 94 ", and are located near the formation surface of the magnetic gap g. The oxide glass 105 melt-filled corresponds to the fusion glass 95, and the winding hole 106 corresponds to the winding groove 96.

이상 설명한 공정에 의해 얻어지는 제48도에 도시한 자기헤드는 자기갭(g)의 형성면과 강자성 금속박막(103a,103b)의 형성면이 소정 각도로 경사져 있으며, 이 강자성 금속박막(103a,103b)은 연속평면상에 형성되어 있으므로 각 부에 있어서 막 구조가 균일하게 되어 자료에 따른 방향에서 고 투자율을 나타내고, 또 테이프 접촉면에 돌출하는 자성 금속박이외의 부분이 고 내마모성 비자성재(102a,102b) 및 비자성 고 경도막(l04a,104b)으로 형성되어 있으므로 상술한 제32도의 자기헤드와 마찬가지로 양호한 효과를 얻을 수가있다. 또, 자기갭(g)이 상기 강자성 금속박막(103a,103b)만에 의해 형성되어 있고, 이 금속박막(103a,103b)은 융착 유리에 대하여 비자성 고 경도막(104a,104b)에 의해 보호되어 변형하거나, 잔금이나, 갈라짐등이 발생하지 않고 안정되어 있으므로 헤드의 출력이 높은 메탈 테이프에 대응한 헤드로 되어 있다.In the magnetic head shown in FIG. 48 obtained by the above-described process, the formation surface of the magnetic gap g and the formation surface of the ferromagnetic metal thin films 103a and 103b are inclined at a predetermined angle, and the ferromagnetic metal thin films 103a and 103b are formed. ) Is formed on a continuous plane, so that the film structure is uniform in each part, and exhibits a high permeability in the direction corresponding to the material, and the parts other than the magnetic metal foil protruding from the tape contact surface are highly wear-resistant nonmagnetic materials 102a and 102b. And the nonmagnetic high hardness films 10a and 104b, the same effects as in the magnetic head of FIG. 32 described above can be obtained. In addition, the magnetic gap g is formed by only the ferromagnetic metal thin films 103a and 103b, and the metal thin films 103a and 103b are protected by the nonmagnetic high hardness films 104a and 104b against the fused glass. It is stable, without deforming, cracking, cracking, or the like, and is therefore a head corresponding to a metal tape with a high output of the head.

그런데, 제40도 및 제47도의 합체한 블록(801,901)을 슬라이싱한 d-d선, d'-d'선 및 e-e선, e'-e'선은 코어 반쪽부재 블록(80a,80b,90a,90b)의 맞닿는 면에 수직으로 되어 있지만, 이 맞닿는 면에 대하여 슬라이싱 방향을 경사시켜서 방위기록용 자기헤드를 제작할 수도 있다.By the way, the dd line, the d'-d 'line, the ee line, and the e'-e' line slicing the merged blocks 801 and 901 of FIGS. 40 and 47 are the core half member blocks 80a, 80b, 90a and 90b. Is perpendicular to the abutting surface, but the magnetic head for azimuth recording can be manufactured by inclining the slicing direction with respect to this abutting surface.

다음에, 테이프 접촉면을 고 내마모성 비자성재에 의해 형성하고, 자기갭 근방에만 강자성 금속박막을 형성하지 않고 자기헤드의 전면부 즉 전방갭 형성면으로부터 후부측 즉 후방갭 형성면까지 연속하여 강자성금속박막을 형성한 본 발명의 또 다른 실시예인 제49도에 도시하는 자기헤드에 대하여 설명한다.Next, the tape contact surface is formed of a high wear-resistant nonmagnetic material, and the ferromagnetic metal thin film is continuously formed from the front portion of the magnetic head, that is, the front gap forming surface, to the rear side, that is, the rear gap forming surface, without forming a ferromagnetic metal thin film only near the magnetic gap. A magnetic head shown in FIG. 49, which is another embodiment of the present invention in which? Is formed, will be described.

이 자기헤드는 자기코어 반쪽부재(111a,111b)가 강자성 산화물인 예를들어 Mn-Zn 페라이트로 형성되고, 그 테이프 접촉면(111')을 예를들어 티탄산 칼슘(Ti-Ca계 세라믹), 산화물유리, 티타니아(TiO2), 알루이나(Al2O3)등의 고 내마모성 비자성재(112a,112b)에 의해 형성하고, 코어 반쪽부재의 맞닿는 면이 자기갭(g)의 형성면과 코어 반쪽부재(111a,111b)의 접합면 근방에 피착된 예를들어 센더스트마인 강자성 금속박막(113a,113b)의 형성면(l12a',112b')과는 예를들어 45°의 각도로 경사져 있다. 또, 이 강자성 금속박막(113a,113b)은 내마모성 비자성재(112a,112b)에 의해 형성되는 전방갭 형성면(g')으로부터 강자성 산화물에 의해 형성되는 후방갭 형성면(g")에 도달할때까지 연속하여 형성되고, 이 강자성 금속박막(113a,113b)만에 의해 자기갭(g)이 형성되어 있다.The magnetic head is formed of, for example, Mn-Zn ferrite in which the magnetic core half members 111a and 111b are ferromagnetic oxides, and the tape contact surface 111 'is made of, for example, calcium titanate (Ti-Ca-based ceramics) and oxides. It is formed by high wear-resistant nonmagnetic materials 112a and 112b such as glass, titania (TiO 2 ) and alumina (Al 2 O 3 ), and the contact surface of the core half member is formed with the magnetic gap g and the core half. For example, the formed surfaces 11a 'and 112b' of the sender's ferromagnetic metal thin films 113a and 113b deposited in the vicinity of the joining surfaces of the members 111a and 111b are inclined at an angle of 45 °, for example. In addition, the ferromagnetic metal thin films 113a and 113b reach the rear gap forming surfaces g "formed by ferromagnetic oxide from the front gap forming surfaces g 'formed by the wear-resistant nonmagnetic materials 112a and 112b. It is formed continuously until the magnetic gap g is formed only by these ferromagnetic metal thin films 113a and 113b.

또, 강자성 금속박막(113a,113b)은 트랙폭(Tw)을 규제하고, 양 코어사이를 융착하는 산화물 유리(114)에 대하여 비자성 고 경도막(115a,115b)에 의해 보호되어 있다. 또, 전방갭 형성면의 후방에는 권선구멍(116)이 형성되어 있다.In addition, the ferromagnetic metal thin films 113a and 113b regulate the track width Tw and are protected by the nonmagnetic high hardness films 115a and 115b with respect to the oxide glass 114 fused between both cores. Moreover, the winding hole 116 is formed in the back of the front gap formation surface.

그런데, 강자성 금속박막(113a,113b)은 코어 반쪽부재(111a,111b)의 한방향의 경사면과 비자성재(112a,112b)를 늘어놓은 연속평면상에 형성되어 있으므로, 이 강자성 금속박막(113a,113b)은 각 부에 있어서 막구조가 균일하게 되어 있고, 자기 헤드의 자료방향을 따라 전체 금속박막이 높은 투과율을 나타내며, 또 융착산화물 유리(114)에 대하여 비자성 고 경도막에 의해 보호되어 있으므로 변형하거나, 잔금이나 갈라짐등의 발생하지 않고 안정된 상태로 유지되어 자기헤드의 기록재생출력이 높아지게 된다.By the way, since the ferromagnetic metal thin films 113a and 113b are formed on the inclined planes in one direction of the core half members 111a and 111b and the continuous plane in which the nonmagnetic materials 112a and 112b are arranged, the ferromagnetic metal thin films 113a and 113b are formed. ), The film structure is uniform in each part, and the entire metal thin film exhibits high transmittance along the direction of the magnetic head, and is protected by the nonmagnetic high hardness film against the fused oxide glass 114. In this case, the recording / reproducing output of the magnetic head is increased by maintaining a stable state without occurrence of residual or cracking.

또, 헤드의 자기테이프 접촉면(111')은 제50도에 도시한 바와같이 강자성 금속박막(1l3a,113b)이 SiO2,Ta2O3, Al2O3, ZrO2, Si3N4등의 고 내마모 절연막을 거쳐서 적층형성되는 것으로 구성되어 있다. 또한, 자성 금속박막(113a,113b)의 적층수는 그 막두께에 의해 임의로 설정할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 50, the magnetic tape contact surfaces 111 'of the head are made of ferromagnetic metal thin films 1l3a and 113b of SiO 2 , Ta 2 O 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , Si 3 N 4, and the like. The laminate is formed through a high wear resistant insulating film. The number of stacked layers of the magnetic metal thin films 113a and 113b can be arbitrarily set by the film thickness.

다음에, 이러한 자기헤드의 제조공정을 제51도 내지 제57도에 의거하여 설명한다.Next, the manufacturing process of such a magnetic head will be described based on FIG. 51 to FIG.

먼저, 제51도에 도시한 바와같이 페라이트등의 강자성 산화물 블록(121)의 전면에 예를들어 티탄산 칼슘(Mn-Zn계 세라믹), 산화물 유리, 티타니아(TiO2), 알루미나(A12O3)등의 고 내마모성 비자성재(122)를 유리 융착등의 수단으로 붙여 복합블록(120)을 얻는다. 이 복합블록(120)의 상면부에 제52도에 도시한 바와같이 회전 숫돌등을 사용하여 상면부를 횡단하도록한 단면 V자 형상의 홈(l22')을 소정간격으로 복수 형성한다. 이 홈(122')의 내벽면의 경사각도는 상변에 대해 예를들어 45°로 되어있다.First, as shown in FIG. 51, for example, calcium titanate (Mn-Zn-based ceramic), oxide glass, titania (TiO 2 ), and alumina (A1 2 O 3 ) are placed on the entire surface of a ferromagnetic oxide block 121 such as ferrite. A high wear resistant nonmagnetic material 122 such as) is attached by means of glass fusion or the like to obtain a composite block 120. As shown in FIG. 52, a plurality of grooves l22 'having a V-shaped cross section, which is formed to traverse the upper surface portion by using a grindstone or the like, is formed in the upper surface portion of the composite block 120 at predetermined intervals. The inclination angle of the inner wall surface of the groove 122 'is, for example, 45 ° with respect to the upper side.

다음에, 제53도에 도시한 바와 같이 복합 블록(120)의 상면부에 센더스트등을 스퍼터링, 이온 도금, 증착등의 진공박막형성기술을 사용하여 상기 고 내마모성 절연막을 거쳐서 적층하고, 상기 홈(122')에 강자성금속박막(123)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 53, a sender and the like are laminated on the upper surface of the composite block 120 via the high wear resistant insulating film using a vacuum thin film formation technique such as sputtering, ion plating, and vapor deposition. A ferromagnetic metal thin film 123 is formed at 122 '.

다음에, 제54도에 도시한 바와 같이 강자성 금속박막(123)의 위에 예를들어 Cr 막(124')을 0.1㎛ 정도의 막두께로, 연속하여 Ta2O5막(124")을 1㎛ 정도의 두께로 스퍼더링등에 의해 피착하여 비자성 고 경도막(124)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 54, for example, the Cr film 124 'is formed on the ferromagnetic metal thin film 123 with a film thickness of about 0.1 mu m, and the Ta 2 O 5 film 124 " A nonmagnetic high hardness film 124 is formed by being deposited by sputtering or the like to a thickness of about 탆.

그리고, 이 비자성 고 경도막(124)의 위에 홈부가 메워지는 정도로 비자성재로서의 유리재(125)를 충전한후, 제55도에 도시한 바와 같이 복합재 블록(120)의 상면부 및 전면부의 평면연마가공을 행하여 불필요한 유리재(125), 비자성 고 경도막(124) 및 강자성 금속박막(124)을 제거하여 소정의 갭형성면을 표출한 한쌍의 코어반쪽부재 블록(120a,120b)을 얻는다.Then, after filling the glass material 125 as a nonmagnetic material to the extent that the groove portion is filled on the nonmagnetic high hardness film 124, as shown in FIG. 55, the upper and front portions of the composite block 120 A pair of core half member blocks 120a and 120b having a predetermined gap forming surface by removing the unnecessary glass material 125, the nonmagnetic high hardness film 124 and the ferromagnetic metal thin film 124 by performing planar polishing are removed. Get

다음에, 권선홈측의 코어반쪽 부재를 형성하기 위해 한쪽의 코어 반쪽부재 블록(120a)에 제56도에 도시한 바와같이 권선홈(126)을 형성하는 홈가공을 행한다. 그래서, 제57도에 도시한 바와같이 홈가공을 실시한 한쪽의 코어 반쪽부재 블록(120a)과 홈이 없는 다른쪽의 코어 반쪽부재 블록(120b)을 그 갭형성면으로 되는 상면에 있어서 막을 부착한 갭스페이서를 거쳐서 트랙부 즉 강자성 금속박막(123a과 123b)의 한쪽반부가 같은 경사방향으로 상대하도록 맞대어서, 상기 유리재(125)에 의해 갭융착하는 것에 의해 일체화하여 합체블록(1201)을 얻는다.Next, in order to form the core half member on the winding groove side, groove processing for forming the winding groove 126 is performed in one core half member block 120a as shown in FIG. Thus, as shown in FIG. 57, one core half member block 120a subjected to the groove processing and the other core half member block 120b without the groove are provided with a film on the upper surface of the gap forming surface. Through the gap spacer, the track portions, that is, one half of the ferromagnetic metal thin films 123a and 123b face each other in the same inclined direction, are integrated by gap fusion by the glass material 125 to obtain an integrated block 1201. .

이 합체블록(1201)을 제57도에 도시하는 f-f선, f'-f'선의 위치에서 슬라이싱가공 하므로서 복수의 헤드칩을 얻을수가 있다. 이 슬라이싱 가공은 경우에 따라 방위각만큼 경사져서 행한다.A plurality of head chips can be obtained by slicing the coalescing block 1201 at positions f-f and f'-f 'shown in FIG. This slicing is inclined by an azimuth angle in some cases.

그후, 헤드칩의 자기테이프 접촉면, 즉 내마모성 비자성재(122a,122b)에 의해 형성되는 테이프 접촉면을 원통연마하므로서 제49도에 도시한 자기헤드로 된다. 여기서, 이 자기헤드의 한쪽의 코어 반쪽부재(111a)는 한쪽의 코어 반쪽부재 블록(120a)의 자성블록(121a)을 모재로 하고, 다른쪽의 코어 반쪽부재(111b)는 다른쪽의 코어 반쪽부재 블록(120b)의 자성블록(121b)을 모재로 하고 있으며, 또 내 마모성 비자성재(112a,112b)는 상기 비자성재(122a,122b)와 대응하고, 강자성 금속박막(113a,113b)은 상기 금속박막(123a,123b)에 대응하며, 그리고 이것을 보호하는 고 경도막(115a,115b)은 Cr 막(124')과 Ta2O5막(124")으로 이루어지는 비자성 고 경도막(124a,124b)과 대응하고 있고, 융착 산화물 유리(114)는 유리재(125)에 대응하여, 테이프 접촉면(111')은 내마모성 비자성재(121a,121b), 강자성 금속박막(123a,123b), 비자성 고 경도막(124a,124b) 및 유리재(125)로 구성된다. 또, 권선구멍(116)은 상기 권선홈(126)에 대응하고 있다.Thereafter, the magnetic tape contact surface of the head chip, i.e., the tape contact surface formed by the wear-resistant nonmagnetic materials 122a and 122b, is cylindrically polished to form the magnetic head shown in FIG. Here, one core half member 111a of the magnetic head has a magnetic block 121a of one core half member block 120a as a base material, and the other core half member 111b has the other core half. The magnetic block 121b of the member block 120b is used as the base material, and the wear resistant nonmagnetic materials 112a and 112b correspond to the nonmagnetic materials 122a and 122b, and the ferromagnetic metal thin films 113a and 113b are described above. The high hardness films 115a and 115b corresponding to the metal thin films 123a and 123b and protecting them are made of a nonmagnetic high hardness film 124a consisting of a Cr film 124 'and a Ta 2 O 5 film 124 ". 124b, the fused oxide glass 114 corresponds to the glass material 125, and the tape contact surfaces 111 'are abrasion resistant nonmagnetic materials 121a and 121b, ferromagnetic metal thin films 123a and 123b, and nonmagnetic. It consists of the high hardness films 124a and 124b and the glass material 125. The winding hole 116 corresponds to the winding groove 126.

상술한 바와 같이 제32도, 제48도 및 제49도에 도시한 본 발명의 각 실시예의 자기헤드는 제작에 있어서 미리 강자성 산화물 블록에 내마모성 비자성재를 붙이고, 이 내마모성 비자성재를 연마하여 테이프 접촉면을 형성하기 때문에, 갭면을 포함하는 테이프 접촉면은 강자성 금속박막 이외의 부분이 비자성재 즉 내마모성 비자성재와 비자성 고 경도막에 의해 형성되어 강자성 산화물재가 노출되지 않는 헤드로 되어있다. 따라서, 금속박막 형성후의 갭면연마시의 종점 위치에도 불구하고, 트랙폭은 금속박막의 경사단면 칫수단으로 결정되기 때문에, 블록의 가공에 있어서도 칫수공차가 광범위하게 행해질 수 있음과 동시에 강자성 금속박막은 비자성 고 경도막에 의해 보호되므로서 유리융착시에 변형하거나, 잔몸이나 갈라짐등이 발생함이 없이 안정상태로 유지되고, 원료소비율도 좋으며, 안정된 고출력의 헤드가 얻어진다.As described above, the magnetic head of each embodiment of the present invention shown in FIGS. 32, 48, and 49 has a wear-resistant nonmagnetic material attached to a ferromagnetic oxide block in advance in manufacturing, and the wear-resistant nonmagnetic material is polished to tape contact surfaces. Since the tape contact surface including the gap surface is formed of a nonmagnetic ferromagnetic metal film, a portion of the tape contact surface is formed of a nonmagnetic material, that is, a wear resistant nonmagnetic material and a nonmagnetic high hardness film, so that the ferromagnetic oxide material is not exposed. Therefore, in spite of the end position of the gap surface polishing after the formation of the metal thin film, the track width is determined by the inclined cross section of the metal thin film, so that the tolerance can be extensively used in the processing of the block, and at the same time the ferromagnetic metal thin film Protected by a non-magnetic high hardness film, it is maintained in a stable state without deforming or cracking during glass fusion, good raw material consumption rate, and a stable high output head is obtained.

또, 제32도, 제48도 및 제49도에 도시한 자기헤드에 있어서 비자성 고 경도막은 Cr 막 Ta2O5막에 의해 형성하였지만, Cr 막 SiO2막 Ta2O2막의 순으로 형성하여도 좋고, 또 Ti막을 0.1㎛ 정도로, 연속하여TiO2막을 1㎛ 정도로 적층 피착하여 형성하여도 좋다.In the magnetic heads shown in FIGS. 32, 48, and 49, the nonmagnetic high hardness film was formed by the Cr film Ta 2 O 5 film, but in the order of the Cr film SiO 2 film Ta 2 O 2 film. Alternatively, the Ti film may be formed by laminating and depositing the Ti film on the order of 0.1 µm and the TiO 2 film on the order of 1 µm.

또, 비자성 고 경도막으로서는 W,Mo,Si,Ta등의 고융점 금속 및 그 산화물을 사용할 수가 있고, 이 경우 막두께를 수 ㎛ 이하로 형성하는 것이 바람직하다. 이 경우도 상술한 바와같이 강자성 금속박막상에 Cr막을 거쳐서 피착하므로서 금속박막과의 접착이 양호하게 된다.As the nonmagnetic high hardness film, high melting point metals such as W, Mo, Si, Ta, and oxides thereof can be used, and in this case, it is preferable to form a film having a thickness of several μm or less. Also in this case, as described above, adhesion to the metal thin film is improved by depositing it on the ferromagnetic metal thin film via the Cr film.

이상과 같이, 본 발명에 의하면 자기헤드는 자기코어 반쪽부재상을 강자성 산화물로 형성하고, 이 코어반쪽 부재쌍의 맞닿는 면의 자기갭 형성면과는 소정각도로 경사지도록 피착되고, 자기갭을 형성하는 강자성금속박막과 산화물 유리사이에 비자성 고 경도막을 끼워넣어 구성되므로서, 강자성 금속박막은 비자성 고경도막에 의해 산화물 유리에 대하여 보호되게 되고, 코어 반쪽부재의 형성시에 있어서의 유리 충전시, 코어 반쪽부재상의 유리융착시 등에 있어서의 강자성 금속박막에 대한 유리침식, 국부적인 응력이 완화되어 금속박막의 변형, 금 혹은 균열의 발생이 방지되고, 강자성 금속박막의 안정화를 도모할 수가 있어 트랙폭의 정밀도를 확보할 수 있음과 동시에 안정된 자기특성이 얻어지고, 또 강도적으로도 신뢰성이 높게 되어 예를들어 메탈 테이프등의 고 항자력(Hc)을 갖는 자기테이프에 적합한 자기헤드가 얻어진다.As described above, according to the present invention, the magnetic head is formed on the magnetic core half member by ferromagnetic oxide, and is deposited so as to be inclined at a predetermined angle with the magnetic gap forming surface of the abutting surface of the pair of core half members to form a magnetic gap. The nonmagnetic high hardness film is sandwiched between the ferromagnetic metal thin film and the oxide glass, so that the ferromagnetic metal thin film is protected against the oxide glass by the nonmagnetic high hardness film, and the glass is filled at the time of forming the core half member. , Glass erosion and local stress on the ferromagnetic metal thin film during glass fusion on the core half member are alleviated to prevent deformation of the metal thin film, generation of gold or cracks, and stabilization of the ferromagnetic metal thin film. The accuracy of the width can be ensured, stable magnetic characteristics can be obtained, and the reliability is also high in strength. A magnetic head suitable for a magnetic tape having anti-magnetic force Hc such as a metal tape is obtained.

게다가, 강자성 금속박막의 안정화에 의해 원료소비율도 향상하고, 비용의 절감화도 가능하게되는 등의 효과를 갖는다.In addition, stabilization of the ferromagnetic metal thin film has the effect of improving the raw material consumption rate and reducing the cost.

Claims (1)

강자성 산화물로 이루어진 자기코어 반쪽부재쌍의 접합면에 진공박막형성 기술에 의해 강자성 금속박막을 형성하고, 이 자기코어 반쪽부재쌍을 맞대어서 자기갭을 형성하여 되는 자기헤드에 있어서, 상기 자기갭 형성면과 상기 강자성 금속박막 형성면이 소정각도로 경사져 있고, 또 테이프 접촉면에 비자성 고 경도막을 거쳐서 상기 강자성 금속박막과 산화물 유리가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 자기헤드.In a magnetic head in which a ferromagnetic metal thin film is formed on a joint surface of a magnetic core half member pair made of ferromagnetic oxide by a vacuum thin film forming technique, and a magnetic gap is formed by facing the magnetic core half member pairs, the magnetic gap is formed. The magnetic head and the ferromagnetic metal thin film forming surface are inclined at a predetermined angle, and the ferromagnetic metal thin film and the oxide glass are disposed on a tape contact surface via a nonmagnetic high hardness film.
KR1019850002104A 1984-03-29 1985-03-29 Magnetic head KR930002392B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61852 1984-03-29
JP59061852A JPS60205808A (en) 1984-03-29 1984-03-29 Magnetic head

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR850006946A KR850006946A (en) 1985-10-25
KR930002392B1 true KR930002392B1 (en) 1993-03-30

Family

ID=13183036

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019850002104A KR930002392B1 (en) 1984-03-29 1985-03-29 Magnetic head

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPS60205808A (en)
KR (1) KR930002392B1 (en)
CA (1) CA1235483A (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62141613A (en) * 1985-12-17 1987-06-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic head
JPH0772927B2 (en) * 1985-12-18 1995-08-02 ソニー株式会社 Magnetic head
JPS62145511A (en) * 1985-12-20 1987-06-29 Hitachi Ltd Magnetic head
JPH0758527B2 (en) * 1986-01-10 1995-06-21 株式会社日立製作所 Magnetic head
JPS62291709A (en) * 1986-06-10 1987-12-18 Akai Electric Co Ltd Manufacture of magnetic head
JPH0656645B2 (en) * 1986-06-13 1994-07-27 アルプス電気株式会社 Magnetic head
JPH0727612B2 (en) * 1986-12-09 1995-03-29 アルプス電気株式会社 Magnetic head core
JP2567725B2 (en) * 1990-08-31 1996-12-25 三洋電機株式会社 Floating magnetic head manufacturing method

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55117723A (en) * 1979-02-28 1980-09-10 Sony Corp Magnetic head
JPS56169214A (en) * 1980-06-02 1981-12-25 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Magnetic head
JPS58155513A (en) * 1982-03-10 1983-09-16 Hitachi Ltd Composite magnetic head and its manufacture
JPS59142716A (en) * 1983-02-04 1984-08-16 Hitachi Ltd Magnetic head and its manufacture

Also Published As

Publication number Publication date
CA1235483A (en) 1988-04-19
JPS60205808A (en) 1985-10-17
KR850006946A (en) 1985-10-25
JPH0475563B2 (en) 1992-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910007861B1 (en) Magnetic head and method of fabricating same
US4819113A (en) Magnetic transducer head with inclined magnetic gap
EP0140977B1 (en) Magnetic head and method of manufacture thereof
US5157569A (en) Thin film magnetic head
US4788611A (en) Magnetic transducer head
KR930002392B1 (en) Magnetic head
KR930002394B1 (en) Magnetic head
KR930002393B1 (en) Magnetic transducer head
KR960005114B1 (en) Magnetic head
JPS6214313A (en) Magnetic head
JPS60231903A (en) Composite type magnetic head and its production
KR940011675B1 (en) Manufacturing method for magnetic head
KR960008040Y1 (en) Multi-layer magnetic head
JPS61105710A (en) Production of magnetic head
JPS61237211A (en) Magnetic head
JPS63164010A (en) Manufacture of magnetic head
JPH0283807A (en) Production of magnetic head
JPH04221408A (en) Laminated magnetic head and its manufacture
JP2000090408A (en) Magnetic head and its production
JPH08255310A (en) Magnetic head and its production
JPH0795364B2 (en) Magnetic head
JPH0676226A (en) Magnetic head and its production
JPH08180308A (en) Core thin-film magnetic head
JPS63306505A (en) Production of composite type magnetic head core
JPS63255801A (en) Manufacture of composite magnetic head

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20030220

Year of fee payment: 11

LAPS Lapse due to unpaid annual fee