KR920019754A - 신규한 2- 퀴놀린온 유도체 - Google Patents

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이연수
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Abstract

내용 없음

Description

신규한 2-퀴놀린온 유도체
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (17)

  1. 다음 일반식(I)로 나타내는 신규한 2-퀴놀린온 유도체
    상기식에서, R1,R2,R3,R4는 동일하거나 서로 다른 것으로서 각각 수소원자, 할로겐원자, 알킬기, 알콕시기, 티오알콕시기, 할로저급알킬기, 니트로기, 시아노기, 아릴기, 아릴옥시기, 아릴설폰기, 알콕시 카르보닐기, 카복실산, 또는 헤테로사이클릭기를 나타내며, R5는 알킬기 또는 아릴기를 나타내며, R6는 R7과 R8을 나타내며, R7는 알킬기이거나 수소원자, 할로겐원자, 알킬 또는 할로저급알킬로 치환된 벤질기를 나타내며, R8는 아릴기이거나 수소원자, 할로겐원자, 알킬 또는 할로저급알킬로 치환된 벤질기를 나타내며, n은 0 또는 1을 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 R1,R2,R3,R4는 각각 수소원자, 할로겐원자, C1-C6의 직쇄이거나 C3-C4의 측쇄의 알킬기, C1-C3의 알콕시 또는 C1-C3의 할로알콕시기, C1-C3의 티오알콕시기 또는 C1-C3할로티오알콕시기, C1-C3의 할로알킬기, 니트로기, 시아노기, 페닐기 또는 치환페닐기, 페녹시 또는 치환페녹시기, 페닐설폰기 또는 치환 페닐설폰기, 알콕시카르보닐, 카복실산, 또는 질소가 포함된 모포린인 것을 특징으로 하는 2-퀴놀린온 유도체.
  3. 제1항에 있어서, 상기 R5는 C1-C3의 알킬기 또는 페닐 또는 치환된 페닐기임을 특징으로 하는 2-퀴놀린온 유도체.
  4. 제1항에 있어서, R7는 C1-C6의 직쇄이거나 C3-C의 측쇄의 알킬기 또는 수소원자, 할로겐원자, C1-C4의 알킬, C1-C3의 할로알킬로 치환된 벤질기임을 특징으로 하는 2-퀴놀린온 유도체.
  5. 제1항에 있어서, R8은 수소원자, 할로겐원자, C1-C4의 직쇄이거나 C3-C4의 측쇄의 알킬, C1-C3의 할로알킬, C1-C3의 알콕시 또는 C1-C3의 알콕시, 페닐 또는 치환페닐, 시아노기, 니트로기 등이 하나 또는 하나이상 치환된 페닐기이거나 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C4의 알킬 또는 C1-C3할로알킬로 치환된 벤질기임을 특징으로 하는 2-퀴놀린온 유도체.
  6. 다음 일반식(II)로 표시되는 케텐디티오 아세탈 α아닐리드를 가열 고리화시켜서 다음 일반식(Ia)의 2-퀴놀린온 유도체를 제조하는 방법.
    상기식들 중에서, R1,R2,R3,R4,R5및 R7은 각각 상기 정의한 바와 같다.
  7. 제1항에 있어서, 상기 가열 고리화는 140-250℃에서 수행됨을 특징으로 하는 2-퀴놀린온 유도체의 제조방법.
  8. 다음 일반식(Ia)의 화합물을 산화시켜서 다음 일반식(Ib)로 표시되는 2-퀴놀린온을 제조하는 방법.
    상기식들 중에서, R1,R2,R3,R4,R5및 R7은 각각 상기 정의한 바와 같다.
  9. 제8항에 있어서, 상기 산화는 0∼130℃에서 반응시킴을 특징으로 하는 2-퀴놀린온 유도체의 제조방법.
  10. 제8항에 있어서, 상기 산화제로는 과산화수소, 3-급 부틸하이드로퍼옥사이드, 클로로퍼옥시 벤조산 또는 퍼옥시 아세트산 또는 이들의 금속염 산화물을 이용하는 것을 특징으로 하는 2-퀴놀린온 유도체의 제조방법.
  11. 다음 일반식(Ib)로 표시되는 2-퀴놀린온을 다음 일반식(III)의 머캡탄으로 치환시켜 다음 일반식(Ia')의 2-퀴놀린온 유도체를 제조하는 방법.
    상기식들 중에서, R1,R2,R3,R4,R5,R7및 R8각각 상기 정의한 바와 같다.
  12. 제11항에 있어서, 상기 치환 반응은 100∼250℃에서 수행됨을 특징으로 하는 2-퀴놀린온 유도체의 제조방법.
  13. 다음 일반식(Ia')의 화합물을 산화시켜서 다음 일반식(Ib')로 표시되는 2-퀴놀린온을 제조하는 방법.
    상기식들 중에서, R1,R2,R3,R4,R5및 R8각각 상기 정의한 바와 같다.
  14. 제13항에 있어서, 상기 산화반응은 20℃∼130℃에서 반응시킴을 특징으로 하는 2-퀴놀린온의 제조방법.
  15. 제13항에 있어서, 상기 산화제로는 과산화수소, 3-급 부틸하이드로퍼옥사이드, 클로로퍼옥시 벤조산 또는 퍼옥시 아세트산 또는 이들의 금속염 산화물을 사용함을 특징으로 하는 2-퀴놀린온의 제조방법.
  16. 다음 일반식(I)로 표시되는 2-퀴놀린온 유도체를 유효성분으로 포함하는 살균제.
    상기식들 중에서, R1,R2,R3,R4,R5,R6및 n는 각각 상기 제1항에서 정의한 바와 같다.
  17. 다음 일반식(I)로 표시되는 2-퀴놀린온 유도체를 유효성분으로 함유하는 살충제.
    상기식들 중에서, R1,R2,R3,R4,R5,R6및 n는 각각 상기 제1항에서 정의한 바와 같다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910005391A 1991-04-03 1991-04-03 신규한 2-퀴놀린온 유도체 KR930009819B1 (ko)

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