KR920008211A

KR920008211A - 다중극 자장억류 원리를 이용한 대용량 이온 플레이팅 방법 및 그 장치

Info

Publication number: KR920008211A
Application number: KR1019900017528A
Authority: KR
Inventors: 구본웅
Original assignee: 구본웅
Priority date: 1990-10-31
Filing date: 1990-10-31
Publication date: 1992-05-27
Also published as: KR930001231B1

Abstract

내용 없음

Description

다중극 자장억류 원리를 이용한 대용량 이온 플레이팅 방법 및 그 장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제2도는 본 발명에 의한 이온플레이팅 장치의 개략도.

Claims

반응기체를 주입하게 된 대용량 진공용기내에 이온화 전극과 타켓 및 모재를 각각 음극전원과 바이어스 전원에 연결되도록 장착하여 타켓의 재료를 음극전원과 바이어스 전원의 방전에 의하여 이온화 시킨 후 모재에 가해진 부전압 가속에 의하여 모재의 표면에 강하고 조밀하게 부착시켜서 피막을 형성함에 있어서, 진공 용기의 내부에 균일 극소 자기장 영역이 형성되도록 용기의 외주 전체에 균일한 분포의 다중극 자장을 형성하여 그 다중극 자장이 발생 이온을 균일 극소 자기장 영역내에 고밀도로 구속 억류시킴과 동시에 타켓 표면에서의 국부 불균일 방전의 억제와 균일한 아크스팟 및 전자와 발생입자의 활발한 충돌을 유도하여 피막물성을 향상시킴과 함께 타켓의 소모가 균일히 이루어지게 함을 특징으로 하는 다중극 자장 억류 원리를 이용한 대용량 이온 플레이팅 방법.
진공펌프시스템(26)으로 진공을 유지하고 반응 기체를 주입하도록 된 진공용기(5)의 비자성재 진공용기외벽(6)내에 이온원인 음극전원(20)가 바이어스전원(23)에 연결되도록 장착하여 타켓(36)의 재료를 음극전원(20)과 바이어스 전원(23)의 방전에 의하여 이온화 시킨 후 모재(31)에 가해진 부전압 가속에 의하여 모재(31)의 표면에 강하고 조밀하게 부착시켜서 피막을 형성하게 된 것에 있어서, 진공용기(5)의 내부에 발생이온을 고밀도로 구속 억류시킴과 함께 균일 방전을 유도하는 균일 극소 자기장 영역(8)이 형성되도록 진공용기외벽(6)의 외주면 전체에 균일한 분포의 다중극 자장원(33)(33′)(33″)(33′″)을 배열 설치 하여서 형성된 것을 특징으로 하는 다중극 자장 억류 원리를 이용한 대용량 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제2항에서, 다중극 자장원(33)(33′)(33″)(33′″)은 서로 인접된 자장원의 극이 서로 반대 방향으로 배열된 영구자석(7)임을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제2항에서, 다중극 자장원(33)(33′)(33″)(33′″)은 다선코일(43)을 전류 방향으로 엇갈리도록 배열한 자장 형성 코일(1)임을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제2항 또는 제4항에서, 진공용기의 외벽(6)의 옆면에 배열되는 자장형성코일(1)은 지그재그상으로 배열된 것이고, 진공용기외벽(6)의 윗면에 배열된 자장 형성 코일(1)은 태극무늬 형태로 배열된 것임을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제2항에서, 다중극 자장원(33′)(33″)은 이온원인 음극(19)과 타켓(36)의 옆면과 뒷면이 배열되어 타켓의 균일 소모와 덩어리 생성 억제를 꾀하게 된 것임을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제2항에서, 장치는 2개의 이온원인 음극(19)과 타켓(36)이 진공용기(5)의 양측에 대향지게 설치되고 모재(31)가 용기중앙에서 공전 및 자전을 하는 회전 테이블(24)위에 놓이게 형성된 것을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제7항에서, 장치는 각 다중극 자장원(33)(33′)(33″)의 세기가 각각 다르게 코일 전원(9)의 출력을 조절할 수 있도록 형성된 것임을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제2항에서, 장치는 4개의 이온원인 음극(19)과 타켓(36)이 진공용기 외벽(6)의 4주위에 설치되고 모재(31)는 공전 및 자전하는 환상의 회전테이블(24)위에 놓이며 회전테이블(24) 내측에 모재(31)를 사이에 두고 외측 다중극 자장원(33)과 대향되게 내측 다중극 자장원(33″)을 환상으로 배열 설치 하여서 형성된 것을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 9항에서, 장치는 진공용기 외벽(6) 내측 일부와 회전 테이블(24)사이에 모재 예열용 히터(27)가 설치 되었고, 그 예열 히터(27)의 내외측에 다중극 자장원(33″)을 보호하기 위한 수냉각판(29)을 설치 하여서 형성된 것임을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제2항에서, 장치는 2개의 이온원인 음극(19)과 타켓(36)이 진공용기 외벽(6) 내측에서 대향지게 설치되고 용기 중심부에 있는 회전 테이블(24)위에 전체적으로 원통형의 모재(1)가 놓이며 그 모재(31)의 외주에 가열장치(39)로 가열 되는 링형태의 히팅코일(38)을 설치 하여서 형성된 것임을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제11항에서, 히팅코일(38)의 가열장치(39)의 전원으로 모재(31)가 매끈한 원통 형태인 경우 고주파 전원을 사용한 것을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제11항에서, 히팅코일(38)의 가열장치(39)의 전원으로 모재(31)가 요철이 심한 형태의 경우 상용주파수(60－240Hz) 전원을 사용한 적외선 가열 방식을 사용한 것을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.
청구범위 제11항에서, 히팅코일(38)은 진공차폐 상하 이동장치에 의하여 상하로 이동되도록 형성하여서 된 것임을 특징으로 하는 이온 플레이팅 장치.

※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.