KR920006333A - 아릴-융합 및 헤트아릴-융합-2,4- 디아제핀 및 2,4- 디아조신 부정맥 치료제 - Google Patents

아릴-융합 및 헤트아릴-융합-2,4- 디아제핀 및 2,4- 디아조신 부정맥 치료제 Download PDF

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KR920006333A
KR920006333A KR1019910015692A KR910015692A KR920006333A KR 920006333 A KR920006333 A KR 920006333A KR 1019910015692 A KR1019910015692 A KR 1019910015692A KR 910015692 A KR910015692 A KR 910015692A KR 920006333 A KR920006333 A KR 920006333A
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KR
South Korea
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phenyl
hydrogen
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halogen
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KR1019910015692A
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Inventor
에드 죤슨 로버트
챨스 슐레겔 도날드
Original Assignee
폴 이. 듀퐁
스터링 드럭 인코포레이티드
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내용 없음

Description

아릴-융합 및 헤트아릴 -융합2,4-디아제핀 및 2,4-디아조신 부정맥 치료제
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (57)

  1. 하기 일반식의 화합물:
    상기식에서, A는 페닐, 티에닐, 푸라닐, 나프틸, 피리디닐, 사이클로헥실, 및 아미노, 저급알킬, 저급알콕시, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬 설폰아미도로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐로 이루어진 그룹 중에서 선택된 환이며, R1은 수소, 저급 알킬, 벤질, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 페닐, 또는 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 두개의 치환체를 갖는 페닐이며, R2는 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐이거나, 또는 -CH2CH2R7(여기서, R7은 저급 알콕시, 벤질, 디(저급 알킬)아미노, 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노, 페닐 또는 아미노, 니트로 또는 저급 알킬 설폰아미도로 치환된 페닐이다)이고, R3는 Yp-(CH2)m-Xn-R8[여기서, Y는 -NH-, -O-, -S-, 또는이고, p는 0 또는 1이고, m은 0내지 7의 정수이고, X는 -S-, -O-, -SO2-,또는이고, n은 0 또는 1이고, R8은 수소, 저급 알킬, 페닐, 푸라닐, 티에닐, 피리디닐, 또는 할로겐, 저급 알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시, 저급 알킬 아미도, 저급 알킬설폰 아미도, 디저급 알킬아미노설포닐, 및 아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이거나, 또는 n이 0이고 m이 0이 아닌 경우에는 또한 할로겐, 벤질(저급 알킬)아미노, 디(저급 알킬)아미노, 또는 1개 또는 2개의 질소를 함유한 5-원 또는 6원 헤테로사이클(이 헤테로사이클은 치환되지 않거나 또는 하나의 저급 알킬 그룹으로 치환됨)이거나, 또는 X와 R8은 함께 사이클로헥실리딘이다]이고, R4는 수소, 저급 알킬, 알릴, 저급 알콕시-저급 알킬, 아세틸, 저급 알킬아세토, 저급 알킬 카복실 또는 α-하이드록시-저급 알킬이고, R5는 수소, 저급 알킬, 나프틸,티에닐, 피리디닐. 벤질, 페닐 또는 저급 알킬, 저급 알콕시, 할로겐, 하이드록실, 아미노, 디(저급알킬)아미노, 저급알킬설폰아미도 및 저급 아실 아미노로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또느 2개의 치환체를 갖는 페닐이고, 단, R1+R2+R3+R4+R5중의 탄소원자의 전체 갯수는 5 또는 그 이상이어야 한다.
  2. 제1항에 있어서, 하기 일반식을 갖는 화합물.
    상기식에서, R1은 수소, 저급 알킬, 벤질, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 페닐, 또는 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 두개의 치환체를 갖는 페닐이며, R2는 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐이거나, 또는 -CH2CH2R7(여기서, R7은 저급 알콕시, 벤질, 디(저급 알킬)아미노, 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노, 페닐 또는 아미노, 니트로 또는 저급 알킬 설폰아미도로 치환된 페닐이다)이고, R3는 Yp-(CH2)m-Xn-R8[여기서, Y는 -NH-, -O-, -S-, 또는이고, p는 0 또는 1이고, m은 0내지 7의 정수이고, X는 -S-, -O-, -SO2-, 또는이고, n은 0 또는 1이고, R8은 수소, 저급 알킬, 페닐, 푸라닐, 티에닐, 피리디닐, 또는 할로겐, 저급 알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시, 저급 알킬 아미도, 저급 알킬설폰 아미도, 디저급 알킬아미노설포닐, 및 아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이거나, 또는 n이 0이고 m이 0이 아닌 경우에는 또한 할로겐, 벤질(저급 알킬)아미노, 디(저급 알킬)아미노, 또는 1개 또는 2개의 질소를 함유한 5-원 또는 6원 헤테로사이클(이 헤테로사이클은 치환되지 않거나 또는 하나의 저급 알킬 그룹으로 치환됨)이거나, 또는 X와 R8은 함께 사이클로헥실리딘이다]이고, R4는 수소, 저급 알킬, 알릴, 저급 알콕시-저금 알킬, 아세틸, 저급 알킬아세토, 저급 알킬 카복실 또는 α-하이드록시-저급 알킬이고, R5는 수소, 저급 알킬, 나프틸,티에닐, 알킬설폰아미도 및 저급 아실 아미노로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이고, R6는 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아미노, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬설폰아미도로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체이거나, 또는 융합된 벤젠환이고, 단, R1+R2+R3+R4+R5중의 탄소원자의 전체 갯수는 5 또는 그 이상이어야 한다.
  3. 제2항에 있어서, R1과R5중 적어도 하나가 페닐, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 벤질, 또는 저급 알킬, 저급 알콕시, 할로겐, 하이드록실, 이미노, 디(저급알킬)아미노, 저급 알킬설폰아미도 및 저급 아실아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐인 화합물.
  4. 제3항에 있어서, R4와 R5둘다 수소가 아닌 화합물.
  5. 제4항에 있어서, R1이 수소이고, R2및 R4가 메틸이며, R5가 페닐, 또는 저급 알킬, 저급 알콕시, 할로겐, 하이드록실, 아미노, 디(저급알킬)아미노, 저급 알킬설폰아미도 및 저급 아실아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐인 화합물.
  6. 제2항에 있어서, R4와 R5둘다 수소이고, R1이 페닐인 화합물.
  7. 제2항에 있어서, R1과 R4둘다 수소인 화합물.
  8. 제7항에 있어서, R2가 저급 알킬인 화합물.
  9. 제8항에 있어서, R5가 페닐, 또는 저급 알킬, 저급 알콕시, 할로겐, 하이드록실, 아미노, 디(저급알킬)아미노, 저급 알킬설폰아미도 및 저급 아실아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐인 화합물.
  10. 제9항에 있어서, R2중의 p가 0이고, m이 1 또는 2이며, n이 1이고, X가 O,S 또는 SO2이며, R8이 페닐, 또는 할로겐, 저급알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시, 저급 알킬아미도, 저급 알킬설폰아미도, 디저급 알킬아미노설포닐 및 아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐인 화합물.
  11. 제10항에 있어서, R2가 메틸이고, m이 1인 화합물.
  12. 제9항에 있어서, R2중의 p가 0이고, m이 2 또는 3이며, n이 0이고, R8이 페닐, 또는 할로겐, 저급알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시, 저급 알킬아미도, 저급 알킬설폰아미도, 디저급 알킬아미노설포닐 및 아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐인 화합물.
  13. 제12항에 있어서, m이 2이고, R2가 메틸인 화합물.
  14. 제13항에 있어서, 4,5-디하이드로-4-메틸-1-페닐-3-(2-페닐에틸)-1H-2,4-벤조디아제핀인 화합물.
  15. 제13항에 있어서, R-(+)-4,5-디하이드로-4-메틸-1-페닐-3-(2-페닐에틸)-1H-2,4-벤조디아제핀인 화합물.
  16. 제13항에 있어서, N-[4-[2-(4,5-디하이드로-4-메틸-1-페닐-1H-2,4-벤조디아제핀-3-일)에틸]페닐]메탄설폰아미드인 화합물.
  17. 제13항에 있어서, 4,5-디하이드로-3-[2-(4-하이드록시페닐)에틸]-4-메틸-1-페닐-1H-2,4-벤조디아제핀인 화합물.
  18. 제9항에 있어서, R3중의 p와 n이 둘다 0이고, R8이 저급 알킬인 화합물.
  19. 제18항에 있어서, R2및 R8이 메틸인 화합물.
  20. 제9항에 있어서, R3중의 p가 0이고, n이 1이며, X가 -CH=CH-인 화합물.
  21. 제20항에 있어서, 4,5-디하이드로-4-메틸-1-페닐-3-(2-페닐에틸)-1H-2,4-벤조디아제핀인 화합물.
  22. 제1항에 있어서,
    화합물
  23. 제22항에 있어서, R1이 수소이고, R2가 저급 알킬이며, p가 0이고, R4가 수소이며, R5가 페닐인 화합물.
  24. 제23항에 있어서, 4,5-디하이드로-4-메틸-1-페닐-3-(2-페닐에틸)-1H-2,4-벤조디아제핀인 화합물.
  25. (a)하기 일반식(Ⅵ)의 화합물을 트리알킬아루미늄의 존재하에, (1) 일반식 R3aC(OR12)NH의 이미노 에테르 또는 이의 염. (2)일반식 R3aC(OR12)3의 오르토 에스테르, 또는 (3) 일반식 R3aCOOR12의 에스테르와 반응시키거나, 또는 (b)하기 일반식(ⅩⅩⅦ) 또는 (ⅩⅩⅦ)의 화합물을 트리알킬 알루미늄과 반응시킴을 포함하는, 하기 일반식(Ⅴ)화합물의 제조방법;
    (Ⅴ)
    (Ⅵ)
    (ⅩⅩⅦ)
    (ⅩⅩⅧ)
    상기식에서, R1은 수소, 저급 알킬, 벤질, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 페닐, 또는 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 두개의 치환체를 갖는 페닐이며, R2는 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐이거나, 또는 -CH2CH2R7(여기서, R7은 저급 알콕시, 벤질, 디(저급 알킬)아미노, 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노, 페닐 또는 아미노, 니트로 또는 저급 알킬 설폰아미도로 치환된 페닐이다)이고, R3a는 (Ya)p-(CH2)m-(Xa)n-R8[여기서, Ya는 -O-, -S-, 또는이고, p는 0 또는 1이고, m은 0내지 7의 정수이고, Xa는 -S-, -SO2-, -O-, 또는이고, n은 0 또는 1이고, R8은 수소, 저급 알킬, 페닐, 또는 할로겐, 저급 알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시, 저급 알킬 아미도, 저급 알킬설폰 아미도, 디(저급 알킬) 아미노설포닐 및 아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이거나, 또는 n이 0이고 m이 0이 아닌 경우에는 또한 할로겐, 벤질(저급 알킬)아미노, 또는 디(저급 알킬)아미노이거나, 또는 1개 또는 2개의 질소원자를 함유한 5원 또는 6원 헤테로사이클(이 헤테로사이클은 치환되지 않거나 또는 하나의 저급 알킬 그룹으로 치환됨)이다]이고, R5b는 저급 알킬, 페닐, 저급 알킬, 저급 알콕시 및 할로겐으로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는, 페닐, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 또는 벤질이고, R6은 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬설폰아미도로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체이거나, 또는 융합된 벤젠 환이고, R12는 메틸 또는 에틸이다.
  26. 하기 일반식(Ⅴa)의 화합물을 강염기와 반응시키고, (a)는 저급 알킬 알데하이드 또는 (b)일반식 R4bZ(여기서 Z는 친핵성 치환되는 그룹이고, R4b는 하기 정의한 바와같다)의 화합물과 반응시킴을 포함하는, 하기 일반식 (Ⅰa)화합물의 제조방법.
    (Ⅰa)
    (Ⅴa)
    상기식에서, R1은 수소, 저급 알킬, 벤질, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 페닐, 또는 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 두개의 치환체를 갖는 페닐이고, R2a는 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐이거나, 또는 -CH2CH2R7(여기서, R7은 저급 알콕시, 벤질, 디(저급 알킬)아미노, 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노이다)이고, R3a는 (Ya)p-(CH2)m-(Xa)n-R8[여기서, Ya는 -O-, -S-, 또는이고, p는 0 또는 1이고, m은 0내지 7의 정수이고, Xa는 -S-, -SO2-, -O- 또는 -CH=CH- 이고, n은 0 또는 1이고, R8은 수소, 저급 알킬, 페닐, 또는 할로겐, 저급 알킬, 니트로 하이드록시, 저급 알콜시, 저급 알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시, 저급 알킬 아미도, 저급 알킬설폰 아미도, 디(저급 알킬) 아미노설포닐, 및 아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이거나, 또는 n이 0이고 m이 0이 아닌 경우에는 또한 할로겐, 벤질(저급 알킬)아미노, 디(저급 알킬)아미노이거나, 또는 1개 또는 2개의 질소를 함유한 5원 또는 6원 헤테로사이클(이 헤테로사이클은 치환되지 않거나 또는 하나의 저급 알킬 그룹으로 치환됨)이다]이고, R4b는 저급 알킬, 알릴, 저급 알콕시 저급 알킬, 아세틸, 저급 알킬아세토, 저급 알킬 카복실 또는 α-하이드록시-저급 알킬이고, R5c는 페닐,저급 알킬, 저급 알콕시 및 할로겐으로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐, 나프틸, 티에닐, 또는 피리디닐이고, R6는 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬설폰아미도로 이루어진 그룹으로부터 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체이거나, 또는 융합된 벤젠 환이다.
  27. 하기 일반식 (Ⅶa)의 화합물을 강염기와 반응시킨 후 R8COOR12, R8CHNR12, R8CHO, R8SSR8, R8(Xb)n (CH2)m-1Z(여기서 R12는 메틸 또는 에틸이고, Z는 친핵성 치환되는 그룹이며, R8, Xb, m 및 n은 하기 정의하는 바와같다)로 이루어진 그룹중에서 선택된 친전자체와 반응시킴을 포함하는, 하기 일반식(Ⅶ)화합물의 제조방법.
    (Ⅶ)
    (Ⅶa)
    상기식에서, R1은 수소, 저급 알킬, 벤질, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 페닐, 또는 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 두개의 치환체를 갖는 페닐이며, R2a는 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐이거나, 또는 -CH2CH2R7(여기서, R7은 저급 알콕시, 벤질, 디(저급 알킬)아미노, 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노이다)이고, m은 0내지 7의 정수이고, Xb는 -S-, -SO2-, -O-,또는이고, n은 0 또는 1이고, R8은 수소, 저급 알킬, 페닐, 푸라닐, 티에닐, 피리디닐, 또는 할로겐, 저급 알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시, 저급 알킬 아미도, 저급 알킬설폰 아미도, 디저급 알킬아미노설포닐, 및 아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이거나, 또는 n이 0이고 m이 0이 아닌 경우에는 또한 할로겐, 벤질(저급 알킬)아미노, 디(저급 알킬)아미노, 또는 1개 또는 2개의 질소를 함유한 5-원 또는 6원 헤테로사이클(이 헤테로사이클은 치환되지 않거나 또는 하나의 저급 알킬 그룹으로-CH=CH-, 치환됨)이다]이고, R4c는 저급 알킬, 알릴, 저급 알콕시-저급 알킬, 아세틸, 저급 알킬아세토, 저급 알킬 카복실 또는 α-하이드록시-저급 알킬이고, R5c는 페닐,저급 알킬, 나프틸,티에닐, 알킬설폰아미도 및 저급 아실 아미노로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이고, R6는 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아미노, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬설폰아미도로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체이거나, 또는 융합된 벤젠환이거나, 또는 융합된 벤젠 환이고, R14는 수소 또는 메틸이다.
  28. 하기 일반식의 화합물:
    상기식에서, R1은 수소, 저급 알킬, 벤질, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 페닐, 또는 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 두개의 치환체를 갖는 페닐이며, R4a는 수소 또는 저급알킬이고,R5b는 수소, 저급 알킬, 페닐, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 벤질 또는 저급 알킬, 저급 알콕시및 할로겐으로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이거나 , R6는 페닐,저급 알킬, 나프틸,티에닐, 알킬설폰아미도 및 저급 아실 아미노로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이고, R6는 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아미노, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬설폰아미도로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체이거나, 또는 융합된 벤젠환이거나, 또는 융합된 벤젠 환이고, R14는 수소이거나, 또는 R1이 페닐인 경우에는 또한 저급 알킬일 수도 있고, R16은 (CH2)m-(Xa)n-R8a[여기서, m은 0내지 7의 정수이고, Xa는 -S-, -SO2-, -O- 또는 -CH=CH- 이고, n은 0 또는 1이고, R8a은 수소, 저급 알킬, 페닐, 푸라닐, 티에닐, 피리디닐, 또는 할로겐, 저급 알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시,및 할로겐으로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이다]이고, q는 1 또는 2이다.
  29. 제28항에 있어서, R1이 수소이고, R4a가 수소 또는 메틸이며, R5b가 페닐, 또는 저급 알킬, 저급 알콕시 및 할로겐으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐인 화합물.
  30. 제28항에 있어서, R1이 페닐이고, R4a와 R5b둘다 수소인 화합물.
  31. 제30항에 있어서, 1,2,3,5-테트라하이드로-10-페닐피롤로[1,2-b][2,4]-벤조디아제핀인 화합물.
  32. (a)하기 일반식 (Ⅵc)의 디아민을 일반식 ZCH2(CH2)qC(OR12)NH(여기서, Z는 친핵성 치환되는 그룹이고, q는 1 또는 2이며, R12는 메틸 또는 에틸이다)의 w-할로오르토에스테르와 반응시키거나, 또는 (b)하기 일반식(ⅩⅡ)의 화합물을 일반식 C1CH2(CH2)qCH2COOR12(여기서, q는 1 또는 2이고, R12는 메틸 또는 에틸이다)의 ω-클로로에스테르와 반응시킨 후 디아제핀 환을 고리화, 가수소 분해 및 폐환시킴을 포함하는, 하기 일반식(Ⅱa)화합물의 제조방법;
    상기식에서, R1은 수소, 저급 알킬, 벤질, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 페닐, 또는 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 두개의 치환체를 갖는 페닐이고, R5b는 수소, 저급 알킬, 페닐, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 벤질 또는 저급 알킬, 저급 알콕시및 할로겐으로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이고, R6는 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아미노, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬설폰아미도로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체이거나, 또는 융합된 벤젠환이다.
  33. 하기 일반식의 화합물.
    상기식에서, R2b는 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐이고, R3는 Yp-(CH2)m-Xn-R8[여기서, Y는 -NH-, -O-, -S-, 또는이고, p는 0 또는 1이고, X는 -S-, -O-, -SO2-, 또는이고, n은 0 또는 1이고, R8은 수소, 저급 알킬, 페닐, 푸라닐, 티에닐, 피리디닐, 또는 할로겐, 저급 알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시, 저급 알킬 아미도, 저급 알킬설폰 아미도, 디저급 알킬아미노설포닐, 및 아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이거나, 또는 n이 0이고 m이 0이 아닌 경우에는 또한 할로겐, 벤질(저급 알킬)아미노, 디(저급 알킬)아미노, 또는 1개 또는 2개의 질소를 함유한 5-원 또는 6원 헤테로사이클(이 헤테로사이클은 치환되지 않거나 또는 하나의 저급 알킬 그룹으로 치환됨)이거나, 또는 X와 R8은 함께 사이클로헥실리딘이다]이고, R4a는 수소, 저급 알킬이고, R5d는 수소, 저급 알킬, 나프틸,티에닐, 알킬설폰아미도 및 저급 아실 아미노로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이고, R6a는 수소, 저급알킬, 저급 알콕시 또는 할로겐이다.
  34. 제33항에 있어서, R2b가 메틸이고, p가 0이며, R8이 페닐 또는 할로겐, 저급 알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시, 저급 알킬 아미도, 저급 알킬 설폰아미도, 디저급 알킬 아미노 설포닐 및 아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이고, R4a가 수소이며, R5d가 페닐인 화합물.
  35. 제34항에 있어서, 4-메틸-1-페닐-3-(2-페닐에틸)-1,4,5,6-테트라하이드로-2,4-벤조디아조신인 화합물.
  36. 하기 일반식 화합물 :
    상기식에서, R1a는 수소, 저급 알킬 또는 페닐이고, R5a는 수소, 페닐, 할로겐, 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 또는 벤질이고, R6은 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시 및 할로겐으로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체이거나, 또는 융합된 벤젠환이고, R9는 수소, 저급 알킬, 벤질, 펜에틸 또는 [디(저급알킬)아미노]저급 알킬이고, R10은 수소, 저급알킬, 페닐, 할로겐, 저급 알킬, 설포아미도 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐, 페녹시, 할로겐, 저급 알킬, 또는 저급 알콕시로 치환된 페녹시, 또는 벤질이거나, 또는 1개 또는 2개의 질소를 함유한 5원 또는 6원 헤네로사이클이고, n은 0,1 또는 2이다.
  37. 제36항에 있어서, R1a와 R5a중 하나가 페닐이고, 다른 하나가 수소이며, R6가 수소인 화합물.
  38. 제36항에 있어서, R1a가 수소이고, R9a가 페닐이며, R8가, 저급 알킬이고, R10이 페녹시, 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페녹시인 화합물.
  39. 하기 일반식의 화합물:
    상기식에서, A는 페닐, 티에닐, 푸라닐, 나프틸, 피리디닐, 사이클로헥실, 및 아미노, 저급알킬, 저급알콕시, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬 설폰아미도로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐로 이루어진 그룹 중에서 선택된 환이며, R1a은 수소, 저급 알킬 또는 페닐이고, R2a는 저급알킬, 벤질, 페닐 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐이거나, 또는 -CH2CH2R7(여기서, R7은 저급 알콕시, 벤질, 디(저급 알킬)아미노, 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노이다)이고, R5a는 수소, 나프틸,티에닐,피리디닐 또는 벤질, 페닐, 또는 할로겐, 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이고, 단, R1a와 R5a중의 적어도 하나는 페닐, 벤질, 나프틸, 티에닐 또는 할로겐, 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이다.
  40. 제39항에 있어서, 하기 일반식을 갖는 화합물.
    상기 식에서, R6은 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아미노, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬설폰아미도로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체이거나, 또는 융합된 벤젠 환이다.
  41. 제40항에 있어서, R1a및 R6가 수소이고, R2a가 저급 알킬이며, R5a가 페닐, 또는 할로겐, 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐인 화합물.
  42. 제41항에 있어서, 2-[(메틸아미노)메틸]-α-페닐벤젠메탄아민인 화합물.
  43. 제40항에 있어서, R1a가 페닐이고, R5a및 R6가 수소이며, ,R2a가 저급 알킬 또는 벤질인 화합물.
  44. 제43항에 있어서, 2-(아미노메틸)-N-메틸-α-페닐벤젠메탄아민인 화합물.
  45. 제39항에 있어서, 하기 일반식을 갖는 화합물.
    상기식에서, R1a, R2a, 및 R5a는 제39항에서 정의한 바와 같다.
  46. 제45항에 있어서, R1a가 수소이고, R2a가 저급 알킬이며, R5a가 페닐, 또는 할로겐, 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐인 화합물.
  47. 제46항에 있어서, N-메틸-α'-페닐-2,3-티오페니메탄아민인 화합물.
  48. 하기 일반식 (Ⅷ) 또는 (Ⅸ)의 화합물을 과량의 디보란과 반응시킴을 포함하는, 하기 일반식(Ⅵa)화합물의 제조방법.
    상기식에서, R2는 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐이거나, 또는 -CH2CH2R7(여기서, R7은 저급 알콕시, 벤질, 디(저급 알킬)아미노, 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노, 페닐 또는 아미노, 니트로 또는 저급 알킬 설폰아미도로 치환된 페닐이다)이고, R6은 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아미노, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬설폰아미도로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체이거나, 또는 융합된 벤젠 환이다.
  49. 하기 일반식(Ⅹ) 또는 (ⅩⅠ)의 화합물을 과량의 디보란과 반응시킴을 포함하는, 하기 일반식(Ⅵb)화합물의 제조방법.
    상기식에서, R1은 수소, 저급 알킬, 벤질, 나프틸, 티에닐, 피리디닐, 페닐, 또는 저급 알킬 및 저급 알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 두개의 치환체를 갖는 페닐이고, R2는 수소, 저급알킬, 벤질, 페닐 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐이거나, 또는 -CH2CH2R7(여기서, R7은 저급 알콕시, 벤질, 디(저급 알킬)아미노, 피롤리디노, 피페리디노, 모르폴리노, 페닐 또는 아미노, 니트로 또는 저급 알킬 설폰아미도로 치환된 페닐이다)이고, R6은 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아미노, 할로겐, 니트로 및 저급 알킬설폰아미도로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체이거나, 또는 융합된 벤젠 환이다.
  50. 하기 일반식(Ⅷa)의 화합물을 순차적으로 수소화알루미늄, 귀금속 촉매 존재하에 수소, 및 니켈 촉매 존재하의 수소로 황원시킴을 포함하는, 하기 일반식 (Ⅵa)화합물의 제조방법:
    (Ⅳa)
    (Ⅷa)
    상기식에서, R5b는 수소, 저급 알킬, 나프틸, 티에닐, 피리디닐 벤질, 페닐 또는 저급 알킬, 저급 알콕시 및 할로겐으로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이고, R6a는 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시 및 할로겐으로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체이다.
  51. 하기 일반식의 화합물 :
    상기식에서, R2b는 수소, 저급 알킬, 벤질, 페닐,펜에틸, 디(저급 알킬)아미노알킬,또는 할로겐, 저급 알킬 또는 저급 알콕시로 치환된 페닐이고, R5d는 저급 알킬, 페닐, 나프틸, 티에닐,피리디닐, 벤질 또는 저급 알킬 및 저급 알콕시 및 할로겐으로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이고, R6a는 수소, 저급 알킬, 저급 알콕시 또는 할로겐이다.
  52. 제51항에 있어서, 2-(아미노)페닐메틸-N-메틸벤젠에탄아민인 화합물.
  53. 하기 일반식의 화합물로 이루어진 그룹중에서 선택된 화합물 :
    상기식에서, R2c는 저급 알킬, 벤질, 페닐 또는 펜에틸이고, R3a는 (Ya)p-(CH2)m-(Xa)n-R8[여기서, Ya는 -NH-, -O-, -S-, 또는이고, p는 0 또는 1이고, m은 0내지 7의 정수이고, Xa는 -S-, -XO2-, -O- 또는 -CH=CH- 이고, n은 0 또는 1이고, R8은 수소, 저급 알킬, 페닐, vnfkslf, xldpslf, vlflelslf, 또는 할로겐, 저급 알킬, 니트로, 하이드록시, 저급 알콕시, 저급 알킬 아미도, 저급 알킬설폰 아미도, 디저급 알킬아미노설포닐, 및 아미노로 이루어진 그룹중에서 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐이거나, 또는 n이 0이고 m이 0이 아닌 경우에는 또한 할로겐, 벤질(저급 알킬)아미노, 디(저급 알킬)아미노, 또는 1개 또는 2개의 질소를 함유한 5-원 또는 6원 헤테로사이클(이 헤테로사이클은 치환되지 않거나 또는 하나의 저급 알킬 그룹으로 치환됨)이거나, 또는 X와 R8은 함께 사이클로헥실리딘이다]이고, R5c는 페닐,저급 알킬, 나프틸,티에닐, 알킬설폰아미도 및 저급 아실 아미노로 이루어진 그룹중에서 독립적으로 선택된 1개 또는 2개의 치환체를 갖는 페닐,나프틸, 티에닐, 또는 피리디닐이고, Mθ는 약학적으로 허용가능한 산의 음이온이다.
  54. 약학적으로 허용가능한 담체, 및 활성 성분으로서 제1항 내지 제24항중 어느 한항에 따른 부정맥 치료 효과량의 화합물을 포함하는, 심장 부정맥 치료 또는 예방용 부정맥 치료제 조성물.
  55. 약학적으로 허용가능한 담체, 및 활성 성분으로서 제28항 내지 제31항중 어느 한항에 따른 부정맥 치료 효과량의 화합물을 포함하는, 부정맥 치료 또는 예방용 심장 부정맥 치료제 조성물.
  56. 약학적으로 허용가능한 담체, 및 활성 성분으로서 제33항 내지 제35항중 어느 한항에 따른 부정맥 치료 효과량의 화합물을 포함하는, 부정맥 치료 또는 예방용 부정맥 치료제 조성물.
  57. 약학적으로 허용가능한 담체, 및 활성 성분으로서 제39항 내지 제47항중 어느 한항에 따른 부정맥 치료 효과량의 화합물을 포함하는 부정맥 치료 또는 예방용 부정맥 치료제 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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