KR910017237A - 광 경화성 수지 조성물 - Google Patents
광 경화성 수지 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR910017237A KR910017237A KR1019900004433A KR900004433A KR910017237A KR 910017237 A KR910017237 A KR 910017237A KR 1019900004433 A KR1019900004433 A KR 1019900004433A KR 900004433 A KR900004433 A KR 900004433A KR 910017237 A KR910017237 A KR 910017237A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- resin composition
- photocurable resin
- compound
- general formula
- binder polymer
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (4)
- 결합제 고분자, 광 중합성 단량체 및 광 개시제를 포함하여 이루어지는 광 경화성 수지 조성물에 있어서, 상기한 결합제 고분자를 형성하는 공중합성 단량체 성분중의 1종 이상이 하기 일반식(Ⅰ)로 나타내어지는 화합물이고, 또한 상기한 광개시제는 일반식(Ⅰ)의 화합물 중의 헤테로 고리를 양이온 개환 중합시킬 수 있는 양이온 개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 경화성 수지 조성물.(상기 식중, R3는 수소 또는 메틸기이고, A는 에스테르 또는 아미드기이며, X는 O 또는 S 원자이고, n은 0내지 3의 정수임.)
- 제1항에 있어서, 상기한 일반식(Ⅰ)의 화합물이 글리시딜 메타크릴레이트, 글리시딜 메타크릴아미드, 2,3-에피티오 프로필 아크릴레이트, 2,3-에피티오 프로필 아크릴 아미드 또는 테트라리 히드로 푸르푸릴 메타크릴레이트인 것을 특징으로 하는 광 경화성 수지 조성물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기한 일반식(Ⅰ)의 화합물의 함유량이, 결합제 고분자 전체량에 대해 1~90물%인 것을 특징으로 하는 광 경화성 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기한 양이온 개시제는, 일반식(Ⅰ)의 화합물 중의 헤테로 고리 1당량에 대해 0.001 내지 0.1당량의 비율로 첨가되는 것을 특징으로 하는 광 경화성 수지 조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900004433A KR950012544B1 (ko) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | 광 경화성 수지 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900004433A KR950012544B1 (ko) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | 광 경화성 수지 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR910017237A true KR910017237A (ko) | 1991-11-05 |
KR950012544B1 KR950012544B1 (ko) | 1995-10-18 |
Family
ID=19297572
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900004433A KR950012544B1 (ko) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | 광 경화성 수지 조성물 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR950012544B1 (ko) |
-
1990
- 1990-03-31 KR KR1019900004433A patent/KR950012544B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR950012544B1 (ko) | 1995-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960013348A (ko) | 치과용 살균성 접착제 조성물 | |
KR830010404A (ko) | 방사선에 의한 중합성 조성물 | |
KR830008201A (ko) | 방사선에 의한 중합성 조성물 | |
KR940019644A (ko) | 제로 슬럼프-손실 초가소제 | |
ATE105209T1 (de) | Oelabsorbierendes polymer und dessen verwendung. | |
KR870011172A (ko) | 3차원 망상구조를 갖는 내부가교결합된 중합체 미소입자 | |
KR830002672A (ko) | 활성 에스테르 모노머 및 폴리머의 제조방법 | |
KR960037708A (ko) | 에폭시아크릴레이트수지 및 그 용도 | |
KR910010243A (ko) | 가교 경화형 수지 조성물, 가교 경화형 수지 조성물과 금속과의 적층체 및 가교 경화형 수지 조성물을 사용하는 금속 가공방법 | |
KR890007118A (ko) | 가시광 광중합성 조성물 | |
KR910008060A (ko) | 방사선 경화가능한 클래딩 조성물 | |
KR900013349A (ko) | 가교 경화형 수지 조성물 | |
BR0001629A (pt) | Composição para reduzir o intumescimento da madeira na presença de água, e, processos de reduzir o intumescimento da madeira na presença de água e de reduzir a taxa de lixiviamento de um ou mais biocidas da madeiras | |
KR860003302A (ko) | 광중합 조성물 | |
KR910017237A (ko) | 광 경화성 수지 조성물 | |
ES2062331T3 (es) | Metacrilato o acrilato de tiol y resina a partir de los mismos. | |
KR890702240A (ko) | 내구성 패턴 형성용 부재 | |
KR920009913A (ko) | 난연성 광경화성 수지 조성물 | |
SE8901595D0 (sv) | Adhesive compositions | |
KR960017796A (ko) | 메트아크릴산 트리플루오로에틸을 주성분으로 하는 광(光) 교차결합 가능 조성물과 그 제조방법 | |
KR970071141A (ko) | 아크릴 작용성 uv 안정화제를 포함하는 광 상 형성 조성물 | |
KR850000486A (ko) | 글리옥실에이트 포토이니시에이터의 증감방법 | |
ES2026733T3 (es) | Dispersiones acuosas de polimeros termorreticulables a base de (met)acrilato de alquilo, su procedimiento de preparacion y su aplicacion principalmente como aglutinantes y/o agentes de impregnacion. | |
KR840001596A (ko) | 가교할 수 있는 폴리(옥시알킬렌)그래프트 공중합체 | |
JPS5661471A (en) | Adhesive composition for dental use |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |