KR910003779A - Vertical heat treatment device with wafer transfer mechanism - Google Patents

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KR910003779A
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키요오 아사노
히로부미 기타야마
히로유키 이와이
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카자마 젠쥬
도오교오 에레구토론 사가미 사부시끼가이샤
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Abstract

내용 없음.No content.

Description

웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리 장치Vertical heat treatment device with wafer transfer mechanism

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음Since this is an open matter, no full text was included.

제1도는, 종형 열처리로의 전체의 개요를 나타내는 종단면 개요도,1 is a vertical cross-sectional view showing an overview of the entire vertical heat treatment furnace,

제2도는, 종형 열처리로의 주요부의 개요를 나타내는 부분 종단면 개요도,2 is a partial vertical cross-sectional schematic diagram showing an outline of a main part of a vertical heat treatment furnace;

제3도는, 열처리로 하부의 웨이퍼 이송장치의 개요를 나타내는 평면도.3 is a plan view showing an outline of a wafer transfer device under the heat treatment furnace.

Claims (55)

다수의 반도체 웨이퍼를 캐리어로 부터 보우트로 이송교체 하기 위한 웨이퍼 이송교체기구를 가지는 종형 열처리 장치로서: 웨이퍼가 수직의 방향으로 병렬로 나란한 자세에서, 복수개의 캐리어를 받아넣는 포트와, 이 포트에 형성되고, 캐리어내의 웨이퍼가 수직에서 수평의 방향으로 바뀌도록, 이 캐리어의 자세를 변환하는 자세 변환 수단과, 이 포트상의 캐리어를 이 자세 변환 수단까지 이송하는 캐리어 이송수단과, 이 자세변환 수단으로부터 이 캐리어를 수취하고, 이 캐리어를 대기시켜 놓기 위하여 스테이션에 이 캐리어를 이동적재하는 캐리어 이동적재 수단과, 이 스테이션에 대기하고 있는 이 캐리어로부터 차례로 웨이퍼를 반출하고, 반출된 웨이퍼를 이 보우트에 차례로 이동적재하는 웨이퍼 이동적재 수단과, 이 보우트를 열처리로에 장입하는 장입수단을 가지며, 이 캐리어 이동적재 수단 및 웨이퍼 이동적재 수단은, 공통의 프레임에 적재 되어 있는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.A vertical heat treatment apparatus having a wafer transfer mechanism for transferring and replacing a plurality of semiconductor wafers from a carrier to a boat, comprising: a port for receiving a plurality of carriers in a posture in which the wafers are arranged in parallel in a vertical direction, and formed in the port A posture converting means for converting the attitude of the carrier, a carrier conveying means for conveying the carrier on the port to the posture converting means, and the posture converting means so as to change the wafer in the carrier from the vertical to the horizontal direction. In order to receive the carrier and to hold the carrier, the wafer is moved from the carrier moving means for moving the carrier to the station and the carrier waiting for the station, and then the wafer is moved to this boat. Wafer transfer means to load and this boat are put in heat treatment furnace Having a charging means, the mounting means moves the carrier and moves the wafer mounting means, vertical thermal processing apparatus having a wafer transfer mechanism which is mounted on a common replacement frame. 제1항에 있어서, 자세 변환수단은, 자세변환중의 캐리어를 유지하기 위한 유지기구를 가지며, 이 유지기구의 유지동작은 캐리어 이동적재기구의 캐리어 수취동작에 연동하여 제어되는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The posture converting means according to claim 1, wherein the posture converting means has a retaining mechanism for retaining the carrier during the posture converting, wherein the retaining operation of the retaining mechanism is controlled by a wafer transfer replacement mechanism controlled in conjunction with the carrier receiving operation of the carrier moving loading mechanism. Branch type heat treatment apparatus. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 복수장의 웨이퍼을 동시에 반출하기 위한 포오크 부재를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer discharging means has a wafer transfer replacement mechanism having a fork member for simultaneously discharging a plurality of wafers from a carrier. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 복수장의 웨이퍼를 동시에 반출하기 위한 제1의 포오크 부재와 캐리어로부터 1장만의 웨이퍼를 반출하기 위한 제2의 포오크 부재를 가지며, 이 제1 및 제2의 포오크 부재를 각각 독립하여 동작시키는 기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The wafer carrying means according to claim 1, wherein the wafer carrying means has a first fork member for simultaneously carrying out a plurality of wafers from the carrier and a second fork member for carrying out only one wafer from the carrier. A vertical heat treatment apparatus having a wafer transfer replacement mechanism having a mechanism for independently operating the second fork member, respectively. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출하기 위한 포오크 부재를 가지며, 이 포오크 부재의 수평도를 조정하기 위한 수평조정기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer carrying means has a fork member for carrying out a wafer from a carrier, and has a wafer transfer replacement mechanism having a horizontal adjusting mechanism for adjusting the horizontality of the fork member. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재 수단은, 캐리어를 파지하기 위한 1쌍의 링크기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier moving means has a wafer transfer replacement mechanism having a pair of link mechanisms for holding the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재수단은, 캐리어를 파지할 때 사용되는 링크기구를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier movement loading means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the link mechanism used when holding the carrier. 제1항에 있어서, 웨이퍼 이동적재수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출할때 사용되는 포오크부재를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The longitudinal heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer transfer means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the fork member used when carrying out the wafer from the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 수평면내에서 선회시키는 선회기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a swing mechanism for pivoting a frame on which the carrier transfer mechanism and the wafer transfer mechanism are loaded in a horizontal plane. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 상하로 승강시키는 승강기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a lifting mechanism for lifting up and down a frame on which the carrier moving loading mechanism and the wafer moving loading mechanism are mounted. 제1항에 있어서, 자세 변환수단은, 자세변환중의 캐리어를 유지하기 위한 유지기구를 가지며, 이 유지기구의 유지동작은 캐리어 이동적재기구의 캐리어 수취동작에 연동하여 제어되는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The posture converting means according to claim 1, wherein the posture converting means has a retaining mechanism for retaining the carrier during the posture converting, wherein the retaining operation of the retaining mechanism is controlled by a wafer transfer replacement mechanism controlled in conjunction with the carrier receiving operation of the carrier moving loading mechanism. Branch type heat treatment apparatus. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 복수장의 웨이퍼을 동시에 반출하기 위한 포오크 부재를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer discharging means has a wafer transfer replacement mechanism having a fork member for simultaneously discharging a plurality of wafers from a carrier. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 복수장의 웨이퍼를 동시에 반출하기 위한 제1의 포오크 부재와 캐리어로부터 1장만의 웨이퍼를 반출하기 위한 제2의 포오크 부재를 가지며, 이 제1 및 제2의 포오크 부재를 각각 독립하여 동작시키는 기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The wafer carrying means according to claim 1, wherein the wafer carrying means has a first fork member for simultaneously carrying out a plurality of wafers from the carrier and a second fork member for carrying out only one wafer from the carrier. A vertical heat treatment apparatus having a wafer transfer replacement mechanism having a mechanism for independently operating the second fork member, respectively. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출하기 위한 포오크 부재를 가지며, 이 포오크 부재의 수평도를 조정하기 위한 수평조정기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer carrying means has a fork member for carrying out a wafer from a carrier, and has a wafer transfer replacement mechanism having a horizontal adjusting mechanism for adjusting the horizontality of the fork member. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재 수단은, 캐리어를 파지하기 위한 1쌍의 링크기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier moving means has a wafer transfer replacement mechanism having a pair of link mechanisms for holding the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재수단은, 캐리어를 파지할 때 사용되는 링크기구를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier movement loading means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the link mechanism used when holding the carrier. 제1항에 있어서, 웨이퍼 이동적재수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출할때 사용되는 포오크부재를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The longitudinal heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer transfer means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the fork member used when carrying out the wafer from the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 수평면내에서 선회시키는 선회기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a swing mechanism for pivoting a frame on which the carrier transfer mechanism and the wafer transfer mechanism are loaded in a horizontal plane. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 상하로 승강시키는 승강기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a lifting mechanism for lifting up and down a frame on which the carrier moving loading mechanism and the wafer moving loading mechanism are mounted. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 복수장의 웨이퍼을 동시에 반출하기 위한 포오크 부재를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer discharging means has a wafer transfer replacement mechanism having a fork member for simultaneously discharging a plurality of wafers from a carrier. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 복수장의 웨이퍼를 동시에 반출하기 위한 제1의 포오크 부재와 캐리어로부터 1장만의 웨이퍼를 반출하기 위한 제2의 포오크 부재를 가지며, 이 제1 및 제2의 포오크 부재를 각각 독립하여 동작시키는 기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The wafer carrying means according to claim 1, wherein the wafer carrying means has a first fork member for simultaneously carrying out a plurality of wafers from the carrier and a second fork member for carrying out only one wafer from the carrier. A vertical heat treatment apparatus having a wafer transfer replacement mechanism having a mechanism for independently operating the second fork member, respectively. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출하기 위한 포오크 부재를 가지며, 이 포오크 부재의 수평도를 조정하기 위한 수평조정기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer carrying means has a fork member for carrying out a wafer from a carrier, and has a wafer transfer replacement mechanism having a horizontal adjusting mechanism for adjusting the horizontality of the fork member. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재 수단은, 캐리어를 파지하기 위한 1쌍의 링크기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier moving means has a wafer transfer replacement mechanism having a pair of link mechanisms for holding the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재수단은, 캐리어를 파지할 때 사용되는 링크기구를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier movement loading means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the link mechanism used when holding the carrier. 제1항에 있어서, 웨이퍼 이동적재수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출할때 사용되는 포오크부재를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The longitudinal heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer transfer means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the fork member used when carrying out the wafer from the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 수평면내에서 선회시키는 선회기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a swing mechanism for pivoting a frame on which the carrier transfer mechanism and the wafer transfer mechanism are loaded in a horizontal plane. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 상하로 승강시키는 승강기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a lifting mechanism for lifting up and down a frame on which the carrier moving loading mechanism and the wafer moving loading mechanism are mounted. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 복수장의 웨이퍼를 동시에 반출하기 위한 제1의 포오크 부재와 캐리어로부터 1장만의 웨이퍼를 반출하기 위한 제2의 포오크 부재를 가지며, 이 제1 및 제2의 포오크 부재를 각각 독립하여 동작시키는 기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The wafer carrying means according to claim 1, wherein the wafer carrying means has a first fork member for simultaneously carrying out a plurality of wafers from the carrier and a second fork member for carrying out only one wafer from the carrier. A vertical heat treatment apparatus having a wafer transfer replacement mechanism having a mechanism for independently operating the second fork member, respectively. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출하기 위한 포오크 부재를 가지며, 이 포오크 부재의 수평도를 조정하기 위한 수평조정기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer carrying means has a fork member for carrying out a wafer from a carrier, and has a wafer transfer replacement mechanism having a horizontal adjusting mechanism for adjusting the horizontality of the fork member. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재 수단은, 캐리어를 파지하기 위한 1쌍의 링크기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier moving means has a wafer transfer replacement mechanism having a pair of link mechanisms for holding the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재수단은, 캐리어를 파지할 때 사용되는 링크기구를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier movement loading means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the link mechanism used when holding the carrier. 제1항에 있어서, 웨이퍼 이동적재수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출할때 사용되는 포오크부재를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The longitudinal heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer transfer means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the fork member used when carrying out the wafer from the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 수평면내에서 선회시키는 선회기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a swing mechanism for pivoting a frame on which the carrier transfer mechanism and the wafer transfer mechanism are loaded in a horizontal plane. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 상하로 승강시키는 승강기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a lifting mechanism for lifting up and down a frame on which the carrier moving loading mechanism and the wafer moving loading mechanism are mounted. 제1항에 있어서, 웨이퍼 반출수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출하기 위한 포오크 부재를 가지며, 이 포오크 부재의 수평도를 조정하기 위한 수평조정기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer carrying means has a fork member for carrying out a wafer from a carrier, and has a wafer transfer replacement mechanism having a horizontal adjusting mechanism for adjusting the horizontality of the fork member. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재 수단은, 캐리어를 파지하기 위한 1쌍의 링크기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier moving means has a wafer transfer replacement mechanism having a pair of link mechanisms for holding the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재수단은, 캐리어를 파지할 때 사용되는 링크기구를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier movement loading means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the link mechanism used when holding the carrier. 제1항에 있어서, 웨이퍼 이동적재수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출할때 사용되는 포오크부재를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The longitudinal heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer transfer means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the fork member used when carrying out the wafer from the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 수평면내에서 선회시키는 선회기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a swing mechanism for pivoting a frame on which the carrier transfer mechanism and the wafer transfer mechanism are loaded in a horizontal plane. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 상하로 승강시키는 승강기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a lifting mechanism for lifting up and down a frame on which the carrier moving loading mechanism and the wafer moving loading mechanism are mounted. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재 수단은, 캐리어를 파지하기 위한 1쌍의 링크기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier moving means has a wafer transfer replacement mechanism having a pair of link mechanisms for holding the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재수단은, 캐리어를 파지할 때 사용되는 링크기구를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier movement loading means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the link mechanism used when holding the carrier. 제1항에 있어서, 웨이퍼 이동적재수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출할때 사용되는 포오크부재를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The longitudinal heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer transfer means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the fork member used when carrying out the wafer from the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 수평면내에서 선회시키는 선회기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a swing mechanism for pivoting a frame on which the carrier transfer mechanism and the wafer transfer mechanism are loaded in a horizontal plane. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 상하로 승강시키는 승강기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a lifting mechanism for lifting up and down a frame on which the carrier moving loading mechanism and the wafer moving loading mechanism are mounted. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재수단은, 캐리어를 파지할 때 사용되는 링크기구를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the carrier movement loading means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the link mechanism used when holding the carrier. 제1항에 있어서, 웨이퍼 이동적재수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출할때 사용되는 포오크부재를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The longitudinal heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer transfer means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the fork member used when carrying out the wafer from the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 수평면내에서 선회시키는 선회기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a swing mechanism for pivoting a frame on which the carrier transfer mechanism and the wafer transfer mechanism are loaded in a horizontal plane. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 상하로 승강시키는 승강기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a lifting mechanism for lifting up and down a frame on which the carrier moving loading mechanism and the wafer moving loading mechanism are mounted. 제1항에 있어서, 웨이퍼 이동적재수단은, 캐리어로 부터 웨이퍼를 반출할때 사용되는 포오크부재를 이동시키기 위한 벨트 구동기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.2. The longitudinal heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the wafer transfer means has a wafer transfer replacement mechanism having a belt drive mechanism for moving the fork member used when carrying out the wafer from the carrier. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 수평면내에서 선회시키는 선회기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a swing mechanism for pivoting a frame on which the carrier transfer mechanism and the wafer transfer mechanism are loaded in a horizontal plane. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 상하로 승강시키는 승강기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a lifting mechanism for lifting up and down a frame on which the carrier moving loading mechanism and the wafer moving loading mechanism are mounted. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 수평면내에서 선회시키는 선회기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a swing mechanism for pivoting a frame on which the carrier transfer mechanism and the wafer transfer mechanism are loaded in a horizontal plane. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 상하로 승강시키는 승강기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a lifting mechanism for lifting up and down a frame on which the carrier moving loading mechanism and the wafer moving loading mechanism are mounted. 제1항에 있어서, 캐리어 이동적재기구 및 웨이퍼 이동적재 기구를 적재한 프레임을, 상하로 승강시키는 승강기구를 가지는 웨이퍼 이송교체 기구를 가지는 종형 열처리장치.The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, further comprising a wafer transfer replacement mechanism having a lifting mechanism for lifting up and down a frame on which the carrier moving loading mechanism and the wafer moving loading mechanism are mounted. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.
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KR100689619B1 (en) * 2005-07-18 2007-03-09 에이치앤피테크놀로지(주) programming device

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