KR910003468B1 - 하이드록시 벤젠의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

하이드록시 벤젠의 제조방법
본 발명은 α,α-디알킬-α-하이드록시메틸기를 갖는 m-디이소프로필벤젠디카비놀과 같은 벤젠(a) 및/또는 α,α-디알킬-α-하이드록시메틸과 α,α-디알킬-α-하이드로퍼옥시메틸기를 갖는 m-디이소프로필벤젠 모노카비놀모노하이드로-퍼옥사이드와 같은 벤젠(b)으로부터 레조르시놀(resorcinol)과 같은 하이드록시벤젠을 제조하는 방법에 관한것이다.
레조르시놀과 같은 하이드록시벤젠을 제조하기 위한 공지된 방법은 염기의 존재하에서 분자상 산소로서 m-디이스프로필벤젠(m-D1PB)를 산화시켜 m-디이소프로필벤젠 디하이드로퍼옥사이드(m-DHP)를 얻고, m-DHP를 산으로 분해시켜 레조르시놀을 제조하였다. 이 방법은 m-DHP이외에도 m-디이소프로필 벤젠모노카비놀 모노하이트로퍼옥사이드(m-HHP)와 m-디이소프로필벤젠디카비놀(m-DC)과 같은 카비놀을 부산물로 생성한다. 그러므로, m-D1PB를 산화시킨후에 m-DHP를 산으로 분해하는 상용의 레조르시놀 제조방법대신, 부산물인 카비놀을 과산화수소로 재산화시켜 m-DHP를 형성한 후 산으로 레소르시놀로 분해하는 것이 제안된 바 있다(예, 일본특허공보 특공소 58-52972호 참조).
종래의 방법에서는 m-D1PB를 분자상 산소로 산화하여 얻는 하이드로퍼옥사이드 이외에 카비놀을 함유하는 산화생성물의 혼합물을 우선 첫단계로 황산과 같은 산화 토루엔과 같은 방향족 탄화수소 용매 또는 메틸이소부틸케톤과 같은 케톤용매의 존재하에서 과산화수소로서 산화시켜 카비놀을 재산화하여 농축 m-DHP를 형성한다음, 그다음 단계로 농축 m-DHP를 산으로서 레소르시놀로 분해한다. 이러한 종래의 방법은 과산하수소에 의한 재산화와 산에 의한 산분해의 두가지 반응을 동시에 성취하기 어렵기때문에 2단계 반응으로 행하였다. 이때문에 반응조작이 복잡하게되고, 제조비용이 많이 소요되며, 그외에도 이 방법에 의해 생성되는 레소르시놀의 수율은 높지않았다.
일본공개특허공보 특개소 61-282333호에는 2,6-디이소프로필나프탈렌 디카비놀을 아세토니트릴 또는 디옥산중에서 무기산의 존재하에 좌산화수소로 산화하고 산분해시켜 1단계로 2,6-디하이드록시나프탈린을 생성하는 방법이 기술되어있다. 일본특원소 60-209275호에는 2,6-DHN 제조방법으로 케톤 또는 토루엔내에 용해된 2,6-디이소프로필나프탈린(2,6-DIPN)의 산화생성물의 용액을 산의 존재하에서 H2O2로서 산화 및 분해시킴으로서 2단계로 나누지 않고, 1단계 반응에 의해 2,6-DHN을 고수율로 얻을 수 있음이 기재되어있다. 일본특개소 61-282333호에 기술된 방법은 아세토니트릴 또는 디옥산중에서 반응을 수행할때조차 2,6-DIPN의 순수한 디카비놀로부터 만족스러운 수율의 2,6-DHN을 생성할 수 있음이 기재되어있다. 그러므로, 이 두 방법들은 사용한 출발물질(한 방법에서 2,6-DIPN 디카비놀, 다른 방법에서 2,6-DIPN의 산화생성물)에서 차이가 있긴하지만, 산화제로서 H2O2를 사용하여 2,6-DHN을 제조하는 방법에 관한 것으로, 케톤, 방향족 탄화수소, 아세토니트릴 또는 디옥산과 같은 용매내에서 1단계 반응에 의해 효율적으로 그들의 목적물을 얻고있다.
그러나, 일본특개소 61-282333호에 기술된 방법의 출발물질은 나프탈린핵을 갖고있으며, 벤젠핵을 갖는 출발물질에 적용될 수 있는지 명백하지않다. 또, 이 방법에서는 반응에 사용하는 출발물질은 불순물을 함유하지않는 순수한 디카비놀이다. 이미 지적된 바와같이, 만일 m-디이소프로필벤젠과 같은 폴리알킬벤젠을 분자상 산소로서 산화할 경우 디하이드로퍼옥사이드, 모노카비놀 모노하이드로퍼옥사이드 및 디카비놀과 같은 다양한 산화물들이 혼합물형으로 생성된다. 그러나, 일본특개소 61-282333호에 기술된 방법이 카비놀 이외에 하이드로퍼옥사이드를 함유하는 산화생성물들의 혼합물에도 동일하게 적용될 수 있는지 불분명하다.
상술한 점에 비추어 본 발명자들은 α,α-디알킬-α-하이드록시메틸기를 갖는 방향족 탄화수소(a) 및/ 또는 α,α-디알킬-α-하이드록시메틸과 α,α-디알킬-α-하이드로퍼옥시메틸기를 갖는 방향족 탄화수소(b)로부티 1단계반응으로 하이드록시벤젠을 선택적으로 고수율로 제조하는 방법을 연구했다.
그결과, 본 발명자들은 α,α-디알킬-α-하이드록시메틸기를 갖는 벤젠(a) 및/또는 α,α-디알킬-α-하이드록시메틸과 α,α-디알킬-α-하이드로퍼옥시메틸기를 갖는 벤젠(b)을 니트릴, 산 및 과산화수소의 존재하에서 반응시키면 원하는 하이드록시벤젠을 얻을 수 있음을 밝혀내어 본 발명을 완성했다.
본 발명의 방법에서는 α,α-디알킬-α-하이드록시메틸기를 갖는 벤젠(a)(이후 때때로 카비놀(a)로서 약칭함) 및/또는 α,α-디알킬-α-하이드록시메틸과 α,α-디알킬-α-하이드로퍼옥시메틸기를 갖는 벤젠(b)(이후 가끔 카비놀 하이드로퍼옥사이드(b)라 함)을 하이드록시벤젠 제조용 출발물질로서 사용한다.
본 발명에 사용되는 카비놀(a)의 구체적인 예를들면 m-bis(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)벤젠(이후 종종 m-디이소프로필벤젠디카비놀 또는 간단히 m-DC라함) m-이소프로필(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)벤젠, m-아세틸-(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)벤젠, 1,3,5-tris(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)벤젠, 1,3,5-bis(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)-5-이소프로필벤젠, 1-(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)-3,5-디이소프로필벤젠, 1-아세틸-3,5-bis(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸) 벤젠, 3,5-bis(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)토루엔, 및 3-(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)-5-이소프로필 토루엔등이 있다.
본 발명에 사용되는 카비놀 하이드로퍼옥사이드(b)의 구체적인 예를 들면 m-(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)-(α, α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)벤젠(이후 때때로 m-디이소프로필벤젠 모노카비놀 모노하이드로퍼옥사이드 또는 간단히 m-HHP라 함), 1,3-bis(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)-5-(α, α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)벤젠, 1-(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)-3,5-bis(α, α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)벤젠 및 1-이소프로필-3-(α, α-디메틸-α-하이드록시메틸)-5-(α, α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)벤젠등이 있다.
위에 구체적으로 예시한 카비놀(a)와 카비놀 하이드로퍼옥사이드(b)는 알킬기가 이소프로필기인 경우이지만, sec-부틸과 같은 다른 제 2급 알킬기를 갖는 것들을 사용하는 경우도 본 발명의 범위내에 포함됨을 이해해야 한다.
하이드록시벤젠들을 제조하기위한 본 발명의 방법에서 사용하는 출발물질은 카비놀(a) 또는 카비놀 하이드로퍼옥사이드(b)중 어느 하나 또는 (a)와 (b)의 혼합물일 수 있다. 출발물질은 선택적인 성분으로서 α, α-디알킬-α-하이드로퍼옥시메틸기를 갖는 벤젠(c)(이후 하이드로퍼옥사이드(c)로 약칭함)을 더 함유할 수도 있다.
하이드로퍼옥사이드(c)의 구체적인 예를들면 m-bis(α,α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)벤젠, m-(α,α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)-이소프로필벤젠, m-(α,α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)-아세틸벤젠, 1,3,5-tris(α,α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)벤젠, 1,3-bis(α,α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)5-이소프로필벤젠 및 1,3-디이소프로필-5-(α,α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)벤젠등 이 있다.
본 발명의 출발물질로서는 카비놀(a), 카비놀 하이드로퍼옥사이드(b) 및 하이드로퍼옥사이드(c)를 함유하는 폴리알킬벤젠을 분자상 산소로 산화시켜 생성된 혼합물을 사용하는 것이 편리하다. 폴리알킬벤젠을 예로들면 큐멘, 시멘, Sec-부틸-벤젠, 이소프로필에틸벤젠, m-디이소프로필벤젠, p-디이소프로필벤젠, p-디에틸벤젠, m-디에틸벤젠, 1,3,5-트리이소프로필벤젠, 3,5-디이스프로필톨루엔, m-디-sec-부틸벤젠, 및 p-디-sec-부틸벤젠등이 있다.
용어 "분자상 산소"는 산소가스, 산소가스를 질소와같은 불활성가스로서 희석한 가스, 예를들면 공기를 의미한다. 분자상 산소로서 폴리알킬벤젠의 산화는 필요에 따라서 라디칼 개시제 및 알카리수용액 존재하에 반응계내에 분자상 산소를 공급하는 공지된 조건으로 행할 수 있다. 분가상 산소로서 폴리알킬벤젠을 산화시킴에 이용될 수 있는 몇가지 방법들은 일본특허공보 특공소 58-5297호와 일본특개소 60-149538호 및 특개소 58-150529호에 기술되어있다.
알카리수용액의 예를들면 수산화나드륨, 수산화칼륨 및 탄산소오다등의 수용액이 있다. 그러한 수용액은 일반적으로, 반응계의 약 5∼70%의 양으로 사용된다. 반응온도와 시간은 산화할 폴리알킬벤젠의 종류에 따라 다르나 통상적으로 사용되는 조건들은 70-150℃와 2∼100시간이다.
분자상 산소로서 산화반응을 완료한후, 반응생성물을 유수분리에 의해 유상을 분리한다. 필요할 경우, 산화반응생성물에 벤젠 또는 토루엔과 같은 방향족 탄화수소 또는 메틸이소부틸케톤과 같은 용매를 첨가하여 유상을 분리할 수도 있다. 또, 용매로는 아세톤 또는 아세토니트릴과 같은 수용성 용매라도 벤젠, 토루엔 또는 메틸이소부틸케톤과 같은 물에 녹기 어려운 용매와 혼합함으로서 물과의 상용성을 저하시킬 수 있으면 사용할 수 있다.
분리된 유상에는 카비놀(a), 키비놀 하이드로퍼옥사이드(b) 및 하이드로퍼옥사이드(c)를 모두 또는 적어도 하나 함유한다. 상술한 바와같이, 이 산화생성물의 혼합물은 하이드록시벤젠 제조용 출발물질로서 본 발명의 방법에 사용할 수 있다. 이 혼합물의 성분비율은 산화반응이 종료되는 시간까지 폴리알킬벤젠과 반응한 산소의 몰비에 따라 다르지만 일반적으로 카비놀(a)는 0.1∼5중량부, 카비놀하이드로퍼옥사이드(b)는 5∼30중량부, 그리고 하이드로퍼옥사이드(c)는 30∼70중량부이다.
본 발명의 방법에 의하면, 전술한 카비놀(a) 및/또는 카비놀 하이드로퍼옥사이드(b)는 니트릴, 산 및 과산화수소의 존재하에 반응되어 원하는 하이드록시벤젠이 생성된다.
사용될 수 있는 니트릴의 구체적인 예를들면 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 부티로니트릴 및 헥사노니트릴과 같은 지방족 니트릴, 말론니트릴, 석시노니트릴 및 아디포니트릴과 같은 지방족 디니트릴, 그리고 벤조니트릴, 토루니트릴과 같은 방향족 니트릴등이 있다.
니트릴의 사용량은 용매로서도 사용할 수 있으나, 그 사용비율은 카비놀(a) 및/또는 카비놀 하이드로퍼옥사이드(b)와 하이드로퍼옥사이드(c)(이것이 존재할 경우)의 합계중량부당 일반적으로는 0.5∼100중량부, 바람직하게는 1∼50중량부의 범위이다. 니트릴 함량이 0.5중량부 이상이면 원하는 하이드록시벤젠이 고선택비와 고수율이 성취될 수 있다. 사용할 수 있는 니트릴의 최대량에 대한 특별한 제한은 없다. 그러나, 경제적인 측면에서 볼때 100중량부를 넘지않는 양의 니트릴을 사용하는것이 좋다.
본 발명에 사용할 수 있는 산의 구체적인 예를들면 황산, 염산, 인산, 과염소산 및 불화수소산과 같은 무기산, 강산성이온 교환수지, 실리카겔 및 실리카알루미나와 같은 고체산, 클로로초산, 메탄설폰산, 벤젠설폰산 및 토루엔설폰산과 같은 유기산, 포스포텅스텐산 및 포스포모리브덴산과 같은 헤테로폴리산, 보론트리후루오라이드(BF3)와 같은 루이스산등이 있다. 이러한 산성 촉매들은 그대로 또는 그들을 용해시킬 수 있는 적당한 불활성 용매내에 용해시켜 반응계에 첨가해도 된다. 예를들어, 황산 또는 염산과 같은 가용성산을 사용할 경우에는 니트릴에 용해 희석하여 사용할 수 있다. 산성 촉매의 사용량은 그 종류나 반응조건에 따라 좌우되나 총 반응혼합물의 0.005∼10wt%, 바람직하게는 0.01∼lwt%이다.
본 발명의 방법에서, 반응은 일반적으로 용매의 존재하에서 수행한다. 용매의 구체적인 예를들면 벤젠, 토루엔, 크시렌, 에틸벤젠, 이소프로필벤젠, 디이소프로필벤젠, 트리이소프로필벤젠 및 클로로벤젠과 같은 방향족 탄화수소, 디클로로메탄, 클로로포름, 카본테트라클로라이드, 디클로로에탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난 및 사이클로헥산과 같은 지방족 탄화수소, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 및 부탄올과 같은 알콜류, 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르 및 디옥산과 같은 에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤(MEK), 디에틸케톤, 메틸이소부틸게톤(MIBK) 및 아세토페논과 같은 케톤류, 그리고 초산 및 의산과 같은 카복실산등이 있다. 이를 용매들 중, 벤젠, 토루엔, 크시렌, 아세톤 및 MIBK가 좋다. 이 용매들은 일반적으로 반응계의 10∼95% 범위의 양으로 사용된다.
본 발명의 방법에서 과산화수소(H2O2)의 사용양은 출발물질내의 α,α-디알킬-α-하이드록시메틸기(카바놀기라 함)의 몰수, 즉 H2O2/카비놀기의 몰비로 나타내어 통상 0.7∼2.0, 바람직하게는 1.0∼1.5이다.
만일, 카비놀기대 H2O2의 몰비를 0.7 이하로 할 경우, 미반응된 카비놀의 축합에 의한 부산물이 생기며, 만일 카비놀기대 H2O2의 몰비를 2.0 이상으로 할 경우, 반응생성물인 하이드록시벤젠이 이차 반응하여 목적생성물의 수율이 저하된다. 그러므로, 카비놀기대 H2O2의 몰비는 0.7∼2.0의 범위내로 제어한다.
본 발명에서 사용되는 과산화수소원으로는 액상 과산화수소, 과산화수소의 수성용액뿐만아니라 사용되는 반응조건하에서 과산화수소를 발생시키는 과산화나트륨 및 과산화칼슘과 같은 물질들을 사용할 수 있다. 반응온도는 사용한 용매의 환류온도에 따라 그리고 반응계(통상적으로 대기압(atomspheric)이나 필요에 따라 가압(superatmospheric)일 수 있음)내의 압력에 따라 다르나, 일반적으로 0∼100℃의 범위, 바람직하게는 20∼80℃의 범위이며, 반응시간은 통상적으로 약 5분∼약 5시간의 범위이다. 반응은 배취식 또는 연속식으로 수행할 수 있다.
반응완료후, 본 발명의 방법에 사용된 촉매(산)를 필요하면 중화하고 또한 부산물 케톤이나 또는 사용된 용매를 회수후 원하는 하이드록시벤젠을 추출 또는 증류에 의해 분리시킬 수 있으며, 또한 어떤 경우에는 재결정화와 같은 정제단계를 더하여 정제할 수도 있다.
하이드록시벤젠의 구체적인 예를들면 페놀, 크레솔, 크시레놀, 에틸페놀, 레조르시놀, m-이노프로필페놀, 하이드로퀴논, P-이소프로필페놀, 1,3,5-트리하이드록시벤젠(프로로글루시놀), 이소프로필디하이드록시벤젠, 디이소프로필모노하이드록시벤젠, 3,5-디하이드록시토루엔 및 3-이소프로필-5-하이드록시토루엔 등이 있다.
본 발명의 방법에 의하면, 하이드록시벤젠을 카비놀(a) 및/또는 카비놀하이드로퍼옥사이드(b)로부터 1단계반응을 통해 선택적으로 고수율로 얻을 수 있다.
다음의 실시예들은 본 발명을 설명한 목적으로 제시된것이나 본 발명이 이에만 국한되는 것은 아니다. 이 실시예들에서는 여러가기 중요한 화합물들을 다음 약어들을 사용, 기재하였다.
m-DIPB : m-디이스프로필벤젠
MIBK : 메틸이소부틸케톤
m-DC : m-bis(α,α-디메틸-α-하이 도록시메틸) 벤젠
m-DHP : m-bis(α,α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)벤젠
m-HHP : m-bis(α,α-디메틸-α-하이드록시메틸)-(α,α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸) 벤젠
m-MHP : m-이소프로필-(α, α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)-벤젠
[실시예 1]
m-DIPB 1,000중량부와 3wt%의 수산화나트륨 수용액 100중량부로 구성된 혼합물을 교반하에 공기를 불어넣으면서 22시간동안 100℃에서 산화시켰다. 산화반응 하는동안 5Wt%의 수산화나트륨의 수용액 1,000 중량부를 단속적으로 공급하여 반응계내의 PH를 8∼10으로 유지시켰다. 산화완료후, 2,500중량부의 토루엔을 반응계에 첨가한다음 분리된 알카리수층을 제거했다. 얻은 오일층을 물로 세척한다음 감압하에서 탈수 건조시켜 표 1에 나타낸 성분을 갖는 m-DIPB의 산화 생성물을 얻었다. 이 생성물에서 m-DC의 함량은 0.5wt% 이하이었다.
[표 1]
Figure kpo00001
교반기, 환류응축기, 점적환넬 및 온도계를 갖는 플라스크에 0.13g의 포스포텅스텐산과 24.9g의 아세토니트릴을 충진시킨다음, 60℃ 수조상에서 가열하였다. 가열한 충전물에 m-DIPB 산화생성물의 토루엔용액(15.3g)60%의 과산화수소수(0.4g) 및 아세토니트릴(9.3g)의 혼합물을 10분동안 방울방울 첨가하고, 5분동안 반응을 계속했다. 실시예 1에서 반응용 출발물질로서 사용한 산화생성물의 혼합물내의 카비놀기의 몰당 H2O2의 몰수(즉, H2O2/카비놀기)는 1.2이었다.
반응후 가스크로마토그라피로 분석한 레조르시놀(RS) 수율(RS/m-DHP+m-HHP몰%)은 82몰%이었다.
[실시예 2]
플라스크에 충전한 용매를 아세토니트릴과 토루엔을 동량으로 하는 24.9g의 혼합물로 대치한 이외에는 반응을 실시예 1에서와 같이 64∼73℃에서 수행했다. 레조르시놀 수율은 72몰%이었다.
[실시예 3]
플라스크를 50mg의 황산을 함유하는 75g의 아세토니트릴로 충전시키고 또한 반응온도를 80∼81℃의 환류온도로 변경한것이외에는 실시예 1의 절차를 반복했다. 반응은 토루엔, 60%의 H2O2수 및 아세토니트릴 내의 m-DIPB의 산화생성물의 혼합물의 점적 첨가후 단일분동안만 계속하였다. 레조르시놀 수율은 80몰% 이었다.
[실시예 4]
실시예 1에서 사용된 것과 동일한 형의 장치에 0.5g의 m-디(2-하이드록시-2-프로필)벤젠(m-DC) 및 60%의 과산화수소수 0.41g을 함유하는 아세토니트릴용액 40g으로 충전시킨 다음, 61℃의 온수조상에서 가열하였다. 가열된 충전물에 50mg의 황산을 함유하는 10g의 아세토니트릴을 일시에 첨가했다. 레조르시놀수율은 10분후에 60몰% 이고 1시간후에 66몰%이었다.
[실시예 5∼8]
아세토니트릴 대신 다른 용매와 아세토니트릴 혼합물을 사용하여 실시예 4의 절차를 반복했다. 실시예 5∼8 각각에서 1시간후에 얻은 레조르시놀 수율은 아래표 2에서와 같다.
[표 2]
Figure kpo00002
[비교실시예 1∼7]
아세토니트릴 대신 표 3에 기재한 용매를 사용하여 실시예 4의 절차들을 반복했다.
[표 3]
Figure kpo00003
[실시예 9]
아세토니트릴을 벤조니트릴로 바꾼것 이외는 실시예 4의 절차를 반복했다. 1시간후의 레조르시놀 수율 몰% 이었다.
[실시예 10]
실시예 1에 사용된 것과 동일한 형의 장치에 6.1g의 1,3,5-tris(α,α-디메틸-α-하이드록시메틸)벤젠 60%의 과산화수소수 4.01g을 함유하는 30g의 토루엔 및 102.2g의 아세토니트릴을 충전시킨다음 85℃의 온수조상에서 가열하였다. 가열된 충전물에 0.15g의 황산을 함유하는 아세토니트릴 용액 7.9g을 일시에 첨가했다. 1시간후에 얻은 프로로글루시놀의 수율은 56몰%이었다.
[실시예 11]
순도 95%의 1,3,5-트리이소프로필벤젠(TIPB) 100중량부와 4.5wt%의 수산화나트륨수용액 10중량부로 구성된 혼합물을 교반하면서 공기를 불어넣어주면서 30시간동안 100℃에서 산화시켰다. 산화시키는 동안 4.5wt%의 수산화나트륨의 수용액을 단속적으로 공급하여 반응시스템내의 수성층의 PH를 8∼10으로 유지시켰다. 산화완료후, 메틸이소부틸케톤 500중량부를 첨가한다음 수성층을 분리시켰다.
나머지 오일층을 공비증류에 의해 탈수건조시킴과 더불어 메틸이소부틸케톤의 일부를 증류제거했다. 생성물은 다음 성분을 갖고있었다.
1, 3, 5-tris(α,α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)
벤젠(TRHP) 4.0wt%
1-(α,α-디메틸-α-하이드록시)-3,5-bis(α,α-
디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)벤젠(HDHP) 6.8wt%
1, 3-bis(α,α-디메틸-α-하이드록시메틸)-5-
(α,α-디메틸-α-하이드로퍼옥시메틸)-벤제(DHHP) 2.5wt%
1,3,5-tris(α,α-디메틸-α-하이드록시-메틸)
벤젠 (TC) 0.3wt%
MIBK 82.0wt%
실시예 1에서 사용한 것과 동일한 형의 장치에 0.06g의 황산과 20.0g의 아세토니트릴을 충전시킨 다음 85℃의 온수조상에서 가열하였다. 가열된 충전물에 1,3,5-TIPB 산화물의 MIBK 용액 20.0g, 60%의 H2O2수 0.60g 및 아세토니트릴 20.0g의 혼합물을 10분동안 점적 첨가한 다음 30분동안 반응을 계속했다. 프로로글루시놀 수율 (l00 × 프로로글루시놀 / (TRHP+HDHP+DHHP+TC)는 65몰%이었다.

Claims (2)

  1. α,α-디알킬-α-하이드록시메틸기를 가진 벤젠(a) 또는 α,α-디알킬-α-하이드록시메틸기와 α, α-디알킬-α-하이드로퍼옥시메틸기를 가진 벤젠(b)와 α,α-디알킬-α-하이드로퍼옥시메틸기를 가진 벤젠(c)의 혼합물 또는 상기(a)와 상기 (b)와 상기(c)의 혼합물을 아세토니트릴 또는 벤조니트릴, 산 및 과산화수소 존재하에 반응시키는 하이드록시벤젠의 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 아세토니트릴 또는 벤조니트릴의 사용량이 상기(a) 화합물 또는 상기(b) 화합물과 상기(c) 화합물의 혼합물 또는 상기(a) 화합물과 상기(b) 화합물과 상기(c) 화합물의 혼합물의 총량 1중량부당 0.5~100중량부인 하이드록시벤젠의 제조방법.
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