KR900013344A - 감광성 수지 조성물 - Google Patents
감광성 수지 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR900013344A KR900013344A KR1019890002009A KR890002009A KR900013344A KR 900013344 A KR900013344 A KR 900013344A KR 1019890002009 A KR1019890002009 A KR 1019890002009A KR 890002009 A KR890002009 A KR 890002009A KR 900013344 A KR900013344 A KR 900013344A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- weight
- resin composition
- respect
- unsaturated compound
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (2)
- 지지 필름층, 광중합성 수지층 및 보호필름층으로 구성되는 감광성 수지 적층판에 있어서, 광중합성 수지층으로서 다음 조성을 갖는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물, (A)분자량 500이하인 말단 에틸렌성 불포화 화합물, (B)중분자 우레탄 아크릴레이트, (C)고분자 결합체, (D)광중합 개시제.
- 제1항에 있어서, 중분자 우레탄 아크릴레이트는 폴리에스터 타이프 또는 폴리에테르 타이프의 폴리올과 디이소시아네이트 및 하이드록시 알킬아크릴 레이트의 부가 중합에 의해서 얻어지는 것으로서 고분자 결합제에 대하여 10 내지 30중량부이며 말단 에틸렌성 불포화 화합물에 대하여는 20내지 50중량부 포함되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019890002009A KR910005883B1 (ko) | 1989-02-21 | 1989-02-21 | 감광성 수지 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019890002009A KR910005883B1 (ko) | 1989-02-21 | 1989-02-21 | 감광성 수지 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR900013344A true KR900013344A (ko) | 1990-09-05 |
KR910005883B1 KR910005883B1 (ko) | 1991-08-06 |
Family
ID=19283962
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019890002009A KR910005883B1 (ko) | 1989-02-21 | 1989-02-21 | 감광성 수지 조성물 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR910005883B1 (ko) |
-
1989
- 1989-02-21 KR KR1019890002009A patent/KR910005883B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR910005883B1 (ko) | 1991-08-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR950024018A (ko) | 연합된 증점제를 갖는 수-부유성 감광성 내식막 | |
NO950650D0 (no) | Fremgangsmåte for å dekorere et underlag og bestrålingsherdbart materiale for anvendelse ved denne | |
EP0829766A3 (en) | Novel polymers and photoresist compositions | |
ES2100513T3 (es) | Composiciones fotosensibles. | |
KR860001143A (ko) | 광경화 수지조성물 | |
KR860001167A (ko) | 무용제 폴리이미드-변태 에폭시 조성물 | |
KR840002116A (ko) | 감광성 수지조성물 및 감광성 수지조성물 적층체 | |
KR920019863A (ko) | 광 경화성 수지 조성물 | |
KR920018520A (ko) | 옵셋 인쇄용 감광성 조성물 | |
DE3473357D1 (de) | Photopolymerizable laminate | |
KR870005044A (ko) | 포트라이프가 긴 2성분 경화 조성물 | |
EP0795765A3 (en) | Photopolymerizable composition and transparent cured product thereof | |
KR950009363A (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
KR900013344A (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
KR920006392A (ko) | 에폭시 수지, 에폭시 수지 조성물 및 그의 경화제품 | |
EP0311288A3 (en) | Improvements in or relating to resin compositions curable with ultraviolet light | |
KR950003381A (ko) | 용매계 | |
KR930013027A (ko) | 광경화형 도막 조성물 및 이를 이용한 바닥재 | |
KR910008492A (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
MX172136B (es) | Composicion de revestimiento de componentes multiples que comprende un polimero que contiene anhidrido, un componente de glicidilo y un polimero con grupos hidroxilo multiples | |
KR920010356A (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
KR960001896A (ko) | 광경화 조성물 | |
KR880006570A (ko) | 폴리비닐 아세탈 경합제를 함유하는 감광성 조성물 및 이 조성물로 이루어진 사진부재 | |
JPS5579438A (en) | Photosensitive polyamide resin composition | |
KR920012370A (ko) | 플렉시블 인쇄 배선판용 접착제 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 19970701 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |