KR900006100B1 - 제초용 설폰아미드 및 이의 제조방법 - Google Patents

제초용 설폰아미드 및 이의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR900006100B1
KR900006100B1 KR1019860004323A KR860004323A KR900006100B1 KR 900006100 B1 KR900006100 B1 KR 900006100B1 KR 1019860004323 A KR1019860004323 A KR 1019860004323A KR 860004323 A KR860004323 A KR 860004323A KR 900006100 B1 KR900006100 B1 KR 900006100B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
alkyl
och
methyl
tetrazol
Prior art date
Application number
KR1019860004323A
Other languages
English (en)
Other versions
KR860008992A (ko
Inventor
레비트 조오지
Original Assignee
이. 아이. 뒤퐁 드 네모어스 앤드 컴퍼니
프랭크 알. 오르토라니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이. 아이. 뒤퐁 드 네모어스 앤드 컴퍼니, 프랭크 알. 오르토라니 filed Critical 이. 아이. 뒤퐁 드 네모어스 앤드 컴퍼니
Publication of KR860008992A publication Critical patent/KR860008992A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR900006100B1 publication Critical patent/KR900006100B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D257/00—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D257/02—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D257/04—Five-membered rings
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N47/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid
    • A01N47/08—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid the carbon atom having one or more single bonds to nitrogen atoms
    • A01N47/28—Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N<
    • A01N47/36—Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N< containing the group >N—CO—N< directly attached to at least one heterocyclic ring; Thio analogues thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
    • C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
    • C07D403/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D521/00—Heterocyclic compounds containing unspecified hetero rings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Dentistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Plant Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Agronomy & Crop Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pest Control & Pesticides (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Environmental Sciences (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Medicines Containing Plant Substances (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

제초용 설폰아마이드 및 이의 제조방법
본 발명은 성장조절제 및 제초제와 같이 농업용 화학품으로 유용한 테트라졸-치한된 벤젠설폰아마이드에 관한 것이다.
유럽 특허원(EP-A) 제83,975호(1983년 7월 20일 공고)는 하기 일반식의 제초용 벤젠설폰아마이드를 기술하고 있다.
Figure kpo00000
상기 식에서, Q는 O, S 또는 NR로부터 선택된 2 또는 3개의 헤테로원자를 함유하는 여러가지 5 또는 6-원 방향족 또는 부분적으로 불포화된 헤테로사이클릭 환으로부터 선택한다.
유럽 특허원(EP-A) 제85,476호(1983년 8월 10일 공고)는 하기 일반식들의 제초용 벤젠설폰아마이드를 기술하고 있다.
Figure kpo00001
및
Figure kpo00002
상기 식에서, Q는 O, S 또는 NR로부터 선택된 하나의 헤테로원자를 함유하는 여러가지 5-원 방향족 헤테로사이클, 및 그들의 디하이드로와 테트라하이드로 유사체로부터 선택하거나, 또는 Q는 O 또는 S로부터 선택된 하나의 헤테로원자를 함유하는 포화된 또는 부분적으로 불포화된 6-원 환이고 : Q1은 1 내지 3개의 N원자를 함유하는 6-원 방향족 헤테로사이클이다.
남아프리카공화국 특허원 제83/8416호(1984년 5월 12일 공고)는 하기 일반식의 제초용 벤젠설폰아마이드를 기술하고 있다.
Figure kpo00003
상기 식에서, A는 탄소원자를 통해 결합되고 1, 2 또는 3개의 헤테로원자를 함유하는, 불포화된 또는 단지 부분적으로 포화된 5- 또는 6- 원 헤테로사이클릭 환 시스템이다.
유럽 특허원 제116,518호(스위스연방 우선권 2/4/83, 공고 8/22/84)는 하기 일반식의 제초용 설폰아마이드를 기술하고 있다.
Figure kpo00004
상기 식에서, X는 NR6R7, N(SO2R9)2또는
Figure kpo00005
이고 ; A는 CO, SO2, CONR23또는 CO2이며 ; B는 C1-C4알킬 또는 C2-C4알케닐이고 ; C는 CO, CR21R22또는 SO2이다.
미합중국 특허 제4,475,944호는 하기 일반식과 같은 오르토-헤테로사이클릭 환을 갖는 제초용 설파메이트를 기술하고 있다.
Figure kpo00006
상기 식에서, W는 O, S 또는 NR1이다.
바람직하지 못한 식물의 존재는 유용한 작물 특히 인간의 기본적 식량요구를 만족시키는 옥수수, 대두, 밀등과 같은 농산품에 커다란 손실을 입힌다. 최근의 인구증가와 병발적인 세계 식량부족은 이들 작물의 생산성의 증진을 필요로 한다. 바람직하지 못한 식물의 사멸 또는 성장을 억제함으로써 가치있는 작물의 손실을 예방 또는 최소화하는 것이 이 효율을 증진시키는 한가지 방법이다.
바람직하지 못한 식물의 사멸, 또는 성장을 억제(통제)하는데 유용한 광범위한 종류의 물질을 사용할 수 있다. 그와 같은 물질이 통상 제초제에 해당한다. 그러나 아직 유용한 작물에 커다른 손상을 입히지 않고 잡초를 사멸 또는 저지하는 더욱 효과적인 제초제가 필요하다.
본 발명은 일반식(I)의 신규한 화합물, 그를 함유하는 농업적으로 적당한 조성물, 및 발아전 또는 발아후 제초제 또는 식물 성장조절제로서의 그들의 사용법 및 그들의 농업적으로 적당한 염에 관한 것이다.
Figure kpo00007
상기 식에서,
J는
Figure kpo00008
,
Figure kpo00010
,
Figure kpo00011
Figure kpo00012
또는
Figure kpo00013
이고
W는 O 또는 S이며 ; G는 O, S, SO2이고 ; m은 0 또는 1이며 ; n은 0, 1 또는 2이고 ; R은 H 또는 CH3이며 ; E는 단일 결합, CH2또는 O이고 ; Q는
Figure kpo00014
,
Figure kpo00015
,
Figure kpo00016
,
Figure kpo00017
Figure kpo00018
,
Figure kpo00019
또는
Figure kpo00020
이며;
R1은 H, C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, 할로겐, 니트로, C1-C3알콕시, SO2NRaRb, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, CN, CO2Rc, C1-C3할로알콕시, C1-C3할로-알킬티오, 아미노, C1-C3알킬아미노, 디(C1-C3알킬)아미노 또는 C1-C2알콕시, C1-C2할로알콕시, C1-C2알킬티오, C1-C2할로알킬티오 또는 CN으로 치환된 C1-C2알킬이고 ; R2는 H, C1-C3알킬, 알릴 또는 페닐이며 ; R3는 H, C1-C6알킬, C3-C6사이클로알킬, C1-C6할로알킬, CH2-(C2-C6알케닐)-, CH2(C2-C6할로알케닐), CH2(C2-C5알키닐), CH2(C2-C5할로알키닐), C6H5또는 C1-C2알콕시, C1-C2알킬티오, C1-C2알킬설피닐 또는 C1-C2-알킬설포닐로 치환된 C1-C4알킬이고 ; R4는 H, 할로겐, C1-C6알킬, C3-C6-사이클로알킬, C1-C6할로알킬, C2-C6알케닐, C2-C6-할로알케닐, C2-C6알키닐, C3-C6할로알키닐, C6H5, C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬설피닐, C1-C4알킬설포닐, OCH2CH2O-(C1-C2알킬) 또는 디(C1-C3알킬)아미노이며 ; R5는 H, C1-C3알킬 또는 알릴이고 ; Ra는 H, C1-C4알킬, C2-C3시아노알킬, 메톡시 또는 에톡시이며 ; Rb는 H, C1-C4알킬 또는 C3-C4알케닐이고 ; 또는 Ra및 Rb가 함께는 -(CH2)3-, -(CH2)4-, -(CH2)5- 또는 -CH2CH2OCH2CH2-일 수 있으며 ; Rc는 C1-C4알킬, C3-C4알케닐, C3-C4알키닐, C2-C4할로알킬, C1-C2시아노알킬, C5-C6사이클로알킬, C4-C7사이클로알킬알킬 또는 C2-C4알콕시알킬이고 ; A는
Figure kpo00021
,
Figure kpo00022
,
Figure kpo00023
,
Figure kpo00024
,
Figure kpo00025
,
Figure kpo00026
또는
Figure kpo00027
이며;
X는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4할로알킬, C1-C4할로알킬티오, C1-C4알킬티오, 할로겐, C2-C5알콕시알킬, C2-C5알콕시알콕시, 아미노, C1-C3알킬아미노, 디(C1-C3알킬)아미노 또는 C3-C5사이클로알킬이고 ; Y는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4할로알킬티오, C1-C4알킬티오, C2-C5알콕시알킬, C2-C5알콕시알콕시, 아미노, C1-C3알킬아미노, 디(C1-C3알킬)아미노, C3-C4알케닐옥시, C3-C4알키닐옥시, C2-C5알킬티오알킬, C2-C5알킬설피닐알킬, C2-C5알킬설포닐알킬, C1-C4할로알킬, C2-C4알키닐, 아지도, 시아노,
Figure kpo00028
Figure kpo00029
또는 -N(OCH3)CH3이며 ; P는 2 또는 3이고 ; L1및 L2는 독립적으로 O 또는 S이며 ; R6는 H 또는 CH3이고 ; R7및 R8은 독립적으로 C1-C3알킬이며 ; Z는 CH, N, CCH3, CC2H5, CCI 또는 CBr이고 ; Y1은 O 또는 CH2이며 ; X1은 CH3, OCH3, OC2H5또는 OCF2H이고 ; X2는 CH3, C2H5또는 CH2CF3이며 ; Y2는 OCH3, OC2H5, SCH3, SC2H5, CH3또는 CH2CH3이고 ; X3는 CH3또는 OCH3이며 ; Y3는 H 또는 CH3이고 ; X4는 CH3, OCH3, OC2H5, CH2OCH3또는 Cl이며 ; Y4는 CH3, OCH3, OC2H5또는 Cl이고 ; Z1은 CH 또는 N이며 ; 단, a) X가 Cl, F, Br 또는 I인 경우, Z는 CH이고 Y는 OCH3, OC2H5, N(OCH3)CH3, NHCH3, N(CH3)2또는 OCF2H이며 ; b) X 또는 Y가 C1할로알콕시인 경우, Z는 CH이고 ; c) J가 J-2, J-3 또는 J-4인 경우, 치환체 Gm(CH2)nQ 또는 (CH2)nQ 및 설포닐우레아 결합은 인접한 환 위치에 있으며 ; d) J가 J-4이고 n이 0인 경우, Q는 Q-1 또는 Q-2이고 ; e) E가 O인 경우, J는 J-1이며 ; f) W가 S인 경우, A는 A-1이고, R은 H이며, Y는 CH3, OCH3, OC2H5, CH2OCH3, C2H5, CF3, SCH3, OCH2CH=CH2, OCH2C≡CH, OCH2CH2OCH3, CH(OCH3)2또는
Figure kpo00030
이고 ; g) X 및 Y에서 탄소원자의 총수가 4보다 큰 경우, R1, R3, R4및 R5의 탄소 함량은 각각 2보다 작거나 2와 같으며 ; h) X4및 Y4는 동시에 Cl일 수 없고 ; i) J가 J-1이고 m이 0인 경우, n은 0이며 ; j) n이 0이고 m이 1인 경우, Q는 Q-1 또는 Q-2이다.
상기 정의에서, "알킬티오" 또는 "할로알킬"과 같은 화합물 단어에서 또는 단독으로 사용된 용어 "알킬"은 직쇄 또는 분쇄 알킬, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필 또는 상이한 부틸, 펜틸 또는 헥실 이성체를 나타낸다.
알콕시는 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시 및 상이한 부틸 이성체를 나타낸다.
알케닐은 직쇄 또는 분쇄 알켄, 예를 들면 비닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐, 3-프로페닐 및 상이한 부테닐, 펜테닐 또는 헥세닐 이성체를 나타낸다.
알키닐은 직쇄 또는 분쇄알킨, 예를 들면 에티닐, 1-프로피닐, 2-프로피닐 및 상이한 부티닐, 펜티닐 및 헥시닐 이성체를 나타낸다.
알킬설포닐은 메틸설포닐, 아틸설포닐 또는 상이한 프로필설포닐 이성체를 나타낸다.
알킬티오, 알킬설피닐, 알킬아미노 등은 유사한 방식으로 정의된다.
사이클로알킬은 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸 및 사이클로헥실을 나타낸다.
"할로알킬"과 같이 화합물 단어에서 또는 단독으로 사용된 용어 "할로겐"은 불소, 염소, 브롬 또는 요오드를 나타낸다.
C2-C3알킬티오알킬과 같은 용어에서, 탄소원자에 명기된 수는 그 치환 그룹에서의 총 탄소원자수를 의미한다. 예를 들면 C2-C3알킬티오알킬은 CH2SCH3, CH2SC2H5, CH2CH2SCH3또는 CH(CH3)SCH3를 나타내고, C2-C5알콕시알콕시는 OCH2OCH3내지 O(CH2)4OCH3또는 OCH2O(CH2)3CH3및 거기에 포함된 여러가지 구조적 이성체를 나타낸다.
증가된 합성의 용이함 및/ 또는 커다란 제초 효율면에서 바람직한 것들은 다음과 같다. 1) E가 단인 결합인 일반식(I)의 화합물, 2) E가 CH2인 일반식(I)의 화합물, 3) E가 0인 일반식(I)의 화합물, 4)m이 0이고 ; W가 0이며 ; R이 H인 바람직한 1의 화합물, 5) X가 C1-C2알킬, C1-C2알콕시, Cl, F, Br, I, OCF2H, CH2F, CF3, OCH2CH2F, OCH2CHF2, OCH2F3, CH2Cl 또는 CH2Br이고 ; Y가 H, C1-C2알킬, C1-C2알콕시, CH2OCH3, CH2OCH2CH3, NHCH3, N(OCH3)CH3, N(CH3)2, CF3, SCH3, OCH2CH=CH2, OCH2C≡CH, OCH2CH2OCH3, CH2CH2SCH3,
Figure kpo00031
Figure kpo00032
,
Figure kpo00033
,
Figure kpo00034
,
OCF2H, SCF2H, 사이클로프로필, C≡CH 또는 C≡CCH3인 바람직한 4의 화합물, 6) R1이 H, CH3, F, Cl, Br, OCH3, SCH3, CH2CN, CH2OCH3, CF3또는 OCF2H이고 ; n이 0인 바람직한 5의 화합물, 7) R3가 H, C1-C3알킬, CH2CH2Cl, CH2CH2F, CH2CHF2, CH2CF3, 알릴, 또는 프로파르길이고 ; R4가 H, C1-C3알킬, C1-C2알콕시, C1-C2알킬티오, N(CH3)2, 알릴, 프로파르길 또는 1개 내지 3개의 F, Cl 또는 Br원자로 치환된 C1-C2알킬인 바람직한 6의 화합물, 8) A가 A-1이고 ; Z가 CH 또는 N이며 ; X가 CH3, OCH3, OCH2CH3, 사이클로프로필, Cl 또는 OCF2H이고 ; Y가 CH3, OCH3, C2H5, CH2OCH3, NHCH3또는 CH(OCH3)2인 바람직한 7의 화합물, 9) J가 J-1인 바람직한 8의 화합물, 10) R3및 R4가 독립적으로 H, CH3또는 C2H5인 바람직한 9의 화합물, 11) J가 J-2이고 ; R1이 H인 바람직한 8의 화합물, 12) J가 J-3이고 ; R1이 H인 바람직한 8의 화합물, 13) J가 J-4이고 ; R1이 H인 바람직한 8의 화합물, 14) J가 J-5이고 ; R1이 H인 바람직한 8의 화합물, 15) J가 J-6이고 ; R1이 H인 바람직한 8의 화합물, 16) Q가 Q-1이고 R1이 5- 또는 6- 위치에 있는 바람직한 9의 화합물, 17) Q가 Q-2이고 R1이 5- 또는 6-위치에 있는 바람직한 9의 화합물, 18) Q가 Q-3이고 R1이 5- 또는 6- 위치에 있는 바람직한 9의 화합물, 19) Q가 Q-4이고 R1이 5- 또는 6- 위치에 있는 바람직한 9의 화합물, 20) Q가 Q-5이고, R1이 5- 또는 6- 위치에 있는 바람직한 9의 화합물, 21) Q가 Q-6이고, R1이 5- 또는 6- 위치에 있는 바람직한 9의 화합물, 22) Q가 Q-7이고, R1이 5- 또는 6- 위치에 있는 바람직한 9의 화합물, 23) m이 0이고 ; n이 0이며 ; J가 J-1이고 ; W가 0이며 ; R이 H이고 ; R1이 H이며 ; R3가 H 또는 C1-C3알킬이고 ; R4가 H 또는 C1-C3알킬이며 ; A가 A-1이고 ; Z가 CH 또는 N이며 ; X가 CH3, OCH3, OCH2CH3, 사이클로프로필, Cl 또는 OCF2H이고 ; Y 가 CH3, OCH3, C2H5, CH2OCH3, NHCH3또는 CH(OCH3)2인 바람직한 2의 화합물, 24) m이 0이고 ; R이 H이며 ; R1이 H이고 ; R3가 H 또는 C1-C3알킬이며 ; R4가 H 또는 C1-C3알킬이고 ; A가 A-1이며 ; Z가 CH 또는 N이고 ; X가 CH3, OCH3, OCH2CH3, 사이클로프로필, Cl 또는 OCF2H이며 ; Y가 CH3, OCH3, C2H5, CH2OCH3, NHCH3또는 CH(OCH3)2인 바람직한 3의 화합물.
합성의 아주 용이함 및/또는 아주 큰 제초 효율면에서 바람직한 것들은 다음과 같다 : N-[(4-클로로-6-메톡시피리미딘-2-일) 아미노카보닐] -2-(1-에틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 223-225℃ ; N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-에틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 214-217℃ ; N-[(4, 6-데메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-메틸-6-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 178-180℃ ; N-[(4-메톡시-6-메틸피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-메틸-6-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 180-183℃ ; N-[(4, 6-디메틸피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-메틸-6-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 213-215℃ ; N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(5-메틸-1H-테트라졸-1-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 213-216℃ ; N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)-아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 214-222℃ ; N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 207-210℃ ; N-[(4, 6-디메틸피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 224-226℃ ; N-[(4-메톡시-6-메틸피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 222-224℃ ; 및 N-[(4-클로로-6-메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드, 융점 : 225-227℃ .
일반식(I)의 화합물은 하기 반응식 1 및 2의 방법중 하나 또는 둘다에 의해서 제조할 수 있다.
등식 1은 일반식(II)의 설포닐 이소시아네이트 및 이소시아네이트와 일반식(III)의 적당한 헤테로사이클릭아민과 반응시켜 목적하는 일반식(I)의 설포닐우레아 및 설포닐티오우레아를 수득하고 있다.
[등식 1]
Figure kpo00035
상기식에서, J, W, R 및 A는 상기 정의한 바와 같다.
등식 1의 반응은 메틸렌 클로라이드, 테트라하이드로푸란 또는 아세토니트릴과 같은 불활성 비양성자성 용매에서 0° 내지 82℃의 온도로 수행한다. 1, 4-디아자비사이클로[2, 2, 2]옥탄(DABCO
Figure kpo00036
)의 촉매적 양을 사용하여 반응을 가속시킬 수 있다. 생성물이 반응용매에 불용성인 경우, 간단한 여과로 분리할 수 있다. 생성물이 가용성인 경우, 용매를 증발시키고 1-클로로부탄, 디에틸 에테르 또는 에틸 아세테이트와 같은 용매로 잔사를 분쇄하며, 여과함으로써 분리할 수 있다.
일반식(I)의 화합물은 1, 8-디아자비사이클로[5, 4, 0]운데크--7엔(DBU)과 같은 3급 아민 염기의 등몰량 존재하에, 설폰아마이드(IV)를 일반식(V)의 적당한 카밤산 또는 티오카밤산의 페닐 에스테르와 반응시킴으로써 하기 등식 2와 같이 제조할 수 있다.
[등식 2]
Figure kpo00037
상기식에서 J, R, W 및 A는 상기 정의한 바와 같다.
등식 2의 반응은 유럽 특허원 제70,804호 (1983년 1월 26일 공고)에 기술된 바와 같이, 디옥산 또는 아세토니트릴과 같은 용매에서 25℃ 로 불활성 대기하에 1-2시간동안 수행하는 것이 좋다. 목적하는 일반식(I)의 생성물은 통상 반응용액을 수성 염산으로 산성화하여 분리할 수 있다. 또한 수성층을 메틸렌 클로라이드 또는 에틸 아세테이트와 같은 용매로 추출한다. 용매를 건조하고 증발시켜 목적하는 생성물을 수득한다.
일반식(V)의 페닐카바메이트 및 페닐티오 카바메이트는 남아프리카공화국 특허원 제82/5671호 및 남아프리카공화국 특허원 제82/5045호에 기술되고 당 분야 숙련가에서 공지된 방법, 또는 그의 변법으로 제조할 수 있다.
일반식(I) 화합물의 적당한 제조방법에 대한 현명한 선택은 J(J1-J6)내에 함유된 치환체, 즉 Q 및 R1의 특성 및 등식 1 및 2의 반응조건과의 화학적 부합성을 고려해야 한다.
일반식(II)의 설포닐 이소시아네이트는 n-부틸 이소시아네이트 및 1, 4-디아자비사이클로[2, 2, 2]옥탄(DABCO)의 촉매량 존재하에 일반식(IV)의 설폰아마이드를 포스겐과 반응시킴으로써 등식 3에서와 같이 제조할 수 있다.
[등식 3]
Figure kpo00038
상기식에서, J는 상기 정의한 바와 같으나, 단 E가 산소는 아니다. 등식 3에서 서술된 반응은 미합중국 특허 제4,238,621호에 기술된 방법에 따라 수행하는 것이 좋다.
또한 설포닐 이소시아네이트(II)는 등식 4에 표기한 바와 같이 미리 만든 일반식(IV) n-부틸우레아의 포스겐화를 통해 제조할 수 있다.
[등식 4]
Figure kpo00039
상기식에서, J는 상기 정의한 바와 같으나, 단 E가 산소는 아니다.
일반식(VI)의 화합물은 아세톤 또는 메틸 에틸 케톤과 같이 적절한 용매에서, 적당한 설폰아마이드(IV), 무수 탄산칼륨 및 n-부틸 이소시아네이트의 혼합물을 25℃ 내지 80℃ 로, 모든 이소시아네이트가 반응할 때까지 교반함으로써 용이하게 제조할 수 있다. 생성물을 희석 수성산에서 급냉시키고 불용성 고체를 재결정화하여 분리한다. 이어서 n-부틸우레아(VI)를 등식 3에서 인용한 문헌에 기술된 바와 유사한 방법으로 환류하는 크실렌 또는 클로로벤젠중의 DABCO 촉매량과 포스겐으로 처리한다. 또한 일반식(IV)의 설폰아마이드를 티오닐 클로라이드로 처리하여 중간물질 N-설피닐설폰아마이드(VII)를 산출하고, 피리딘 촉매량의 존재하에 포스겐에 노출함에 따라 설포닐 이소시아네이트(II) (여기에서, W는 O임)를 수득한다.
[등식 5]
Figure kpo00040
등식 5의 반응은 문헌[H. Ulrich, B Tucker and A. Sayigh, J. Org, Chem., 34,3200(1969)]의 방법에 따라 수행하는 것이 좋다.
설포닐 이소티오시아네이트(II)(여기에서, W는 S임)는 당 분야에 공지되어 있으며, 이황화탄소 및 수산화칼륨과 반응시키고 이어서 생성된 이나트륨염을 포스겐으로 처리함으로써, 상응하는 설폰아마이드(IV)로 부터 제조한다. 그와 같은 방법이 문헌[Arch. Pharm. 299, 174(1966)]에 기술되어 있다.
일반식(II) 화합물의 적당한 제조방법에 대한 현명한 선택은 J(J1-J6)내에 함유된 치환체, 즉 Q 및 R1의 특성 및 등식 3-5의 반응조건과 화학적 부합성을 고려해야 한다.
필요한 일반식(IV)의 설폰아마이드는 하기의 방법중 하나 또는 그 이상으로 합성할 수 있다.
등식 6은 일반식(VIII)의 설포닐 클로라이드를 암모니아와 반응시켜 일반식(IVa)의 설폰아마이드를 수득하고 있다.
[등식 6]
Figure kpo00041
상기식에서, J는 상기 정의한 바와 같으나, 단 E가 산소는 아니다.
등식 6의 아미노화는 무수 암모니아 또는 농축 수산화암모늄의 적어도 2몰 당량을 -30° 내지 25℃ 의 온도에서, 디에틸에테르, 메틸렌 클로라이드 또는 테트라하이드로푸란과 같은 용매중의 설포닐 클로라이드(VIII)용액에 가함으로써 수행한다. 일반식(IVa)의 설폰아마이드는 물의 세척으로 염화암모늄 부산물이 제거된 경우에는 여과로, 또는 메틸렌 클로라이드와 같은 유기 용매를 추출함으로써 분리한다. 용매를 건조 및 증발시켜 설폰아마이드(IVa)를 수득하는데, 이것은 통상 다음 단계에 직접 사용할 충분히 순수하다.
일반식(VIII)의 설포닐 클로라이드는 하기 등식 7, 8 및 9의 방법중 하나 또8그 이상으로 제조할 수 있다.
등식 7에서와 같이, 일반식(IX)의 적절하게 치환된 N-아릴하이드록시아민의 반응 및 염화 제2구리 또는 제1구리의 존재하에 이산화황으로의 후속적 대치는 목적하는 일반식(VIII)의 설포닐 클로라이드를 산출한다.
[등식 7]
Figure kpo00042
등식 7의 반응은 적당한 아릴하이드록실아민을 수성 농 염산 및 아세트산과 합하고, -10내지 10℃ 에서 아질산나트륨의 수용액을 가함으로써 수행할 수 있다. 10분 내지 2시간동안 교반시킨 후, 반응혼합물을 -5 내지 20℃ 에서 아세트산, 염화 제1구리 및 제2구리의 촉매량 및 과량의 이산화황의 혼합물에 가한다. 0.5 내지 24시간동안 교반시킨 후, 혼합물을 냉수로 희석하고, 생성물을 메틸렌 클로라이드 또는 에틸에테르와 같은 용매로 추출한다.
수득한 설포닐 클로라이드의 용액을 등식 6에서와 같이 처리하여 목적하는 설폰아마이드(IVa)를 제조할 수 있다.
등식 8에서와 같이, 일반식(X)의 적절하게 치환된 아민 유도체의 디아조화 및 염화 제2구리 또는 제1구리의 존재하에 후속적인 이산화황과의 반응은 목적하는 일반식(VIII)의 화합물을 산출한다.
[등식 8]
Figure kpo00043
등식 8의 반응은 유럽 특허원 제83,975호 및 제85,476호(1983년 8월 10일 공고)에 기술된 바와 유사한 방법으로 수행한다. 등식 8에서, 농염산중의 치환된 아민(X)를 -5° 내지 5℃ 에서 물중의 아질산나트륨 용액으로 처리한다. 약 0℃ 에서 10분 내지 1시간동안 교반한 후, 용액을 약 10℃ 에서 아세트산중의 염화 제2구리 또는 제1구리의 촉매량 및 과량의 이산화황 혼합물에 가한다. 10° 내지 25℃ 의 온도에서 0.25 내지 24시간동안 교반한 후, 용액을 과량의 빙수에 붓는다. 설포닐 클로라이드(VIII)는 여과, 또는 메틸렌 클로라이드 또는 에테르와 같은 용매로 추출하고, 이어서 용매를 건조 및 증발시킴으로써 분리할 수 있다.
설포닐 클로라이드 또는 적절하게 치환된 아릴 또는 헤테로사이클릭 물질(XI)의 금속 할로겐 교환 또는 직접적인 리티에이션(lithiation), 및 설푸릴 클로라이드의 유도에 의해 하기 등식 9과 같이 제조할 수 있다.
[등식 9]
Figure kpo00044
상기식에서, J는 상기 정의한 바와 같으나, 단 R이 CO2Rc, C1-C3할로알킬, Br, 니트로, C1-C3알킬설포닐 또는 CN은 아니다.
등식 10의 리티에이션은 문헌[S. H. Bhattacharya, et al., J. Chem. Soc. (C), 1265(1968)]의 방법 또는 문헌[H. Gschwind and H. Rodriquez in Organic Reactions, Vol. 26, Wiley, New York, 1979] 및 그안에 인용된 참조문헌의 방법에 따라 수행할 수 있다.
일반식(VIII)의 화합물은 등식 10에 표기된 바와 같이 일반식(XII)의 적당한 티오에테르 또는 머캅탄의 산화적 염소화를 통해 제조할 수 있다.
[등식 10]
Figure kpo00045
상기식에서, J는 상기 정의한 바와 같고 ; R15는 H, C2-C4알킬 또는 벤질이며 ; R1은 C1-C3알킬티오 또는 C1-C3알킬설피닐이 아니다.
등식 10의 반응은 적어도 물 2.5당량 및 적어도 염소 3.0당량의 존재하에 0-30℃ 에서, 0.25 내지 5시간동안 아세트산과 같은 용매중의 티오에테르(XII) 용액을 처리함으로써 수행할 수 있다. 반응물을 빙수에 붓고, 생성물을 메틸렌 클로라이드와 같이 적당한 용매로 추출하며, 용매를 증발시켜 산출한 생성물은 다음 단계에 직접 사용할 정도로 아주 순수하다.
일반식(VIIIb)의 아릴메탄설포닐 클로라이드는 일반식(XIII)의 적절하게 치환된 벤질 클로라이드 또는 브로마이드로부터 등식 11에 정리한 간단한 2-단계 방법으로 제조할 수 있다.
[도抵◎
Figure kpo00046
상기식에서, J'CH2는 E가 CH2인 J-1 내지 J-6에 대해 정의한 바와 같고 ; R1및 Q는 R1이 C1-C3알킬티오 또는 C1-C3알킬설포닐이 아닌 것을 제외하고는 상기 정의한 바와 같으며 ; M은 Cl 또는 Br이다.
일반식(XIII) 알킬 할라이드의 일반식(XIV) 이소티오우로늄염으로의 전환은 문헌[T. B. Johnson and J. M. Sprague J. Am. Chem. Soc., 58, 1348(1936) ; 59 1837 및 2439(1937) ; 61 176(1939)]의 방법에 의해 수행할 수 있다. (XIV)와 같은 이소티오우로늄의 일반식(VIIIb)설포닐 클로라이드로의 산화적 염소화는 문헌[Johnson, J. Am. Chem. Soc., 61 2548(1939)]의 방법에 따라 수행하는 것이 좋다.
전체적인 테트라졸 치환된 중간물질은 테트라졸이 치환된 J(J-1 내지 J-6) 시스템에서 방향족 환의 특성 및 J(J-1 내지 J-6)상에 존재하는 기타 치환제의 특성에 따라 여러가지 방법으로 제조할 수 있다. 이들 중간물질은 당 분야 숙련가에 의해 하기 테트라졸 화학에 관한 고찰에 따른 방법으로 제조할 수 있다 : F. R. Benson, "Heterocyclic Compounds"(R. C. Elderfield. Ed.) 8, 1-104, John Wiley and Sons, New York, (1967) ; R. N. Butler. "Advances in Heterocyclic Chem.", 21, 323-436, Academic Press(1977) ; R. N. Cutler, "Comprehensive Heterocyclic Chem.", (K. T. Potts. Ed.) 5,791-838, Pergamon Press(1984) 및 F. R. Benson, "High Nitrogen Compounds", John Wiley and Sons, New York(1983).
상기 등식 1에서 일반식(III)의 헤테로사이클릭아민은 당 분야 숙련가에 의해 문헌에 공지된 방법. 또는 그의 간단한 변법으로 제조할 수 있다. 예를 들면 유럽 특허원 제84,224호(1983년 7월 27일 공고) 및 문헌[W. Braker et al., J. Am. Chem. Soc., 69, 3072(1947)]은 다른 그룹중 디알콕시메틸 또는 1, 3-디옥솔란아세탈 그룹으로 치환된 트리아진 및 아미노피리딘의 제조방법을 기술하고 있다. 또한 예를 들면 남아프리카공화국 특허원 제82/5045호 및 82/5671호는 다른 그룹중 OCH2CH2F, OCH2CF3, SCF2H, 또는 OCF2H와 같은 할로알킬 또는 할로알킬티오 그룹에 의해 치환된 아미노피리미딘 및 트리아진의 제조방법을 기술하고 있다. 남아프리카공화국 특허원 제83/7434호(1983년 10월 5일 공고)는 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬아미노, 디알킬아미노 또는 알콕시알킬과 같은 그룹으로 치환된 사이클로프로필피리미딘 및 트리아진의 합성 방법을 기술하고 있다.
5, 6-디하이드로푸란 [2, 3-d] 피리미딘-2-아민, 사이클로펜타[d] 피리미딘-2-아민(III, A가 A-2이다) 및 6, 7-디하이드로-5H-피라노[2, 3-d]피리미딘-2-아민(III, A가 A-3이다)은 유럽 특허원 제15,683호에 기술된 바와 같이 제조할 수 있다. 푸로[2, 3-d]피리미딘-2-아민(III, A가 A-4이다)은 유럽 특허원 제46,677호에 기술되어 있다.
A가 A-5인 일반식(III)의 화합물은 유럽 특허원 제73,562호에 기술되어 있다. A가 A-6인 일반식(III)의 화합물은 유럽 특허원 제94,260호에 기술되어 있다. 더불어 아미노피리미딘 및 트리아진을 제조하는 일반적인 방법이 하기 출판물에 서술되어 있다 :
ｏ "헤테로사이클릭 화합물의 화학", 뉴욕 및 런던, Interscience Publishers, Inc.에 의해 출판되는 시리즈.
ｏ "피리미딘", D. J. Brown에 의한 동일 시리즈중 Vol. 16.
ｏ "S-트리아진 및 유도체", E. M. Smolin 및 L. Rappoport에 의한 동일 시리즈중 Vol. 13.
ｏ F. C. Schaefer, 미합중국 특허 제3,154,547호 및 트리아진의 합성을 기술하고 있는 K. R. Huffman과 F. C. Schaefer, J. Org. Chem., 28,1812(1963).
일반식(I) 화합물의 농업적으로 적당한 염은 또한 유용한 제초제이며 당 분야에 공지된 여러가지 방법으로 제조할 수 있다. 예를 들면 금속염은 일반식(I)의 화합물을 충분한 염기성 음이온(예 : 수산화물, 알콕 사이드 또는 탄산염)이 있는 알칼리 또는 알칼리성 토금속염의 용액과 접촉시켜 제조한다. 4급 아민염은 유사한 기술로 제조할 수 있다.
일반식(I) 화합물의 염도 하나의 양이온을 다른 것으로 교환함으로써 제조할 수 있다. 양이온 교환은 일반식(I) 화합물 염(예 : 알칼리 또는 4급 아민염)의 수용액을 교환시킬 양이온을 함유하는 용액과 직접 접촉시킴으로써 수행할 수 있다. 이 방법은 교환 양이온을 함유하는 목적하는 염이 물에 불용성이고 여과에 의해 분리할 수 있을 때 가장 효과적이다.
교환은 또한 일반식(I) 화합물 염(예 : 알칼리 금속 또는 4급 아민염)의 수용액을 본래 염의 것을 교환시킨 양이온을 함유하는 양이온 교환 수지로 채운 컬럼을 통해 통과시키고, 목적하는 생성물을 컬럼으로부터 용출시킴으로써 수행할 수 있다. 이 방법은 특히 목적하는 화합물이 수용성, 예를 들면 칼륨, 나트륨 또는 칼슘 염일 때 유용하다.
본 발명에 유용한 산 부가염은 일반식(I)의 화합물을 적합한 산, 예를 들면 p-톨루엔설폰산, 트리클로로아세트산 등과 반응시킴으로써 수득할 수 있다.
본 발명 화합물의 제조는 또한 하기 특수 실시예에 의해 설명되고 있다.
[실시예 1]
1-(2-클로로설포닐페닐)-5-메틸-1H-테트라졸
37% 염산 12ml 및 아세트산 5ml중의 1-(2-하이드록실아미노페닐)-5-메틸-1H-테트라졸 5g에 물 10ml중의 아질산나트륨 2.3g을 0-5℃ 에서 가한다. 생성된 용액을 -5° 내지 +5℃ 에서 1시간동안 교반하고, 이어서 아세트산 25ml, 염화 제2구리 0.5g 및 액화 이산화황 5ml의 혼합물에 5℃ 이하로 교반하면서 조금씩 가한다. 2시간 동안 교반한 후, 그동안 혼합물을 실온까지 가온되게 하며, 얼음과 물 150ml에 붓고, 메틸렌 클로라이드 150ml로 2회, 추출한다. 메틸렌 클로라이드 용액을 물 100ml로 3회, 포화된 수성 중탄산나트륨 100ml로 2회, 이어서 포화된 수성 염화나트륨 100ml 및 물 100ml로 1회 세척한다. 이어서 메틸렌 클로라이드 용액을 황산마그네슘으로 건조하고 여과하여 목적하는 설포닐클로라이드를 함유하는 용액을 수득한다. 이 용액은 다음의 후처리 없이 사용하여 실시예 2의 설폰아마이드를 제조할 수 있다.
[실시예 2]
1-(2-아미노설포닐페닐)-5-메틸-1H-테트라졸
28% 수산화암모늄 25ml를 실시예 1로부터 수득한 메틸렌 클로라이드 용액에 가하고, 혼합물을 2시간동안 교반하며 진공중에 농축하여 오일 및 고체 혼합물을 산출한다. 고체 생성물을 여과하여 분리하고 물로 세척하여 141-148℃ 에서 용해되는 목적하는 생성물 2.2g을 수득한다. 3260 및 3360cm-1는 목적하는 생성물의 SO2에 일치한다.
C8C9N5O2S의 원소분석 :
계산치 : C ; 40.15, H : 3.79, N ; 29.26, S ; 13.39
실측치 : C ; 40.43, H ; 3.84, N ; 29.61, S ; 13.04
[실시예 3]
5-(2-클로로설포닐페닐)-2-메틸-2H-테트라졸 및 5-(2-클로로설포닐페닐)-1-메틸-1H-테트라졸
37% 염산 12ml 및 아세트산 5ml중에 용해된 5-(2-하이드록시아미노페닐)-2-메틸-2H-테트라졸 및 5-(2-하이드록시아미노페닐)-1-메틸-1H-테트라졸의 혼합물 5g에 물 10ml중에 용해된 아질산나트륨 2.3g을 -5° 내지 5℃ 에서 교반하면서 가한다. 한 시간후, 이 용액을 0 -5℃ 에서 아세트산 25ml, 염화 제2구리 0.5g 및 액화 이산화황 5ml의 혼합물에 조금씩 가한다. 완전히 가한 후, 냉각욕을 제거하고, 반응 혼합물을 31℃ 로 가온한 다음 냉각욕을 재적용하며, 부가 완료후 2시간반까지 교반을 계속한다. 이어서 혼합물을 얼음에 붓고 실시예 1에 기술한 바와 같이 후처리하되, 단 목적하는 메틸렌 클로라이드 용액을 진공중에서 농축하여 고체화된 오일을 수득한다. 목적하는 설포닐클로라이드의 혼합물인 이 생성물(3.28g)은 실시예 4의 설폰아마이드 제조용으로 충분히 순수하다.
[실시예 4]
5-(2-아미노설포닐페닐)-2-메틸-2H-테트라졸 및 5-(2-아미노설포닐페닐)-1-메틸-1H-테트라졸
실시예 3에서 수득한 고체 생성물을 테트라하이드로푸란 50ml에 용해하여 28% 수산화암모늄 20ml에 조금씩 가한다. 혼합물을 한 시간동안 교반하고 진공중에서 농축시킨다. 물을 잔사에 가하고 혼합물을 여과하여, 고체를 소량의 냉수로 세척하여 이성체 혼합물 1.3g을 수득한다. 자외선 흡수 스펙트럼은 목적하는 화합물의 NH2에 일치하는 3260 및 3360cm-1과 SO2그룹에 일치하는 1160 및 1130에서 피크를 보인다.
C8H9N5O2S의 원소분석 :
계산치 : C ; 40.15, H ; 3.79, N ; 29.26, S ; 13.39
실측치 : C ; 40.49, H ; 3.86, N ; 29.99, S ; 13.75
[실시예 5]
5-(2-아미노설포닐페닐)-1-메틸-1H-테트라졸
프로피온산 40ml 및 물 1.08g중의 5-92-에틸티오페닐)-1-메틸-1H-테트라졸 4.4g에 액체 염소(1.367g/ml) 5.2ml를 -10℃ 에서 서서히 적가한다. 가한 후 혼합물을 실온으로 가온하고, 이어서 얼음 약 100g에 붓는다. 생성된 설포닐 클로라이드를 메틸렌 클로라이드로 추출하고, 물로 세척하며, 메틸렌 클로라이드 용액을 빙욕 냉각으로 반응온도를 25℃ 이하에 유지하면서 농축 수성 수산화암모늄 45ml에 가한다. 메틸렌 클로라이드를 증발시키고 수성 잔여물로부터 여과하여 수거하며, 물로 세척하여 고체 생성물을 수득한다. 생성물 3.72g은 176-179℃ 에서 융해하며 목적하는 설폰아마이드에 일치하는 3210 및 3300cm-1에서 자외선 분광검사법에 의해 흡수 피크를 나타낸다.
[실시예 6]
5-(2-아미노설포닐-4-메틸페닐)-1-메틸-1H-테트라졸
5-(4-메틸-2-프로필티오페닐)-1-메틸-1H-테트라졸 4.68g, 프로피온산 40ml 및 물 1.08g의 혼합물을 -10℃ 로 냉각하고, 반응온도를 -10° 내지 0℃로 유지하면서 염소(액화) 5.2ml를 적가한다. 30분후 반응혼합물을 실온으로 가온하고 1시간동안 교반시킨다. 이어서 얼음 및 물 200ml에 붓고 메틸렌 클로라이드로 추출한다. 메틸렌 클로라이드 용액을 10℃ 에서 농 수산화암모늄 45ml에 가하여 밤새 교반한다. 혼합물을 진공중에서 농축하여 오일 잔여물을 수득하고 메틸렌 클로라이드 100ml에 용해시킨 후, 물 100ml 및 포화된 수성 수산화나트륨 100ml로 3회 세척한다. 이어서 메틸렌 클로라이드 용액을 황산 마그네슘에 건조하고, 여과하며, 여과물을 증발시켜 융점 161-171℃ 인 목적 생성물 4.1g을 수득한다.
NMR(CDCl3) : δ 2.56(s, 페닐상의 CH3) ; 3.99(s, 테트라졸상의 CH3) ; 5.6(s, W, NH2) ; 및 7.1-8.1(m, 페닐상의 3CH).
[실시예 7]
5-(2-아미노설포닐-3-메틸페닐)-1-메틸-1H-테트라졸
농염산(12M) 14.6ml, 아세트산 6.1ml, 에틸에테르 25ml 및 5-(2-아미노-3-메틸페닐)-1-메틸-1H-테트라졸 6.91g의 혼합물에 0℃ 에서 물 12.2ml중에 용해된 아질산나트륨 2.8g을 반응온도를 10℃ 이하로 유지하면서 적가한다. 첨가 완료 후 1시간 동안 계속 교반한다. 이어서 혼합물을 염화 제2구리 0.6g 및 액화 이산화황 6.1ml를 함유하는 아세트산 30.5ml에 서서히 가한다. 주변 온도에서 2시간동안 교반한 후, 혼합물을 빙수 200ml에 붓고, 메틸렌 클로라이드 125ml로 2회 추출한다. 이어서 유기상을 물 200ml로 2회, 포화 수성 염화나트륨 200ml로 1회, 포화 수성 중탄산나트륨 200ml로 1회 및 물 200ml와 포화 수성 염화나트륨 200ml로 세척한다. 유기상을 농축 수성 수산화암모늄 25ml에 적가하고, 혼합물을 밤새 교반하며 증발시켜 고체로 하고, 물로 세척 및 건조시킨다. 수득한 조생성물은 140-161℃ 에서 융해하며 수득량은 6.26g이다. 질량 스펙트럼 분석은 생성물의 분자량이 253(계산치 253)임을 보여준다.
[실시예 8]
N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(2-메틸-2H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드
아세토니트릴 25ml에 5-(2-아미노설포닐페닐)-2-메틸-2H-테트라졸 0.48g 및 페닐 N-(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)카바메이트 0.54g, 이어서 DBU 0.3ml를 주변온도 및 압력에서 가한다. 3시간동안 교반한 후, 반응 혼합물을 얼음 25g에 가하고 염산으로 산성화하여 pH 3으로 한다. 수득한 침전물을 여과 하고, 물로 세척 및 건조하여 융점 214-222℃ 인 목적 생성물 0.66g을 수득한다. 1720, 1600 및 1580cm-1에서의 자외선 흡수도는 목적하는 구조에 일치한다.
NMR(CDCl3) : δ 3.91(s, 2X CH3O) 5.82(s, CH, 피리미딘) 4.43(s, 테트라졸 N-2상의 CH3) 4.38(s, 테트라졸 N-1상의 CH3)
CH3에 대한 4.43d 및 4.38d에서의 피크의 적분은 2-메틸-2H-테트라졸의 1-메틸-1H-테트라졸에 대한 비율이 2 : 1임을 가리킨다. 이 혼합물은 본 발명의 목적에 적합하다. 경우에 따라, 실시예 6에서 수득한 이성체 혼합물을 크로마토그래피에 의해 그의 구성성분으로 분리할 수 있다.
[실시예 9]
N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(5-메틸-1H-테트라졸-1-일)벤젠설폰아마이드
아세토니트릴 25ml중의 1-(2-아미노설포닐페닐)-5-메틸-1H-테트라졸 0.48g에 페닐 N-(4, 6-디메톡시 피리미딘-2-일)카바메이트 0.54g 및 DBU 0.3ml를 주변온도 및 압력에서 가한다. 반응 혼합물을 3시간동안 교반하고, 얼음 25g에 가하며, 염산으로 산성화하여 pH 3으로 한다. 수득한 침전물을 여과하고, 물로 세척 및 건조하여 융점 213-216℃ 인 목적 화합물 0.74g을 수득한다. 자외선 흡수스펙트럼은 1710, 1605 및 1570cm-1에서 목적 화합물에 일치하는 피크를 나타낸다.
NMR(CDCl2) : δ 2.48(s, 테트라졸상의 CH3) 3.82(s, 2X CH3O) 5.81(s, CH-피리미딘).
[실시예 10]
N-[(4-메톡시-6-메틸-1, 3, 5-트리아진-2-일)아미노카보닐]-2-(5-메틸-1H-테트라졸-1-일)벤젠설폰아미이드
아세토니트릴 25ml중의 1-(2-아미노설포닐페닐)-5-메틸-1H-테트라졸 0.48g 및 페닐 N-(4-메톡시-6-메틸-1, 3, 5-트리아진-2-일)카바메이트 0.52g에 DBU 0.3ml를 주변온도 및 압력에서 가한다.
혼합물을 3시간 동안 교반하고, 이어서 얼음 25g에 가하며 염산으로 산성화한다. 수득한 침전물을 여과하고, 물로 세척 및 진공중에서 건조하여 융점 207-209℃ 인 목적 화합물 0.65g을 수득한다. 자외선 흡수 스펙트럼은 1700, 1600 및 1500cm-1에서 목적하는 구조에 일치하는 흡수도를 나타낸다.
[실시예 11]
N-[(4-클로로-6-메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드
건조 아세토니트릴 20ml중의 5-(2-아미노설포닐페닐)-1-메틸-1H-테트라졸 0.48g 및 페닐 N-(4-클로로-6-메톡시피리미딘-2-일)카바메이트 0.56g에 DBU 0.3ml를 주변온도에서 교반하면서 가한다. 16시간 교반 후, 혼합물을 얼음 25g에 붓고 이어서 2N 염산 10ml를 가한다. 수득한 침전물을 여과로 수거하고, 물로 세척 및 건조하여 융점 225-227℃ 인 목적 생성물 0.74g을 수득한다.
NMR9CDCl3) :δ 3.88(s, 테트라졸상의 CH3) ; 3.95(s, CH3O) ; 6.52(s, 피리미딘의 CH) ; 7.2-7.5(m, 페닐의 CH 및 NH) ; 7.84(m, 페닐의 2CH) ; 8.6(m, 페닐의 CH) ; 및 11.96(s, NH).
[실시예 12]
N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-5-클로로-2-(4-메틸-5-옥소-1H, 4H-테트라졸-5-일)-벤젠설폰아미드
아세토니트릴 10ml중의 1-(2-아미노설포닐-5-클로로페닐)-4-메틸-1H-테트라졸-5[4H]-온 0.29g 및 페닐 N-(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)-카바메이트 0.27g에 DBU 0.1ml를 주변온도에서 가한다.
혼합물을 2시간동안 교반하고, 얼음 20g을 부으며, 2N 염산으로 산성화한다. 침전물을 여과하여 수거하고, 물로 세척 및 건조시켜 융점 178-180℃ 인 생성물 0.37g을 수득한다.
NMR(CDCl3) : δ 3.63(s, 테트라졸상의 CH3) ; 3.92(s, 2X CH3O) 5.81(s, 피리미딘의 CH) ; 7.4-86(m, 페닐의 3CH) ; 및 12.6(s, W, NH).
[실시예 13]
3-(2-메틸-2H-테트라졸-5-일)-1-페닐-1H-피라졸-5-설폰아마이드
12N 염산 3.1ml, 아세트산 12.5ml, 포름산 3.7ml 및 5-아미노-1-페닐-3-(2-메틸-2H-테트라졸-5-일)-1H-피라졸 4.5g의 혼합물에 물 2.5ml중의 아질산나트륨 1.4g을 -8° 내지 -6℃ 에서 적가한다. 혼합물을 15분동안 교반하고, 이어서 이산화황(액체) 3.7ml 및 염화 제2구리 탈수물 0.75g을 함유하는 아세트산 20ml에 가한다. 30분동안 교반하여 가온한 후, 혼합물을 얼음 및 물의 혼합물에 붓고 침전물을 여과하고 수거한다. 물로 세척한 후 고체를 테트라하이드로푸란에 용해하고, -78℃ 로 냉각하며, 암모니아(액화, 1.0ml)를 적가한다. 혼합물을 주변온도에서 밤새 방치하고 여과하여 갈색 고체를 수득한다. 이 고체는 3300 및 3200cm-1에서 NH2에 일치하는 피크를, 1370, 1185 및 1170cm-1에서 SO2에 일치하는 피크를 나타낸다.
상기 등식 및 실시예에 기술된 방법 또는 그의 변법을 사용하여 당 분야 숙련가는 하기 표에 있는 화합물들을 제조할 수 있다.
Figure kpo00047
일반구조 1에서, A는 A-1
일반구조 2에서, A는 A-2
일반구조 3에서, A는 A-3
일반구조 4에서, A는 A-4
일반구조 5에서, A는 A-5
일반구조 6에서, A는 A-6
일반구조 7에서, A는 A-7
일반구조 8
Figure kpo00048
일반구조 9
Figure kpo00049
일반구조 10
Figure kpo00050
일반구조 11
Figure kpo00051
일반구조 12
Figure kpo00052
일반구조 13
Figure kpo00053
일반구조 14
Figure kpo00054
일반구조 15
Figure kpo00055
일반구조 16
Figure kpo00056
일반구조 17
Figure kpo00057
[표 I]
Figure kpo00058
Figure kpo00059
Figure kpo00060
Figure kpo00061
Figure kpo00062
Figure kpo00063
Figure kpo00064
Figure kpo00065
Figure kpo00066
Figure kpo00067
Figure kpo00068
Figure kpo00069
Figure kpo00070
Figure kpo00071
Figure kpo00072
Figure kpo00073
Figure kpo00074
Figure kpo00075
Figure kpo00076
[표 1b]
Figure kpo00077
Figure kpo00078
Figure kpo00079
[표 II]
Figure kpo00080
Figure kpo00081
Figure kpo00082
[표 IIa]
Figure kpo00083
Figure kpo00084
[표 IIb]
Figure kpo00085
[표 III]
Figure kpo00086
[표 IV]
Figure kpo00087
[표 V]
Figure kpo00088
[표 VI]
Figure kpo00089
[표 VII]
Figure kpo00090
Figure kpo00091
[표 VIII]
Figure kpo00092
Figure kpo00093
Figure kpo00094
[표 IX]
Figure kpo00095
Figure kpo00096
Figure kpo00097
[표 X]
Figure kpo00098
Figure kpo00099
[표 XI]
Figure kpo00100
Figure kpo00101
Figure kpo00102
Figure kpo00103
[표 XII]
Figure kpo00104
Figure kpo00105
Figure kpo00106
Figure kpo00107
[표 XIII]
Figure kpo00108
Figure kpo00109
[표 XIV]
Figure kpo00110
[표 XV]
Figure kpo00111
Figure kpo00112
Figure kpo00113
[표 XVI]
Figure kpo00114
[표 XVII]
Figure kpo00115
[표 XVIIa]
Figure kpo00116
[표 XVIIb]
Figure kpo00117
제형
일반식(I)화합물의 유용한 제형은 통상적인 방식으로 제조할 수 있다. 그들은 산제, 과립제 펠릿, 용액, 현탁액, 유화액, 습윤분재, 유화 농축제 등이다. 이들중 많은 것을 직접 적용할 수 있다. 분무 제형은 적당한 매질중에 희석하여 헥타아르당 수 l 내지 수백 l의 분무용적으로 사용할 수 있다. 고역가 조성물은 기본적으로 다음 제형을 위한 중간물질로 사용한다. 제형은 광범위하게 활성 성분(들) 약 0.1중량% 내지 99중량% 및 (a) 계면환성제(들) 약 0.1% 내지 20% (b) 고체 또는 액체 불활성 희석제(들) 약 1% 내지 99.9% 중 적어도 하나를 함유한다. 더욱 특별하게는 대략 하기 비율로 이들 성분을 함유한다.
[표 XVIII]
Figure kpo00118
활성 성분과 계면활성제 또는 희석제 중 적어도 하나를 가하여 100중량
Figure kpo00119
가 되게한다.
물론 활성 성분의 낮거나 높은 정도는 의도된 용도 및 화합물의 물리적 특성에 따라 차이가 있다. 활성 성분에 대해 계면활성제의 높은 비율이 다소 바람직하고 제형으로의 혼합 또는 탱크 혼합에 의해 달성한다.
전형적의 고체 희석제가 문헌[Watkins, et al., "Handbook of Insecticide Dust Diluents and Carriers", 2nd Ed., Dorland Books, Caldwell, New Jersey]에 기술되어 있으나 채광 또는 제조한 기타 고체를 사용할 수 있다. 더욱 흡수성인 희석제가 습윤 분제를 위해 바람직하며 농밀한 것이 산제를 위해 바람직하다. 전형적인 액체 희석체 및 용매가 문헌[Marsden, "Solvents Guide", 2nd Ed., Insterscience, New York, 1950]에 기술되어 있다. 0.1% 이하의 용해도가 현탁 농축제를 위해 바람직하고 ; 용액 농도는 바람직하게는 0℃에서 상분리에 대해 안정해야 한다. 문헌["McCutcheon's Detergents and Emulsfiers Annual", MC Publishinp. Corp., Ridgewood, New Jersey]뿐만 아니라 문헌[Sisely and wood, "Encyclopedia of Surface Active Agents", Chemical Publishing Co., Inc., New York, 1964]는 계면 활성제 및 추천되는 용도를 수록하고 있다. 모든 제형이 거품, 케이크형성, 부식, 미생물 생육등을 감소시키기 위한 소량의 첨가물을 함유할 수 있다.
그와 같은 제형을 제조하는 방법이 숙지되어 있다. 용액은 단순히 성분을 혼합해서 제조한다. 미세한 고체 조성물은 혼합 및 통상적으로 망치 또는 유체 에너지 분쇄기로 분쇄한다. 현탁액은 습윤 분쇄로 제조한다(참조예 : Littler, 미합중국 특허 제3,060,083호). 과립 및 펠릿은 활성물질을 예비 성형한 과립 담체에 분무 또는 응괴 기술(agglomeration techniques)로 제조할 수 있다. [문헌 J. E. Browning, "Agglomeration", Chemical Engineering, December 4, 1967, pp 147 ff 및 "Perry's Chemical Engineer's Handbook", 5th Ed., McGraw-Hill, New York, 1973, pp. 8-57ff]을 참조하라.
제형 분야에 관한 그밖의 정보는 다음을 참조한다.
H. M. Loux, 미합중국 특허 제3,235,361호, 1966년 2월 15일, 컬럼 6, 16행 내지 컬럼 7, 19행 및 실시예 10 내지 41 ; R. W. Luckenbaugh, 미합중국 특허 제3,309.192호, 1967년 3월 14일, 컬럼 5, 43행 내지 컬럼 7, 62행 및 실시예 8, 12, 15, 39, 41, 52, 53, 58, 132, 138-140, 162-164, 166, 167 및 169-182 ; M. Gysin and E. Knusli, 미합중국 특허 제2,891,855호, 1959년 6월 23일, 컬럼 3, 66행 내지 컬럼 5, 17행 및 실시예 1-4 ; G. C. Klingman "Weed Control as a Science", John wiley & Sons, Inc., New York, 1961, pp. 81-96 ; 및 J. D. Fryer and S. A. Erans, "weed Control Handbook", 5th Ed., Blackwell Scientific Publications, Oxford, 1968, pp. 101-103.
하기 실시예에서 모든 부는 다른 지시가 없는 한 중량에 의한 것이다.
[실시예 14]
습윤 분제
Figure kpo00120
성분을 혼합하고, 모든 고체가 필수적으로 50μ 이하로 될때까지 망치-분쇄하며, 재혼합해서 포장한다.
[실시예 15]
습윤성 분제
Figure kpo00121
성분을 혼합하고, 거칠게 망치-분쇄한 다음 공기-분쇄하입자를 기본적으로 모두 직경 10μ 이하로 한다. 생성물을 포장하기전에 재혼합한다.
[실시예 16]
Figure kpo00122
25% 고체를 함유하는 습윤 분제의 슬러리를 애터펄자이트 과립의 표면상에 2중 원뿔 혼합기에서 혼합하면서 분무한다. 과립을 건조하여 포장한다.
[실시예 17]
압출 펠릿
Figure kpo00123
성분을 혼합하고, 망치-분쇄하며, 이어서 약 12% 물로 촉촉하게 한다. 혼합물을 직경 약 3mm의 실린더로 압출시키고 약 3mm 길이의 펠릿으로 절단한다. 이것을 건조한 후 직접 사용하거나, 건조한 펠릿을 U. S. S. NO. 20체(0.84mm 체눈)에 통과시켜 분쇄할 수 있다. U. S. S. NO. 40체(0.42mm 체눈)에 걸린 과립을 사용하기 위해 포장하고 미세한 것은 재순환시킨다.
[실시예 18]
오일 현탁액
Figure kpo00124
성분을 모래 분쇄기에서 고체 입자가 약 5μ이하로 될때까지 함께 분쇄한다. 생성된 굵은 현탁액을 직접 적용할 수 있으나 오일로 산개 또는 물에 유화시킨 후가 바람직하다.
[실시예 19]
습윤성 분제
Figure kpo00125
성분을 완전히 혼합한다. 망치-분쇄기에서 분쇄하여 필수적으로 입자가 모두 100μ 이하가 되도록 한 후, 물질을 재혼합하고 U. S. S. NO. 50체(0.3mm 체눈)로 친다.
[실시예 20]
저역가 과립
Figure kpo00126
활성 성분을 용매에 용해하고 이중 원뿔 혼합기에서 가루를 제거한 과립상에 용액을 분무한다. 용액을 완전히 분무한 후, 혼합물을 잠시 방치하고 이어서 과립을 포장한다.
[실시예 21]
수성 현탁액
Figure kpo00127
성분을 혼합하고, 모래 분쇄기에서 함께 분쇄하여 필수적으로 모든 입자를 크기 5μ 이하로 만든다.
[실시예 22]
용액
Figure kpo00128
염을 물에 교반하면서 직접 가하여 용액을 만들고, 이어서 포장하여 사용한다.
[실시예 23]
저역가 과립
Figure kpo00129
활성 성분을 용매에 용해하고, 용액을 이중 원뿔 혼합기에서 가루를 제거한 과립상에 분무한다. 용액을 완전히 분무한 후, 물질을 가온하여 용매를 증발시킨다. 물질을 냉각하고 이어서 포장한다.
[실시예 24]
과립
Figure kpo00130
성분을 혼합하고, 100메쉬 스크린을 통해 통과 분쇄한다. 이어서 이 물질을 유체 베드(bed) 과립기에 가하고, 공기를 유통시켜 물질을 완만하게 유동화하며, 유동화 물질상에 물을 미세하게 분무한다. 유동화 및 분무를 과립이 목적하는 크기로 될때까지 계속한다. 분무를 중단하고 유동화를 계속하며, 임의로 열을 가해 물의 함량을 목적하는 수준, 통상 1% 이하까지 감소시킨다. 이어서 물질을 꺼내 목적하는 크기 범위, 통상 14-100메쉬(1410-149μ)로 선별하여 사용을 위해 포장한다.
[실시예 25]
고역가 농축제
Figure kpo00131
성분을 혼합하고, 망치-분쇄기에서 분쇄하여 필수적으로 모든 물질이 U. S. S. NO. 50 스크린(0.3mm 스크린눈)을 통과하도록 한다. 농축제를 또한 경우에 따라 제형할 수 있다.
[실시예 26]
습윤 분제
Figure kpo00132
성분을 혼합하고, 망치-분쇄하며 필수적으로 모든 입자를 100μ 이하로 한다. 물질을 U. S. S. NO. 50스크린을 통해 치고 이어서 포장한다.
[실시예 27]
습윤분제
Figure kpo00133
성분을 혼합하고, 거칠게 망치-분쇄하며, 이어서 공기-분쇄하여 필수적으로 모든 입자를 크기 10μ 이하로 한다. 물질을 재혼합하여 포장한다.
[실시예 28]
오일 현탁액
Figure kpo00134
성분을 혼합하고, 모래 분쇄기에서 분쇄하여 필수적으로 모든 입자가 5μ 이하가 되도록 한다. 생성물을 직접 사용, 오일로 산재, 또는 물로 유화시킬 수 있다.
[실시예 29]
산제
Figure kpo00135
활성 성분을 애터펄자이트와 혼합하고 이어서 망치-분쇄기를 통과시켜 실질적으로 모든 입자를 200μ 이하로 한다. 분쇄 농축제를 균질해질 때까지 분말 엽랍석과 혼합한다.
효용
시험 결과는 본 발명의 화합물이 고도로 활성적인 발아전 및 발아후 제초제 또는 식물 성장조절제임을 가리킨다. 그들은 연료 저장 탱크 주변, 탄약고, 산업 창고 지역, 주차장, 드라이브-인 극장, 게시판 주변, 고속도로 및 철도 구조물과 같이 모든 식물의 완전한 통제가 요구되는 지역에서 발아전 및 후의 잡초통제에 광범위한 효용을 가지고 있다. 화합물의 약간은 옥수수, 벼, 밀, 보리 및 포도와 같은 작물중에서 선택적으로 잡초를 제거하는데 효용이 있다. 또한 많은 표제 화합물이 식물성장을 조정하는데 유용하다.
본 발명 화합물의 적용 비율은 식물 조절제 또는 제초제로서의 용도, 포함되는 작물의 종류, 제거할 잡초의 유형, 날씨와 기후, 선택한 제형, 적용 방식, 잎의 존재량등 여러가지 인자에 의해 결정한다. 통상적으로 표제 화합물은 약 0.0001 내지 10kg/ha 정도가 적용되어야 하며, 라이터(lighter) 토양 및/또는 낮은 함량의 유기물질을 갖는 토양, 식물 성장 조절 또는 단기 지속성이 요구되는 상황에 사용시에는 낮은 비율이 제안된다.
본 발명의 화합물은 다른 상업적 제초제, 예를 들면 트리아진, 트리아졸, 우라실, 우레아, 아마이드, 디페닐에테르, 카바메이트, 페녹시아세트산 및 비피리딜륨(bipyridylium) 타이프, 뿐만 아니라 기타 설포닐우레아와 배합해서 사용할 수 있다. 그들은 특히 하기 제초제와 배합시 유용하다.
Figure kpo00136
Figure kpo00137
표제 화합물의 제초 특성은 많은 온실 시험에서 밝혀졌다. 시험 방법과 결과는 하기와 같다.
Figure kpo00138
Q는
Figure kpo00139
Figure kpo00140
또는
Figure kpo00141
이다.
Figure kpo00142
Figure kpo00143
Figure kpo00144
Figure kpo00145
Figure kpo00146
시험 A
왕바랭이(Digitaria spp.), 자이언트 폭스테일(Seraria faberii)(약간의 경우), 피(Echinochloa crusgalli), 치트그래스(Bromus secalinus), 메귀리(Avena fatua), 벨벳리프(Abutilon theophrasti), 나팔꽃(Ipomoea spp.), 도꼬마리(Xanthium pensylvanicum), 수수, 옥수수, 콩, 사탕무우, 목화, 벼, 보리(약간의 경우), 밀 및 퍼플 너트시쥐(cyrerus rotundus) 괴경을 파종하고 시험 화학품을 식물 비독성 용매에 용해하여 발아전 처리한다. 동시에 이들 작물 및 토양/잎 적용으로 처리한다. 처리시 식물의 높이는 2 내지 18cm 범위이다. 처리한 식물 및 대조용을 온실에서 16일 동안 유지한 후, 모든 종을 대조용과 비교하고 처리에 따른 반응을 시각적으로 측정한다. 측정 결과가 0=피해 없음에서 10=완전 사멸까지 수치적규모를 기본으로 하여 표 A에 정리되어 있다. 길이 적혀 있는 심볼은 하기 의미를 갖는다.
C=황백화/괴사 ;
B=탄잎(burn) ;
D=낙엽 ;
E=발아 억제 ;
G=성장 억제 ;
H=형성 효과 ;
U=이상한 착색 ;
X=엽액의 촉진 ;
S=백화현상 ; 및
6Y=절단 싹 또는 꽃
[표 A]
Figure kpo00147
Figure kpo00148
Figure kpo00149
Figure kpo00150
Figure kpo00151
Figure kpo00152
Figure kpo00153
Figure kpo00154
Figure kpo00155
Figure kpo00156
Figure kpo00157
Figure kpo00158
Figure kpo00159
Figure kpo00160
Figure kpo00161
Figure kpo00162
Figure kpo00163
Figure kpo00164
Figure kpo00165
Figure kpo00166
Figure kpo00167
Figure kpo00168
Figure kpo00169
Figure kpo00170
Figure kpo00171
Figure kpo00172
Figure kpo00173
Figure kpo00174
Figure kpo00175
Figure kpo00176
Figure kpo00177
시험 B
발아후
2개의 원형 팬(직경 25cm , 깊이 12.5cm )에 사시프라스(Sassafras)모래 옥토를 채운다. 1개의 팬에 블랙 그래스(Alopecurus myosuroides), 사탕무우, 너트시쥐(Cyperus rotundus)괴경, 포도(Brassica napus), 왕바랭이(Digitaria sanguinalis), 시클포드(Cassia obtusifolia), 티이위드(Sida spinosa), 독말풀(Datura stramonium), 벨벳리프(Abutilon theophrasti), 및 자이언트 폭스테일(Setaria faberii)을 심는다. 다른 팬에는 밀, 보리, 목화, 벼, 옥수수, 콩, 메귀리(Avena fatua), 도꼬마리(Xanthium pensylvanicum), 나팔꽃(Ipomoea hederacea), 즌슨그래스(Sorghum halepense) 및 피(Echinochloa crusgalli)를 심는다. 식물을 약 14일 동안 성장시키고 나서 식물 비독성 용매에 용해된 화학품으로 발아후 분무한다.
발아전
2개의 원형 팬(직경 25cm , 깊이 12.5cm )에 사사프라스 모래 옥토를 채운다. 1개의 팬에 블랙그래스, 사탕무우, 너트시쥐, 포도, 왕바랭이, 시클포드, 티이위드, 독말풀, 벨벳리프, 및 자이언트 폭스테일을 심는다. 다른 팬에는 밀, 보리, 목화, 벼, 옥수수, 콩, 메귀리, 도꼬마리, 나팔꽃, 존슨그래스, 및 피를 심는다. 2개의 팬을 식물 비독성 용매에 용해된 화학품으로 발아전 분무한다.
처리 식물 및 대조용을 온실에서 28일동안 유지하고, 이어서 처리 식물을 대조용과 비교하여 식물 반응을 시각적으로 측정한다. 반응 측정은 0=효과 없음, 및 100=완전 제거인 0 내지 100의 규모를 기본으로 한다. 대시(-)반응은 시험이 없었음을 의미한다.
반응 평가는 표 B에 나타나 있다.
Figure kpo00178
Figure kpo00179
Figure kpo00180
Figure kpo00181
Figure kpo00182
Figure kpo00183
Figure kpo00184
Figure kpo00185
Figure kpo00186
Figure kpo00187
Figure kpo00188
Figure kpo00189
Figure kpo00190
Figure kpo00191
Figure kpo00192
Figure kpo00193
Figure kpo00194
Figure kpo00195
Figure kpo00196
Figure kpo00197
Figure kpo00198
Figure kpo00199
Figure kpo00200
Figure kpo00201
Figure kpo00202
Figure kpo00203
Figure kpo00204
Figure kpo00205
Figure kpo00206
Figure kpo00207
Figure kpo00208
Figure kpo00209
Figure kpo00210
Figure kpo00211
Figure kpo00212
Figure kpo00213
Figure kpo00214
Figure kpo00215
Figure kpo00216
Figure kpo00217
Figure kpo00218
Figure kpo00219
Figure kpo00220
Figure kpo00221
Figure kpo00222
Figure kpo00223
Figure kpo00224

Claims (30)

  1. 일반식(II)의 화합물을 불활성 비양자성 용매중에서 일반식(III)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여 일반식(I)의 화합물을 제조하는 방법.
    Figure kpo00225
    상기식에서, J는
    Figure kpo00226
    또는
    Figure kpo00227
    이고 W는 O이며 ; m은 0이고 ; n은 0이며 ; R은 H이고 ; E는 단일 결합이며 ; Q는
    Figure kpo00228
    이고 ; R1은 H, C1-C3알킬 또는 할로겐이고; R2는 C1-C3알킬 또는 페닐이며: R3는 C1-C6알킬이고: R4는 H 또는 C1-C6알킬이고: R5는 C1-C3알킬 또는 알릴이며: A는
    Figure kpo00229
    이고, X는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐 또는 C1-C3알킬아미노이며 ; Y는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C2-C5알콕시알킬 또는 C1-C3알킬아미노이고, Z는 CH 또는 N이며 ; 단, a) X가 Cl, F, Br 또는 I인 경우, Z는 CH이고 Y는 OCH3, OC2H5, NHCH3또는 OCF2H이며 ; b) Y가 C1할로알콕시인 경우, Z는 CH이고 ; c) J가 J-3인 경우, 치환체 Gm(CH2)nQ 또는 (CH2)nQ 및 설포닐우레아 결합은 인접한 환 위치에 있으며 ; d) X 및 Y에서 탄소원자의 총수가 4보다 큰 경우, R1, R3R4및 R5의 탄소수는 각각 2보다 작거나 2와 같다.
  2. 제1항에 있어서, 불활성 비양성자성 용매가 메틸렌 클로라이드, 테트라하이드로푸란 또는 아세토니트릴인 방법.
  3. 일반식(IV)의 화합물을 용매중에서 일반식(V)의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여 일반식(Ia)의 화합물을 제조하는 방법.
    Figure kpo00230
    상기식에서, J는
    Figure kpo00231
    또는
    Figure kpo00232
    이고 ; W는 O이며 ; m은 0이고 ; n은 0이며 ; R은 H이고 ; E는 단일 결합이며 ; Q는
    Figure kpo00233
    이고 ; R1은 H, C1-C3알킬 또는 할로겐이고 ; R2는 C1-C3알킬 또는 페닐이며 ; R3는 C1-C6알킬이고 ; R4는 H 또는 C1-C6알킬 또는 알릴이며 ; A는
    Figure kpo00234
    이고 ; X는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐 또는 C1-C3알킬아미노이며 ; Y는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C2-C5알콕시알킬 또는 C1-C3알킬아미노이고 ; Z는 CH 또는 N이며 ; 단, a) X가 Cl, F, Br 또는 I인 경우, Z는 CH이고 Y는 OCH3, OC2H5, NHCH3또는 OCF2H이며 ; b) Y가 C1할로알콕시인 경우, Z는 CH이고 ; c) J가 J-3인 경우, 치환체 Gm(CH2)nQ 또는 (CH2)nQ 및 설포닐우레아 결합은 인접한 환 위치에 있으며 ; d) X 및 Y에서 탄소원자의 총수가 4보다 큰 경우, R1, R3, R4및 R5의 탄소수는 각각 2보다 작거나 2와 같다.
  4. 제3항에 있어서, 용매가 디옥산 또는 아세토니트릴인 방법.
  5. 일반식(I)의 화합물
    Figure kpo00235
    상기식에서, J는
    Figure kpo00236
    또는
    Figure kpo00237
    이고 ; W는 O이며 ; m은 0이고 ; n은 0이며 ; R은 H이고 ; E는 단일 결합이며 ; Q는
    Figure kpo00238
    이며 ; R1은 H, C1-C3알킬 또는 할로겐이고 ; R2는 C1-C3알킬 또는 페닐이며 ; R3는 C1-C6알킬이고 ; R4는 H 또는 C1-C6알킬이고 ; R5는 C1-C3알킬 또는 알릴이며 ; A는
    Figure kpo00239
    이고 ; X는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐 또는 C1-C3알킬아미노이며 ; Y는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C2-C5알콕시알킬 또는 C1-C3알킬아미노이고 ; Z는 CH 또는 N이며 ; 단, a) X가 Cl, F, Br 또는 I인 경우, Z는 CH이고 Y는 OCH3-, OC2-H5, NHCH3- 또는 OCF2H이며 ; b) Y가 C1할로알콕시인 경우, Z는 CH이고 ; c) J가 J-3인 경우, 치환체 Gm(CH2-)n-Q 또는 (CH2)nQ 및 설포닐우레아 결합은 인접한 환 위치에 있으며 ; d) X 및 Y에서 탄소원자의 총수가 4보다 큰 경우, R1, R3, R4및 R5의 탄소수는 각각 2보다 작거나 2와 같다.
  6. 제5항에 있어서, X가 C1-C2알킬, C1-C2알콕시 또는 Cl이고 ; Y가 C1-C2알킬, C1-C2알콕시, OCF2H 또는 NHCH3인 화합물.
  7. 제6항에 있어서, R1이 H, CH3또는 Cl인 화합물.
  8. 제7항에 있어서, R3가 C1-C3알킬이고 ; R4가 H 또는 C1-C3알킬인 화합물.
  9. 제8항에 있어서, X가 CH3OCH3, OCH2CH3또는 Cl이고 ; Y가 CH3, OCH3, C2H5또는 NHCH3인 화합물.
  10. 제9항에 있어서, J가 J-1인 화합물.
  11. 제10항에 있어서, R3및 R4가 독립적으로 CH3또는 C2H5인 화합물.
  12. 제9항에 있어서, J가 J-3이고 ; R1이 H인 화합물.
  13. 제10항에 있어서, Q가 Q-1, Q-2, Q-3, Q-5 또는 Q-7이고 ; R1이 5- 또는 6-위치에 있는 화합물.
  14. 제5항에 있어서, J가 J-1이고 ; R1이 H이며 ; R3가 C1-C3알킬이고, R4가 H 또는 C1-C3알킬이며 ; X가 CH3, OCH3또는 Cl이고 ; Y가 CH3, OCH3, C2H5, NHCH3또는 CH(OCH3)2인 화합물.
  15. 제5항에 있어서, R1이 H이고, ; R3가 C1-C3알킬이며 ; R4가 H 또는 C1-C3알킬이고 ; X가 CH3, OCH3또는 Cl이며 ; Y가 CH3, OCH3, C2H5, NHCH3또는 CH(OCH3)2인 화합물.
  16. 제5항에 있어서, N-[(4-클로로-6-메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-에틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  17. 제5항에 있어서, N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-에틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  18. 제5항에 있어서, N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-메틸-6-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  19. 제5항에 있어서, N-[(4-메톡시-6-메틸피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-메틸-6-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  20. 제5항에 있어서, N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-메틸-6-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  21. 제5항에 있어서, N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(5-메틸-1H-테트라졸-1-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  22. 제5항에 있어서, N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  23. 제5항에 있어서, N-[(4, 6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  24. 제5항에 있어서, N-[(4, 6-디메틸피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  25. 제5항에 있어서, N-[(4-메톡시-6-메틸피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  26. 제5항에 있어서, N-[(4-클로로-6-메톡시피리미딘-2-일)아미노카보닐]-2-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)벤젠설폰아마이드인 화합물.
  27. 유효량의 제5항 또는 6항의 화합물 및 적어도 하나의 계면활성제, 고체 또는 액체 희석제를 포함하는, 바람직하지 못한 식물의 생장을 억제하기에 적합한 조성물.
  28. 유효량의 제16항 내지 20항중의 어느 하나의 화합물 및 적어도 하나의 계면활성제, 고체 또는 액체 희석제를 포함하는, 바람직하지 못한 식물의 생장을 억제하기에 적합한 조성물.
  29. 제1항에 있어서, J가 J-3인 방법.
  30. 제5항에 있어서, J가 J-3인 화합물.
KR1019860004323A 1985-05-30 1986-05-30 제초용 설폰아미드 및 이의 제조방법 KR900006100B1 (ko)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US73921485A 1985-05-30 1985-05-30
US739,214 1985-05-30
US84961886A 1986-04-11 1986-04-11
US849618 1986-04-11
US849,618 1986-04-11
US739214 2003-12-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR860008992A KR860008992A (ko) 1986-12-19
KR900006100B1 true KR900006100B1 (ko) 1990-08-22

Family

ID=27113497

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019860004323A KR900006100B1 (ko) 1985-05-30 1986-05-30 제초용 설폰아미드 및 이의 제조방법

Country Status (19)

Country Link
EP (1) EP0204513B1 (ko)
KR (1) KR900006100B1 (ko)
CN (1) CN1027999C (ko)
AT (1) ATE65161T1 (ko)
AU (1) AU581317B2 (ko)
BR (1) BR8602412A (ko)
CA (1) CA1231336A (ko)
DE (1) DE3680242D1 (ko)
DK (1) DK252186A (ko)
ES (2) ES8706652A1 (ko)
GR (1) GR861386B (ko)
HU (1) HU201452B (ko)
IL (1) IL78962A (ko)
NO (1) NO862137L (ko)
NZ (1) NZ216357A (ko)
PT (1) PT82666B (ko)
SU (1) SU1660571A3 (ko)
TR (1) TR23218A (ko)
ZW (1) ZW11086A1 (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4927453A (en) * 1986-10-17 1990-05-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Herbicidal sulfonamides
US5108487A (en) * 1986-10-17 1992-04-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Herbicidal sulfonamides
US5869428A (en) * 1995-03-13 1999-02-09 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd. Pyridonesulfonylurea compounds, process for their production and herbicides containing them
WO2014002110A1 (en) * 2012-06-26 2014-01-03 Rallis India Limited Substitutued pyrazole compounds and process for preparation thereof.
WO2014002109A1 (en) 2012-06-26 2014-01-03 Rallis India Limited Substituted tetrazole compounds and process thereof
WO2015112441A1 (en) 2014-01-22 2015-07-30 Merck Sharp & Dohme Corp. Metallo-beta-lactamase inhibitors
US9839642B2 (en) 2014-05-09 2017-12-12 Merck Sharp & Dohme Corp. Beta-tetrazolyl-propionic acids as metallo-beta-lactamase inhibitors
WO2016206101A1 (en) 2015-06-26 2016-12-29 Merck Sharp & Dohme Corp. Metallo-beta-lactamase inhibitors
JP7072586B2 (ja) 2017-05-24 2022-05-20 ザ ユニバーシティ オブ クィーンズランド 新規な化合物及び使用
WO2019018186A1 (en) 2017-07-17 2019-01-24 Merck Sharp & Dohme Corp. METALLO-BETA-LACTAMASE INHIBITORS AND METHODS OF USE
EP3668843A1 (en) 2017-08-15 2020-06-24 Inflazome Limited Sulfonylureas and sulfonylthioureas as nlrp3 inhibitors
BR112020003014A2 (pt) 2017-08-15 2020-07-28 Inflazome Limited sulfonilureias e sulfoniltioureias como inibidores de vnlrp3
WO2019034692A1 (en) 2017-08-15 2019-02-21 Inflazome Limited SULFONYLURATES AND SULFONYLTHIOURES AS INHIBITORS OF NLRP3
EP3759077A1 (en) 2018-03-02 2021-01-06 Inflazome Limited Novel compounds

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BR8300034A (pt) * 1982-01-07 1983-09-13 Du Pont Composto;composicao adequada para controlar o crescimento de vegetacao indesejada;processo para controlar o crescimento de vegetacao indesejada
US4475944A (en) * 1982-06-09 1984-10-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Herbicidal sulfamates
EP0111442A1 (de) * 1982-11-12 1984-06-20 Ciba-Geigy Ag N-2-Heterocyclyl-phenylsulfonyl-N'-pyrimidinyl- und -triazinyl-harnstoffe

Also Published As

Publication number Publication date
ATE65161T1 (de) 1991-08-15
NO862137L (no) 1986-12-01
ZW11086A1 (en) 1986-12-31
PT82666B (pt) 1988-08-17
IL78962A (en) 1989-12-15
HUT41227A (en) 1987-04-28
DE3680242D1 (de) 1991-08-22
DK252186A (da) 1986-12-01
ES8706652A1 (es) 1987-07-01
EP0204513A3 (en) 1988-07-20
TR23218A (tr) 1989-06-21
PT82666A (en) 1986-06-01
AU581317B2 (en) 1989-02-16
CA1231336A (en) 1988-01-12
DK252186D0 (da) 1986-05-29
AU5809386A (en) 1986-12-04
NZ216357A (en) 1988-11-29
EP0204513B1 (en) 1991-07-17
BR8602412A (pt) 1987-01-21
SU1660571A3 (ru) 1991-06-30
KR860008992A (ko) 1986-12-19
IL78962A0 (en) 1986-09-30
ES555484A0 (es) 1987-07-01
GR861386B (en) 1986-09-17
HU201452B (en) 1990-11-28
EP0204513A2 (en) 1986-12-10
CN1027999C (zh) 1995-03-29
ES557392A0 (es) 1988-02-16
CN86108740A (zh) 1988-06-08
ES8801825A1 (es) 1988-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2529012B2 (ja) 除草性スルホンアミド類
EP0177163A2 (en) Herbicidal acetals and ketals
US4460401A (en) Benzenesulfonamides as herbicides
KR900006100B1 (ko) 제초용 설폰아미드 및 이의 제조방법
US4690705A (en) Herbicidal sulfonamides
US4666501A (en) Herbicidal sulfonamides
US4589909A (en) Benzofuran and benzothiophene sulfonamides
US4372778A (en) Herbicidal N-(pyridinylaminocarbonyl)benzenesulfonamides
US4747870A (en) Herbicidal pyrazole sulfonamides
US4632693A (en) Herbicidal sulfonamides
EP0245058B1 (en) Herbicidal heterocyclic sulfonamides
EP0207609B1 (en) Herbicidal thiophenesulfonamides
EP0146263B1 (en) Herbicidal substituted-thiophene, furan and pyrrole sulfonamides
USH386H (en) Herbicidal sulfonamides
US4778512A (en) Herbicidal heterocyclic sulfonamides
EP0269386A2 (en) Thiophenesulfonamide herbicides
US4592775A (en) Benzenesulfonamides as herbicides
US4741757A (en) Thiophenesulfonamides
EP0301919A2 (en) Herbicidal sulfonamides
KR960001723B1 (ko) 제초제 설폰아미드
US4604130A (en) Herbicidal N-[pyrimidine aminocarbonyl]isothiazole sulfonamides
US4943312A (en) Herbicidal thiazole derivatives
US4846878A (en) Herbicidal pyrazole sulfonamides
EP0168135A2 (en) Herbicidal sulfonamides
US4759790A (en) Herbicidal sulfonamides

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20050809

Year of fee payment: 16

EXPY Expiration of term