KR890000368B1 - (티오-)우레아의 제조방법 - Google Patents

(티오-)우레아의 제조방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

[발명의 명칭]
(티오-)우레아의 제조방법
[발명의 상세한 설명]
본 발명은 식물 보호제로 유용한 하기 일반식(Ⅰ)의 신규한(티오-) 우레아의 제조방법에 관한 것이다.
Figure kpo00001
상기식에서 R1은 임의로 알킬에 의해 치환된 사이클로알킬 라디칼, 또는 할로게노 알킬 라디칼을 나타내고, R2는 알킬 또는 사이클로알킬 라디칼, 또는 임의로 치환된 아릴 라디칼을 나타내며, Ar은 임의로 치환된 아릴 라디칼을 나타내고, R1, R2및 Ar 라디칼중의 적어도 하나는 불소 또는 불소-함유 치환체를 함유하며, X는 산소 또는 황원자를 나타낸다.
본 발명은 또한 본 발명에 따르는(티오-)우레아의 제조에 사용되는 신규 중간체 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
에틸렌-비스-디티오카밤산의 중금속염, 특히 그의 아연염은 식물 병원성 진균의 구제를 위해 식물 보호 분야에서 비교적 오랫동안 사용되어 왔다[참조 : R. Wegler, Chemistry or Plant Protection Agents and Pest-Combating Agents, Volume 2,565, Springer-Verlag, Berlin, Heidelberg, New York 1970].그러나, 이들 화합물의 작용은 소량 및 낮은 농도로 사용되는 경우에는 언제나 완전히 만족스러운 것은 아니다.
본 발명에 따르면, 일반식(Ⅱ)의 2급 아민과 일반식(Ⅲ)의 (티오-)이소시아네이트를, 경우에 따라 희석제 중에, -20 내지 150℃에서 반응시킴을 특징으로하는 일반식(Ⅰ)화합물의 제조방법이 제공된다.
Figure kpo00002
상기식에서 Ar, R1, R2및 X는 상기에서 정의한 의미와 같다.
일반식(Ⅰ)의 신규(티오-)우레아를 제조하는데 필요한 일반식(Ⅱ)의 아민은 신규한 화합물이며, 또한 본 발명의 일부이다.
본 발명에 따르는 일반식(Ⅱ)의 화합물은 일반식(Ⅳ)의 알드이민을 희석제 중에서 수소화제와 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
Ar-CH = N-R1(Ⅳ)
상기식에서 Ar 및 R1은 상기에서 정의한 바와 같다.
일반식(Ⅳ)의 알드이민은 신규한 화합물이며, 이도 또한 본 발명의 일부이다.
본 발명에 따르는 일반식(Ⅳ)의 알드이민은 일반식(Ⅴ)의 알데히드와 일반식(Ⅵ)의 1급 아민을, 경우에 따라 희석제중, 0°내지 100℃에서 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
ArCHO (Ⅴ)
R1- NH2(Ⅵ)
상기식에서 Ar 및 R1은 상기에서 정의한 바와같다.
본 발명에 따르는 신규한 일반식(Ⅰ)의 (티오-)우레아는 강력한 살진균 특성을 갖는다. 이들은 선행 분야와 비교하여 더욱 우수한 활성을 나타내며, 특히 소량 및 저농도로 사용되는 경우에 더욱 우수한 활성을 나타낸다.
일반식(Ⅰ)의 신규(티오-)우레아중에서, R1이 탄소수 1내지 4의 알킬에 의해 임의로 치환된 탄소수 3 내지 7의 사이클로알킬라디칼, 또는 탄소원자 2 내지 4개와 할로겐원자(예, 불소 및 염소원자) 1 내지 5개를 함유하는 할로게노알킬을 나타내고, R2가 탄소수 1 내지 4의 알칼라디칼, 탄소수 3 내지 7의 사이클로알킬그룹, 또는 임의로 치환된 페닐 또는 나프틸라디칼을 나타내며, Ar이 임의로 치환된 페닐라디칼을 나타내고, R1, R2및 Ar라디칼중의 적어도 하나가 불소 또는 불소-함유 치환체를 함유하며, X가 산소 또는 황원자를 나타내는 화합물이 바람직하다.
라디칼 R2및 Ar에 존재하는 아킬라디칼은 각기 독립적으로 불소, 염소 및 브롬과 같은 할로겐 : 메틸 및 에틸과 같은 (C1내지 C4)알킬 : 탄소원자 1 또는 2개와 할로겐원자(예, 불소 및 염소) 3 내지 5개를 함유하는 할로게노 알킬 : 및 각각 탄소원자 1 내지 5개와 할로겐원자(예, 불소 및/또는 염소원자) 5개까지를 함유하는 할로게노알콕시 및 할로게노티오알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 치환체를 함유하는 것이 바람직하다.
특히 바람직한 일반식(Ⅰ)의 (티오-)우레아는 R1이 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼, 또는 탄소원자 2개와 불소원자 1 내지 3개를 함유하는 할로게노 알킬라디칼을 나타내고, R2가 탄소수 1 또는 2의 알킬 라디칼, 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬라디칼 또는 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내며, Ar이 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고, 라디칼 R2및 Ar중의 적어도 하나가 불소 또는 불소-함유 치환체를 함유하며, X가 산소 또는 황원자를 나타내는 화합물이다.
라디칼 R2및 Ar에 존재하는 페닐 라디칼은 각기 독립적으로 불소 ; 메틸 및 에틸과 같은 알킬 ; 트리플루오로메틸과 같은 할로게노알킬 ; 및 트리플루오로메톡시, 1-디플루오로-2-플루오로-2-클로로에톡시 및 트리플루오로메틸티오와 같은 할로게노알콕시 및 할로게노티오알콕시로 이루어진 그룹중에서 선택된 치환체를 함유하는 것이 바람직하다.
제조실시예에 기술된 일반식(Ⅰ)의 화합물 외에도, 다음 화합물들이 각각 언급될 수 있다.
Figure kpo00003
Figure kpo00004
Figure kpo00005
Figure kpo00006
예를들어, N-4-플루오로벤질-N-사이클로펜틸-아민과 페닐 이소시아네이트를 출발물질로 사용할 경우에 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 본 발명에 따른 반응과정은 다음 반응도식으로 설명된다.
Figure kpo00007
Figure kpo00008
일반식(Ⅰ)화합물의 제조에 사용되는 바람직한 일반식(Ⅱ)의 2급 아민 및 일반식(Ⅲ)의 (티오-)이소시아네이트는 Ar, R2및 R1라디칼이 본 발명에 따르는 일반식(Ⅰ)의 바람직하고 특히 바람직한 화합물에서 이미 언급된 바와같은 의미를 갖는 화합물이다.
본 발명의 방법에 사용되는 일반식(Ⅱ)의 2급 아민은 신규 화합물이다. 일반식(Ⅲ)화합물의 제조방법은 이하에서 더욱 상세히 설명한다. 사용된 일반식(Ⅱ)의 이소시아네이트는 일반적으로 공지된 화합물이다.
일반식(Ⅱ)의 2급 아민과 일반식(Ⅲ)의 (티오-)이소시아네이트와의 반응은 희석제중에서 이루어질 수 있다.
특정한 경우에 있어서, 예를들어 반응성분이 반응 온도에서 액체일 경우에는 희석제 없이 반응을 수행한다. 본 반응은 희석제중에서 수행하는 것이 바람직하다.
불활성 유기용매, 예를들면 에테르(예 : 디옥산), 탄화수소(예 : 사이클로헥산), 방향족 탄화수소(예 : 벤젠 및 톨루엔), 염소화 탄화수소(예 : 클로로포름), 및 니트릴(예 : 아세토니트릴)이 희석제로서 사용될 수 있다.
일반식(Ⅱ)의 2급 아민 1몰당 약 100 내지 500ml의 희석제를 사용한다.
본 발명의 반응은 -20°내지 150℃, 바람직하게는 0°내지 100℃에서 수행한다.
특별한 경우에, 예를들어 반응 온도가 사용된 용매의 비점보다 높은 경우에 반응은 약 20바아(bar)까지의 승압하에서 이루어질 수 있다. 본 반응은 상압하에서 수행하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르는 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하기 위한 반응은, 예를들어 다음과 같이 수행할 수 있다.
희석제중의 2급 아민을 먼저 반응기에 넣고 얼음으로 냉각시키면서 혼합물중에 이소시아네이트를 가한다. 이 혼합물을 실온에서 약 1/2시간동안 교반한후 30°내지 60℃의 약간 상승된 온도에서 약 1/2시간동안 교반한다. 희석제를 증류시켜 제거한후에, 수득되는 본 발명에 따른 우레아는 결정법에 의해 정제할 수 있다.
이미 언급한 바와같이, 본 발명의 방법에 사용되는 일반식(Ⅱ)의 2급 아민은 신규하며, 이반식(Ⅳ)의 알드이민을 수소화시켜 제조한다. 예를들어, 4-플루오로벤즈알데히드-사이클로 펜틸이민과 수소화붕소나트륨을 출발물질로 사용할 경우에는 일반식(Ⅱ)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따른 반응은 다음 반응도식으로 설명된다.
Figure kpo00009
일반식(Ⅱ)의 2급 아민의 제조에 사용된 일반식(Ⅳ)의 알드이민은 신규하다. 바람직한 일반식(Ⅳ)의 알드이민은 R1및 Ar이 본 발명에 따르는 일반식(Ⅰ)의 바람직하고 특히 바람직한 화합물에서 이들 라디칼에 대해 이미 언급된 의미를 갖는 화합물이다. 일반식(Ⅳ)의 알드이민의 제조방법은 이하에서 더욱 상세히 설명된다.
일반식(Ⅱ)의 2급 아민의 제조에 있어서, 착금속 수소화물, 예를들어 리튬 알라네이트, 수소화붕소 나트륨 및 코발트 카보닐 수소화물을 수소화제로 사용하는 것이 바람직하며, 특히 수소화붕소 나트륨이 바람직하다. 일반식(Ⅳ)의 알드이민 1몰당 약 1몰의 수소화제를 사용한다.
적절한 희석제로는 에탄올, n-프로판올, 이소-프로판올 및 n-부탄올, 특히 바람직하게는 메탄올 등의 지방족 알콜과 같은 알콜이 바람직하다.
이 반응은 -20°내지 60℃, 바람직하게는 -10°내지 40℃의 온도에서 수행된다.
반응은, 예를들어 다음과 같이 수행한다.
수소화제와 알콜을 먼저 반응기중에 넣는다. 얼음으로 냉각시키면서 이 혼합물중에 일반식(Ⅳ)의 알드이민을 적가한 다음, 혼합물을 실온에서 대략 1.5시간동안 교반한다. 사용된 알콜과 거의 동량의 물을 서서히 가한다. 이 혼합물을 염소화 탄화수소를 사용하여 통상의 방법으로 추출한다.
일반식(Ⅱ)의 2급 아민은 증류법 및/또는 결정법에 의해 분리시킬 수 있다.
예를들어, 4-플루오로벤즈알데히드와 사이클로펜틸아민을 사용할 경우에 일반식(Ⅳ)의 알드이민을 제조하는 본 발명에 따른 과정은 다음 반응 도식으로 설명된다.
Figure kpo00010
Figure kpo00011
일반식(Ⅳ)의 알드이민 제조에 사용되는 일반식(Ⅵ)의 아민과 일반식(Ⅴ)의 알데히드는 Ar과 R1이 본 발명에 따른 일반식(Ⅰ)의 바람직하고 특히 바람직한 화합물의 설명에서 이들 라디칼에 대해 정의된 의미를 갖는 화합물이 바람직하다.
일반식(Ⅴ)의 알데히드와 일반식(Ⅵ)의 아민은 일반적으로 공지의 화합물이다.
일반식(Ⅴ)의 알데히드와 일반식(Ⅵ)의 아민과의 반응은 희석제중에서 수행하는 것이 바람직하다. 염소화탄화수소(예 : 클로로포름 및 디클로로메탄)를 사용하는 것이 바람직하다.
이 반응은 0 내지 100℃의 온도, 바람직하게는 20 내지 50℃의 온도에서 수행한다.
이 반응은 예를들어, 다음과 같이 수행한다.
희석제중에 용해된 일반식(Ⅴ)의 알데히드를 먼저 용기중에 도입한다. 이 화합물중에 일반식(Ⅵ)의 아민을 적가한다. 발열반응이 끝나면, 이 혼합물을 실온에서 약 1시간동안 교반한다. 일반식(Ⅳ)의 알드이민은 통상의 방법으로 분리하여 정제한다.
본 발명에 따르는 활성 화합물은 강력한 살균 활성을 나타내며, 실제로 원치않는 미생물의 구제에 사용할 수 있다. 활성 화합물은 식물 보호제로 사용하기에 적합하다.
식물 보호 분야에서의 살진균제는 플라스모디오포로마이세테스 (Plasmodiophoromycetes), 우마이세테스(Oomycetes), 키트리디오마이세테스 (Chytridiomycets), 지고마이세테스(Zygomycetes), 아스코마이세테스(Ascomycets), 바시디오마이세테스(Basidiomycetes) 및 듀테로마이세테스(Deuteromycetes)의 구제에 사용된다.
식물병을 구제하기에 필요한 농도에서 본 발명의 활성 화합물은 식물에 대해 좋은 내성이 있기 때문에, 식물의 지상부위, 생장 번식 줄기 및 종자 및 토양처리에 사용할 수 있다.
본 발명에 따르는 활성 화합물의 벼에 있어서의 펠리큐라리아 사사키(Pellicularia sasakii)에 대한 우수한 활성이 특히 눈에 띈다. 또한, 우마이세테스와 개선 진규(Scab fungi)에 대한 우수한 작용도 주목할만 하다.
본 발명의 활성 화합물은 통상적인 제제, 예를들면, 액제, 유제, 현탁제, 산제, 포말제, 페이스트제, 입제, 에어로졸제, 활성 화합물을 주입시킨 천연 및 합성물질, 중합성물질 및 종자용 코팅 조성물내의 매우 미세한 캅셀제, 및 훈증용 카트리지, 훈증용 캔 및 훈증용 코일과 같은 연소장치에 사용하는 제제, 및 ULV 냉분무 및 온분무 제제로 전환시킬 수 있다.
이들 제제는 공지의 방법으로 제조할 수 있으며, 예를들면, 활성 화합물을 임의로 계면활성제, 즉, 유화제 및/ 또는 분산제 및/ 또는 기포 형성제를 사용하여 증량제, 즉 액체 또는 액화 개스 또는 고체 희석제 또는 담체와 혼합하여 제조한다. 증량제로 물을 사용하는 경우에는 예를들면, 유기용매를 보조 용매로 사용할 수도 있다.
액체 희석제 또는 담체, 특히 용매로는 주로 크실렌, 톨루엔 또는 알킬 나프탈렌과 같은 방향족 탄화수소 ; 클로로벤젠, 클로로에틸렌 또는 메틸렌클로라이드와 같은 염소화 방향족 또는 염소화 지방족 탄화수소 ; 사이클로헥산 또는 파라핀(예를들어, 광유 획분)과 같은 지방족 또는 지환족 탄화수소 ; 부탄올 또는 글리콜과 같은 알콜 및 이들의 에테르 및 에스테르 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸 이소부틸케톤, 또는 사이클로헥사논과 같은 케톤 ; 또는 디메틸포름아미드 및 디메틸설폭사이드와 같은 강한 극성 용매 뿐아니라 물이 있다.
액화 개스 희석제 또는 담체는 상온 및 상압하에서는 기체상태인 액체를 의미하며, 예를들면 할로겐화 탄화수소와, 예를들어 부탄, 프로판, 질소 및 이산화탄소 등의 에어로졸 추진제가 있다.
고체 담체로는 카올린, 점토, 탈크, 백악, 석영, 애터펄자이트, 몬트모릴로나이트 또는 규조토와 같은 분쇄된 천연 광물, 및 고분산 규산, 알루미나 및 실리케이트와 같은 분쇄된 합성 광물이 사용될 수 있다. 입제용 고체 담체로는 방해석, 대리석, 경석, 해포석, 및 백운석과 같은 분쇄되고 분별된 천연암석 뿐아니라, 유기 및 무기밀(meal)의 합성 과립, 및 톱밥, 코코낱 껍질, 옥수수속대 및 담배줄기와 같은 유기물질의 과립이 사용될 수 있다.
유화제 및/또는 기포형성제로는 비이온성 및 음이온성 유화제, 예를들면 폴리옥시 에틸렌-지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌-지방 알콜 에테르(예를들어, 알킬아릴폴리글리콜 에테르), 알킬 설포네이트, 알킬 설페이트, 아릴 설포네이트 및 알부민 가수분해 산물등이 사용될 수 있다. 분산제에는 예를들어, 리그닌 설파이트 폐액 및 메틸 셀룰로우즈가 포함된다.
제제에는 아라비아고무, 폴리비닐 알콜 및 폴리비닐 아세테이트와 같은 분말, 과립 또는 격자 형태의 천연 및 합성 중합체 및 카복시메틸셀룰로우즈와 같은 점착제가 사용될 수 있다.
착색제, 예를들면 산화철, 산화 티타늄 및 프러시안 블루와 같은 무기안료, 및 알리자린 염료, 아조염료 또는 금속 프탈로시아닌 염료와 같은 유기염료, 및 철, 망간, 붕소, 동, 코발트, 몰리브덴 및 아연의 염과 같은 미량영양소를 사용할 수 있다.
제제는 일반적으로 0.1 내지 95중량 %의 활성 화합물, 바람직하게는 0.5 내지 90중량 %의 활성 화합물을 함유한다.
본 발명에 따르는 활성 화합물은 제제 또는 기타 공지된 활성 화합물, 예를들어, 살진균제, 살균제, 살충제, 살비제, 살선충제, 제초제, 조류기피제, 성장인자, 식물 영양소 및 토양 구조 개선제와의 혼합물인 사용형내에 존재할 수 있다.
활성 화합물은 제제형으로 사용되거나 그 제제를 더 희석하여 제조한 사용형, 예를들면, 즉시 사용가능한 액제, 유제, 현탁제, 산제, 페이스트제 및 입제로 사용될 수 있다. 이들은 통상의 방법, 예를들어, 살수(watering), 액침(immersion), 분부(spraying), 애토마이징(atomizing), 미스팅(misting), 기화(vaporizing), 주입(injecting), 슬러리형(forming a slurry), 브러싱(brushing), 살분(dusting), 살포(scattering), 건식 드레싱(dry dressing), 습식 드레싱(moist dressing), 습윤 드레싱(wet dressing), 슬러리 드레싱(slurry dressing) 또는 외피형성(encrusting) 등의 방법으로 사용될 수 있다.
특히 식물 부분의 처리에 있어서, 사용형의 활성 화합물의 농도는 광범위하게 변화시킬 수 있는데, 일반적으로 1 내지 0.0001중량 %, 바람직하게는 0.5 내지 0.001중량 %이다.
종자 처리시에는 종자 1kg당 활성 화합물 0.001 내지 50g, 바람직하게는 0.01 내지 10g이 일반적으로 필요하다.
토양 처리시에는 활성 화합물 0.00001 내지 0.1중량 %, 바람직하게는 0.0001 내지 0.02중량 %의 농도가 필요하다.
본 발명은 고체 또는 액화 개스 희석제 또는 담체와의 혼합물 또는 계면활성제를 함유하는 액체 희석제 또는 담체와의 혼합물내에 활성 성분으로서 본 발명에 따른 화합물을 함유하는 살진균 조성물도 제공한다.
본 발명은 또한 본 발명 화합물을 단독으로, 또는 희석제 또는 담체와의 혼합물내에 활성 성분으로서 본 발명의 화합물을 함유하는 조성물의 형태로 진균 또는 그 서식지에 적용함을 특징으로하는 진균의 구제 방법도 제공한다.
본 발명은 또한 성장기 또는 성장기 직전에 본 발명의 화합물을 단독으로 또는 희석제 또는 담체와의 혼합물로 적용하여 농작물의 성장 지역내에서 성장하는 진균에 의한 손상으로부터 보호된 작물을 제공해준다.
본 발명으로 인하여 작물을 수확하는 통상의 방법이 개선되었음을 확실히 알 수 있다.
본 화합물의 살진균 작용은 다음의 생체시험 실시예로 상세히 설명한다.
이 실시예에서 본 발명에 따른 화합물은 각각 상응하는 제조실시예의 번호(괄호안)로 구별된다.
[실시예 A]
펠리큐라리아 시험(벼)
용매 : 아세톤 12.5중량부
유화제 : 알킬아릴 폴리글리콜 에테르 0.3중량부
1중량부의 활성 화합물을 상기 지정량의 용매와 혼합하고 농축물을 물 및 지정량의 유화제로 희석하여 소기의 농도로 만들어 적합한 활성 화합물의 제제를 제조한다. 활성도를 시험하기 위하여, 3 내지 4엽 단계의 어린벼에 활성 화합물의 제제를 축축히 젖을 때까지 분무한다. 이들이 완전히 건조할때까지 온실에 둔다. 식물을 펠리큐라리아 사사키로 접종시키고 25℃, 상대습도 100%로 보존한다.
질병 감염을 평가하는 것은 접종후 5 내지 8일이다.
본 시험에서, 화합물(1), (9) 및 (13)은 종래의 화합물에 비해 확실히 우수한 효과를 보여주었다.
[제조 실시예]
[실시예 1]
Figure kpo00012
6.1g(0.05몰)의 페닐 이소시아네이트를 80ml의 무수 메틸렌클로라이드중의 9.65g(0.05몰)의 N-4-플루오로벤질-N-사이클로펜틸아민 용액중에 얼음으로 냉각 교반시키면서 적가한다. 혼합물을 실온에서 30분간 교반하고, 40℃에서 30분간 교반한후, 용매를 진공하에 제거하여 잔유물을 아세토니트릴로부터 재결정한다. 융점이 120 내지 121℃인 N-4-플루오로벤질-N-사이클로펜틸-N'-페닐우레아 14.1g이 수득된다.
[실시예 2]
Figure kpo00013
6.57g(0.05몰)의 페닐 이소티오시아네이트를 80ml의 톨루엔중의 9.65g(0.05몰)의 N-4-플루오로벤질-N-사이클로펜틸아민 용액중에 적가한다. 이 혼합물을 30분간 가열하여 비둥시키고 진공하에 용매를 증류시켜 제거한 다음 잔유물을 이소프로판올로부터 재결정한다. 융점이 135℃인 N-4-플루오로벤질-N-사이클로펜틸-N'-페닐티오우레아 13.8g이 수득된다.
표 1에 요약된 실시예의 화합물을 유사한 방법으로 제조한다.
[표 1]
Figure kpo00014
Figure kpo00015
Figure kpo00016
일반식(Ⅱ)의 2급 아민의 제조
[실시예 36]
Figure kpo00017
160ml의 메탄올을 18.2g의 수소화붕소나트륨에 가한다. 얼음으로 냉각, 교반하면서 10 내지 15℃에서 90.7g의 4-플루오로벤즈알데히드-사이클로펜틸이미드를 적가한 다음 이 혼합물을 실온에서 1.5시간동안 교반한다. 120ml의 물과 150ml의 메틸렌 클로라이드를 가하고, 메틸렌 클로라이드 상을 분리한 다음 수상을 CH2Cl2로 2회 더 추출한다. 메틸렌 클로라이드 상을 모아서 물로 세척하고 Na2SO4로 건조시킨후 진공하에서 용매를 제거한다. 중등도의 진공하에서 잔유물을 증발시키면 비점이 106℃/0.25바아인 N-4-플루오로벤질-N-사이클로펜틸아민 85.9g이 수득된다.
표2에 요약된 실시예의 화합물을 유사한 방법으로 제조한다.
Figure kpo00018
일반식(Ⅳ)의 알드이민의 제조
[실시예 44]
Figure kpo00019
42.5g의 사이클로펜틸아민을 150ml의 메틸렌 클로라이드 중의 62g(0.5몰)의 p-플루오로벤즈알데히드의 용액중에 적가한다. 약간의 발열반응이 끝난후, 혼합물을 실온에서 1시간 더 교반하여 생성된 물을 분리시키고 메틸렌 클로라이드를 Na2SO4로 건조시킨 다음, 여과하고 용매를 진공하에 증류시켜 제거한다. 오일상 잔유물을 증류시키면 비점이 109℃/0.28바아인 4-플로오로-벤즈알데히드-사이클로펜틸이미드 90.7g이 수득된다.
동일한 방법에 따라 제조된 다른 화합물은 표3에 기재하였다.
[표 3]
Figure kpo00020

Claims (18)

  1. 일반식(Ⅱ)의 2급 아민을 -20°내지 150℃의 온도에서 일반식(Ⅲ)의 (티오-)이소시아네이트와 반응시킴을 특징으로하여, 하기 일반식(Ⅰ)의 (티오-)우레아를 제조하는 방법.
    Figure kpo00021
    상기식에서, R1은 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼, 메틸에 의해 치환된 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼, 또는 불소수 1 내지 3의 플루오로에틸을 나타내고 ; R2는 페닐, 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼, 또는 탄소수 1 또는 2의 알킬이거나, 불소, 염소, 메틸, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 트리플루오로메틸티오 및 1-디플루오로-2-프루오로-2-클로로에톡시로 구성된 그룹중에서 선택된 치환체로 치환된 페닐을 나타내며 ; Ar은 페닐, 또는 할로겐, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시 및 트리플루오로메틸티오로 구성된 그룹중에서 선택된 치환체로 치환된 페닐을 나타내고 ; R1, R2및 Ar 라디칼중의 적어도 하나는 불소 또는 불소-함유 치환체를 함유하며 ; X는 산소 또는 황원자이다.
  2. 제1항에 있어서, 반응을 희석제로 존재하에서 수행함을 특징으로하는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 희석제가 불활성 유기 용매임을 특징으로하는 방법.
  4. 제1 내지 3항중의 어느 한 항에 있어서, 반응을 0°내지 100℃의 온도에서 수행함을 특징으로하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 실시예 1 내지 35중의 어느 하나에 서술된 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법.
  6. 일반식(Ⅳ)의 알드이민을 희석제중에서 수소화제에 반응시킴을 특징으로하여, 일반식(Ⅱ)의 2급 아민을 제조하는 방법.
    Figure kpo00022
    상기식에서, Ar은 페닐, 또는 할로겐, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시 및 트리플루오로메틸티오로 구성된 그룹중에서 선택된 치환체로 치환된 페닐을 나타내고, R1은 탄소수 5 내지 6의 사이클로알킬 라디칼, 메틸에 의해 치환된 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼, 또는 불소수 1 내지 3의 플루오로에틸을 나타내며, Ar 및 R1라디칼중의 적어도 하나의 불소 또는 불소-함유 치환체를 함유한다.
  7. 제6항에 있어서, 수소화제가 착금속 수소화물임을 특징으로하는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 착금속 수소화물이 수소화붕소나트륨임을 특징으로하는 방법.
  9. 제6항 내지 8항중의 어느 한 항에 있어서, 희석제가 알콜임을 특징으로하는 방법.
  10. 제6항에 있어서, 반응을 -20 내지 60℃의 온도에서 수행함을 특징으로하는 방법.
  11. 제6항에 있어서, 실시예 36 내지 43중의 어느 하나에 서술된 일반식(Ⅱ)의 2급 아민을 제조하는 방법.
  12. 일반식(Ⅴ)의 알데히드를 0 내지 100℃의 온도에서 일반식(Ⅵ)의 1급 아민과 반응시킴을 특징으로하여, 일반식(Ⅳ)의 알드이민을 제조하는 방법.
    Figure kpo00023
    상기식에서, Ar은 페닐, 또는 할로겐, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시 및 트리플루오로메틸티오로 구성된 그룹중에서 선택된 치환체로 치환된 페닐을 나타내고, R1은 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼, 메틸에 의해 치환된 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼, 또는 불소수 1 내지 3의 플루오로에틸을 나타내며, Ar 및 R1라디칼중의 적어도 하나는 불소 또는 불소-함유 치환체를 함유한다.
  13. 제12항에 있어서, 반응을 희석제의 존재하에서 수행함을 특징으로하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 희석제가 염소화 탄화수소임을 특징으로하는 방법.
  15. 제12 내지 14항중의 어느 한 항에 있어서, 반응을 20 내지 50℃의 온도에서 수행함을 특징으로하는 방법.
  16. 제12항에 있어서, 실시예 44 내지 51항중의 어느 하나에 서술된 일반식(Ⅳ)의 알드이민을 제조하는 방법.
  17. 제1항에 있어서, R1이 메틸에 의해 임의로 치환된 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼, 또는 불소원자 1 내지 3개를 함유하는 플루오로에틸을 나타내고, R2가 탄소수 1 또는 2의 알킬 라디칼, 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼, 또는 임의로 치환된 페닐 또는 나프틸 라디칼을 나타내며, 라디칼 R1, R2및 Ar중의 적어도 하나는 불소 또는 불소-함유 치환체를 함유하며, X가 산소 또는 황원자를 나타내는 일반식(1)의 화합물을 제조하는 방법.
  18. 제1항에 있어서, R1이 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼, 또는 불소원자 1 내지 3개를 함유하는 플루오로에틸을 나타내고, R2가 탄소수 1 또는 2의 알킬 라디칼, 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬 라디칼 또는 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내며, Ar이 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고, 라디칼 R2및 Ar중의 적어도 하나는 불소 또는 불소-함유 치환체를 함유하며, X가 산소 또는 황원자를 나타내는 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법.
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