Claims (9)
스테이지수단위에 반도체장치를 배치하는 과정과, 상기 배치된 반도체장치 위에 광원수단에 의해 발생되는 접속된 광빔을 주시하는 과정, 상기 반도체장치에서 반사되어온 광을 검출하는 과정, 접속된 광빔이 반사된 반사위치와 상기 광원수단사이의 거리에 대응되는 출력신호를 발생시키는 과정 및, 상기 출력신호와 미리 지정된 기준레벨을 비교하는 과정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체장치의 검출방법.Arranging a semiconductor device in units of stages, observing a connected light beam generated by a light source means on the arranged semiconductor device, detecting light reflected from the semiconductor device, and reflecting the reflected light beam Generating an output signal corresponding to a distance between a position and the light source means, and comparing the output signal with a predetermined reference level.
제 1 항에 있어서, 상기 접속된 광빔의 주사과정이 상기 반도체장치를 움직여 줌으로써 수행되도록 된것을 특징으로 하는 반도체장치의 검사방법.The method of claim 1, wherein the scanning of the connected light beams is performed by moving the semiconductor device.
제 1 항에 있어서, 다수의 본딩와이어가 설치된 반도체장치에 대해서 접속된 광빔을 주사시켜 주는 과정에는 상기 각 본딩와이어를 광빔에 노출시켜 주는 과정이 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 검사방법.The method of claim 1, wherein the scanning of the light beam connected to the semiconductor device having a plurality of bonding wires comprises exposing each of the bonding wires to a light beam.
제 1 항에 있어서, 다수의 외부리이드가 설치된 반도체장치에 대해서 접속된 광빔을 주사시켜 주는 과정에는 상기 각 외부리이드를 광빔에 노출시켜 주는 과정이 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 검사방법.2. The method of claim 1, wherein the scanning of the light beam connected to the semiconductor device having a plurality of external leads comprises exposing each external lead to a light beam.
반도체장치를 지지하기 위한 스테이지수단과, 접속된(촛점이 맞춰진)광빔을 발생시켜 주는 광원수단, 반도체장치위에 접속된 광빔을 주사해주는 주사수단, 상기 반도체장치에서 반사되어 온 광을 감지해서 접속된 광빔이 반사된 반사지점과 상기 광원수단사이의 거리에 대응되게 검출되는 출력신호를 발생시켜 주는 검출수단 및, 이 검출수단에 의해 발생되어진 출력신호의 레벨과 미리 정해진 기준레벨을 비교해 주는 비교수단이 갖추어져서 구성된 것을 특징으로 하는 반도체장치의 검사장치.Stage means for supporting the semiconductor device, light source means for generating a connected (focused) light beam, scanning means for scanning a light beam connected on the semiconductor device, and sensing and connected the light reflected from the semiconductor device. Detection means for generating an output signal detected corresponding to the distance between the reflection point where the light beam is reflected and the light source means, and comparing means for comparing the level of the output signal generated by the detection means with a predetermined reference level; An inspection apparatus for semiconductor devices, comprising:
제 5 항에 있어서, 상기 주사수단은 반도체장치상에 주사되는 접속된 광빔의 주사위치에 대응되는 부호화된 신호를 발생시켜 주는 부호화수단을 갖추고 있는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 검사장치.6. The inspection apparatus of claim 5, wherein the scanning means has encoding means for generating an encoded signal corresponding to the dice of the connected light beams scanned on the semiconductor device.
제 5 항에 있어서, 상기 광원수단이 레이저수단과, 이 레이저수단으로 부터의 광을 접속시켜 주는(촛점을 일치시켜주는) 렌즈수단을 갖추고 있는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 검사장치.6. An inspection apparatus according to claim 5, wherein the light source means comprises a laser means and lens means for connecting (focusing) light from the laser means.
제 5 항에 있어서, 상기 주사수단이 반도체장치상에 주사되게 되는 접속된 광빔을 이동시켜 주는 이동수단을 갖추고 있는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 검사장치.6. An inspection apparatus for a semiconductor device according to claim 5, wherein said scanning means is provided with a moving means for moving a connected light beam to be scanned onto said semiconductor device.
제 5 항에 있어서, 상기 주사수단이 반도체장치상에 접속된 광빔을 주사시켜 주기 위해 반도체장치를 이동시켜 주는 이동수단을 갖추고 있는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 검사장치.6. An inspection apparatus for a semiconductor device according to claim 5, wherein said scanning means is provided with a moving means for moving the semiconductor device to scan a light beam connected on the semiconductor device.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.