KR880009076A - 비오염성 및 미오염성 오존균열방지제 - Google Patents

비오염성 및 미오염성 오존균열방지제 Download PDF

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KR880009076A KR1019880000211A KR880000211A KR880009076A KR 880009076 A KR880009076 A KR 880009076A KR 1019880000211 A KR1019880000211 A KR 1019880000211A KR 880000211 A KR880000211 A KR 880000211A KR 880009076 A KR880009076 A KR 880009076A
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그레고리 길리크 제임스
앤드류 쿠즈코우스키 죠세프
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카알 에이치 크루코우
더 굳이어 타이어 앤드 러버 캄파니
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Abstract

내용 없음.

Description

비오염성 및 미오염성 오존균열방지제
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (57)

  1. 오존분해에 민감한 고무 및 오존균열방지 유효량의 화합물로 이루어진 고무 조성물에 있어서, 상기 화합물이 하기 일반식(I) 내지 (V)로 표시되는 화합물로 이루어진 그룹중에서 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
    상기식에서, G는 >N-R3,-0-및 -S-로 이루어진 그룹중에서 선택되고; R1, R2, R3, R4, R5,R7,R8,R10,R11,R13,R14,R15및 R16은 독립적으로 (a) 탄소수 1 내지 25의 알킬 라디칼; (b) 탄소수 3 내지 25의 사이클로알킬 라디칼; (c) 탄소수 6 내지 25의 아릴 라디칼; 및 (d) 다음 일반식(A),(B) 및 (C)로 표시되는 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되며:
    [여기서, R17,R18,R19및 R20은 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 25의 치환되거나 비치환된 알킬 라디칼, 및 탄소수 6 내지 25의 치환되거나 비치환된 아릴 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되며; π은 1 내지 6의 정수이다]; R3은 또한 수소일 수도 있고; R6, R9및 R12는 상기 정의된 그룹(a),(b) 및 (c)의 라디칼중에서 선택되며; 그룹 (a),(b) 및 (c)의 라디칼은 비치환되거나 치환될 수 있으며, 단 (a) 또는 (b)로부터의 라디칼이 아미노그룹으로 치환되는 경우, 라디칼의 α 원자에는 아미노그룹으로 치환되지 않으며, R6는 티오아미드그룹으로서 디티오옥스아미드를 형성할 수 있고, R6는 비치환되거나 알킬-치환된 4-하이드록시페닐 라디칼이 아니며, 또한 R9는 시아노알킬그룹이 아니고, R9가 헤테로원자로 치환된 경우, 헤테로원자는 β 또는 β위치 이상의 탄소원자상에서 치환되어야 하며; R10, R11및 R12중 탄소원자의 합은 8내지 50개이고, 다음 라디칼의 쌍, 즉, R4및 R5, R4및 R6, R5및 R6, R7및 R8, R7및 R9, R8및 R9,R10및 R11, R10, 및 R12, R11및 R12, R13및 R14, R13및 R15, 및 R14및 R15는 환 구조를 형성할 수 있지만, 단, R9와 함께 형성된 환은 설폴-함유 환으로 더 치환되지 않는다.
  2. 고무 및 적어도 하나의 화합물로 이루어진 고무 조성물에 있어서, 상기 화합물이 하기 일반식(VI) 내지 (X)으로 표시되는 화합물로 이루어진 그룹중에서 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
    상기식에서, G는 >N-R23,-0- 및 -S-로 이루어진 그룹중에서 선택되고; R21,R22및 R23은 독립적으로 (a) 탄소수 1 내지 25의 알킬 라디칼; (b) 탄소수 3 내지 25의 사이클로알킬 라디칼; (c) 탄소수 6 내지 25의 아릴 라디칼; 및 (e) 하기 일반식(D),(E) 및 (F)로 표시되는 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되며;
    [여기서, R37,R38,R39및 R40은 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 25의 알킬 라디칼, 및 탄소수 6 내지 25의 아릴 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되며; π은 I 내지 6의 정수이다]; 그룹 (a),(b) 및 (c)의 라디칼은 비치환되거나 치환될 수 있으며, 단 (a) 또는 (b)로부터의 라디칼이 아미노그룹으로 치환되는 경우, 라디칼의 α 원자에는 아미노그룹으로 치환되지 않으며, 또한 R23은 수소일 수도 있으며; G가-0-인 경우 R21및 R22중 적어도 하나는 그룹(e)중의 라디칼중에서 선택되어야만 하고; R24,R25및 R26은 R21에 대해 지정된 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되는데, 단 R26은 비치환되거나 알킬-치환된 4-하이드록시페닐 라디칼은 아니고; R26은 티오아미드그룹으로서 디티오옥스아미드를 형성할 수 있으며; R27,R28및 R29는 R21에 대해 지정된 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되는데, 단 R27및 R28중 적어도 하나는 그룹(e)중의 라디칼중에서 선택되어야만 하고; R30,R31및 R32는 R21에 대해 지정된 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되는데, 단 R30,R31및 R32중 탄소원자의 합은 8 내지 50이며; R33,R34,R35및 R36은 R21에 대해 지정된 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되는데, 단 R33,R34,R35및 R36중 적어도 하나는 그룹(e)중의 라디칼중에서 선택되고; 다음 라디칼의 쌍, 즉, R24및 R25, R24및 R26,R25및 R26, R27및 R28, R27및 R29, R28및 R29, R30및 R31, R30및 R32,R31및 R12, R33및 R34, R33및 R35, 및 R34및 R35는 환 구조를 형성할 수 있다.
  3. 하기 일반식(XI) 내지(XV)로 표시되는 화합물로 이루어진 그룹중에서 선택됨을 특징으로 하는 물질.
    상기식에서, G는>N-R43,-S- 및-O-로 이루어진 그룹중에서 선택되고; R41,R42및 R43은 독립적으로 (a) 탄소수 1 내지 25의 알킬 라디칼; (b) 탄소수 3 내지 25의 사이클로 알킬 라디칼; (c) 탄소수 6 내지 25의 아릴 라디칼; 및 (f) 하기 일반식 (H),(J) 및 (K)로 표시되는 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되며;
    [여기서, R57,R58,R59및 R60은 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 25의 알킬 라디칼 및 탄소수 6 내지 25의 아릴 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택되며; π은 1 내지 6의 정수이다]; 그룹 (a),(b) 및 (c)의 라디칼은 비치환되거나 치환될 수 있으며, 단 (a) 또는 (b)로부터의 라디칼이 아미노그룹으로 치환되는 경우, 라디칼의 α원자에는 아미노그룹으로 치환되지 않으며; G가 >N-R43인 경우, R41,R42및 R43중 적어도 하나는 그룹(f)의 라디칼중에서 선택되며; G가-0-인 경우에는, R41및 R42중의 적어도 하나는 그룹(f)의 라디칼중에서 선택되고; G가-S-이면, R41은 상기 정의된 바와 같고, R42는 적어도 3개의 탄소원자를 함유하여야 하지만, 단 R41이 페닐인 경우에는 R42는 페닐 또는 P-클로로페닐이 아니며; R44,R45,R46,R47,R48,R49,R50,R51,R52,R53,R54,R55및 R56은 독립적으로 상기 그룹(a),(b),(c) 및 (f)로 이루어진 그룹중에서 선택되지만, 단 일반식(XII),(XIII),(XIV) 또는 (XV)에 있어서 질소원자에 결합된 라디칼중 적어도 하나는 그룹(f)중에서 선택되며; R46은 티오아미드그룹으로서 디티오옥스아티드를 형성할 수 있다.
  4. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 테트라하이드로-5-(3급) -부틸-1,3-디-n-부틸-(S)트리아진 티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 테트라하이드로-5-사이클로헥실-1,3-디-n-부틸(S)-트리아진 티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 테트라하이드로-5-사이클로헥실-1,3-디에틸-(S) -트리아진 티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 테트라하이드로-3,5-디부틸-1,3,5-옥사디아진-4-티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 테트라하이드로-1,3-디-(4-아닐리노페닐)-5-부틸-(S)-트리아진 티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 테트라하이드로-1,3-디-(4-아닐리노페닐) -5-(3급)-옥틸-(S)-트리아진 티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 1,3-디-(4-이소프로필아미노페닐)-5-부틸-(S)-트리아진 티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 1,3-디-(4-이소프로필아미노페닐)-5-3급-옥틸-(S)-트리아진 티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  12. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 N,N,N',N'-테트라부틸디티오옥스아미드를 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  13. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 비스-피롤리디노디티오옥스아미드를 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  14. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 테트라하이드로-3,5-디부틸-1,3,5-티아디아진-4-티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  15. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 1,3-디메틸-1,3-비스-(4-디에틸아미노페닐)-티오우레아를 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  16. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 N-(4-아닐리노페닐)-N-(1,3-디메틸부틸)-디티오카바메이트 메틸 에스테르를 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  17. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 N-(4-아닐리노페닐)-N-(1,3-디메틸부틸)-티오카바메이트-O-메틸 에스테르를 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  18. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 N,N-(옥시디에틸렌)-벤젠카보티오아미드를 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  19. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 N,N-(옥시디에틸렌)-페닐에탄티오아미드를 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  20. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량을 N,N-(옥시디에틸렌)-페닐프로판티오아미드를 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  21. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 N,N-(옥시디에틸렌)-4-메틸펜탄티오아미드를 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  22. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 N,N-(옥시디에틸렌)-헥산티오아미드를 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  23. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 테트라하이드로-1,3,5-트리부틸-(S)-트리아진 티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  24. 제1항에 있어서, 오존균열방지 유효량의 테트라하이드로-1,3-비스-[4-(1,3-디메틸부틸아미노)-페닐]-5-옥틸-(S)-트리아진 티온을 함유함을 특징으로 하는 고무 조성물.
  25. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-5-(3급) -부틸-1,3-디-n-부틸-(S) -트리아진 티온임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  26. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-5-사이클로헥실-1,3-디-n-부틸-(S) -트리아진 티온임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  27. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-5-사이클로헥실-1,3-디에틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  28. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3-디-(4-아닐리노페닐)-5-부틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  29. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3-디-(4-아닐리노페닐)-5-3급-옥틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  30. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 1,3-디-(4-이소프로필아미노페닐)-5-부틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  31. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 1,3-디-(4-이소프로필아미노페닐)-5-3급-옥틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  32. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 N,N,N',N'-테트라부틸디티오옥스아미드임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  33. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 비스-피롤리디노 디티오옥스아미드임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  34. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-3,5-디부틸-1,3,5-티아디아진-4-티온임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  35. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 1,3-디메틸-1,3-비스-(4-디에틸아미노페닐)-티오우레아임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  36. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 N-(4-아닐리노페닐)-N-(1,3-디메틸부틸)-디티오카바메이트 메틸 에스테르임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  37. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 N-(4-아닐리노페닐)-N-(1,3-디메틸부틸)-티오카바메이트-O-메틸 에스테르임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  38. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 N,N-(옥시디에틸렌)-벤젠카보티오아미드임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  39. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 N,N-(옥시디에틸렌)-페닐에탄티오아미드임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  40. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 N,N-(옥시디에틸렌)-페닐프로판티오아미드임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  41. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 N,N-(옥시디에틸렌)-4-메틸펜탄티오아미드임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  42. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 N,N-(옥시디에틸렌)-헥산티오아미드임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  43. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3,5-트리부틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  44. 제2항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3-비스-[4-(1,3-디메틸부틸아미노)-페닐]-5-옥틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 고무 조성물.
  45. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3-비스-(4-디에틸아미노페닐)-5-부틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 물질.
  46. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3-비스-(4-디메틸아미노페닐)-5-3급-옥틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 물질.
  47. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3-디-(4-아닐리노페닐)-5-부틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 물질.
  48. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3-디-(4-아닐리노페닐)-5-3급-옥틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 물질.
  49. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3-디-(4-이소프로필아미노페닐)-5-부틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 물질.
  50. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3-디-(4-이소프로필아미노페닐)-5-3급-옥틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 물질.
  51. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-3,5-디부틸-1,3,5-티아디아진-4-티온임을 특징으로 하는 물질.
  52. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 1,3-디메틸-1,3-비스-(4-에틸아미노페닐)-티오우레아임을 특징으로 하는 물질.
  53. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 N-(4-아닐리노페닐)-N-(1,3-디메틸-부틸)-디티오카바메이트 메틸 에스테르임을 특징으로 하는 물질.
  54. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 N-(4-아닐리노페닐)-N-(1,3-디메틸-부틸)-티오카바네이트-O-메틸에스테르임을 특징으로 하는 물질.
  55. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 N-(4-디에틸아미노페닐)-N-메틸페닐프로판티오아미드임을 특징으로 하는 물질.
  56. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 N-(4-에톡시페닐)-N-메틸-4-메틸펜탄티오아미드임을 특징으로 하는 물질.
  57. 제3항에 있어서, 상기 화합물이 테트라하이드로-1,3-비스-[4-(1,3-디메틸-부틸아미노)페닐]-5-옥틸-(S)-트리아진 티온임을 특징으로 하는 물질.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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