KR870000438A - 열처리 방법과 그 실시를 위한 후드 및 열처리로에서의 후드의 사용법 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

열처리 방법과 그 실시를 위한 후드 및 열처리로에서의 후드의 사용법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제2도는 개방로의 도식도.

제3a도 및 3b도는 본 발명에서 사용하는 후드의 정면도 및 단면도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

H1 : 장입구역 HZ : 고온열처리구역

GZ : 냉각구역 H₂: 배출구역

GI₁,GI₂,GI₃,GI₄: 주입지점 (100) : 불활성개스 공급용관

(101), (102) : 천공판 (103) : 예비-주입실

(104), (110) : 암석섬유의 블랭킷 (105) : 주입실

(106) : 상부벽 (107) : 개스팽창실

(108) : 제2의 천공벽 (109) : 하부벽

(113), (114) : 내화막

J₁: 후드내에 질소가 없는 경우에서의 CO/CO₂의 농도비.

J₂: 후드의 내화막 사이에 균일한 유선형 질소흐름이 있는 경우의 CO/CO₂의 농도비.

D₁: 후드가 없는 경우의 수소농도.

D₂: 본 발명에 따른 방법을 사용한 경우의 수소농도.

E₁: 후드를 갖지 않는 경우의 이산화탄소의 농도.

E₂: 후드를 갖는 경우의 이산화탄소의 농도.

F₁: 후드를 갖지 않는 경우의 이슬점의 차.

F₂: 후드를 갖는 경우의 이슬점의 차.

Claims (18)

1. 이동가능한 지지물에 의해 연속로 속으로 연속해서 처리될 부품들을 장입하는 연속로 내에서 상기 부품들을 열처리하는 방법에 있어서, 주어진 조성의 분위기를 주입받는 하나이상의 열처리 구역과, 상기로 속으로의 공기유입을 피하기 위해 처리 조건하에서 불활성 또는 비활성 개스의 분위기를 발생시키는 수단을 포함하는 상기 연속로의 주입구 및/또는 배출구 구역을 포함하고, 상기 불활성 또는 비활성 개스의 분위기는 처리될 상기 부품들의 공급방향을 통과하는 면내에서 주입되는 상당히 균질한 개스스크린에 의해 형성되고, 상기 불활성 또는 비활성개스는 상기 개스스크린의 높이에 걸쳐 상당히 유선흐름 상태가 유지되는 조건하에서 주입되는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.
2. 제1항에 있어서, 불활성 또는 비활성 개스의 스크린은 실질적으로 상기로의 높이에 걸쳐 연장되는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.
3. 제2항에 있어서, 불활성 또는 비활성개스의 분위기를 발생시키는 수단은 상기 불활성 또는 비활성개스의 스크린을 하방으로 주입하기 위해 실질적으로 이동가능한 지지물까지 연장되는 두개의 내화재료 스크린을 포함하는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.
4. 제1항 내지 3항 중의 어느 한 항에 있어서, 상당히 균질한 개스스크린은 불활성 또는 비활성개스의 상방 주입에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는 열처리방법.
5. 제4항에 있어서, 상기 불활성 또는 비활성개스는 실질적으로 수직한 면내에서 주입되는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.
6. 제1항 내지 5항 중의 어느 한 항에 있어서, 불활성 또는 비활성개스의 분위기를 생성하는 수단은 최소한 상기 연속로의 주입구에 배치되고, 상기 수단에 의해 주입되는 상기 불활성 또는 비활성개스의 유속은 상기 개스의 분위기를 생성하는 수단내에 불활성 또는 비활성개스의 흐름이 없을 경우에 측정한 상기 로내로 유입되는 공기의 유속에 상당하는 것을 특징으로 하는 열처리방법.
7. 제1항 내지 6항 중의 어느 한항에 있어서, 상기 열처리로는 두개의 개스 주입지점들을 포함하고, 상기 개스들은 상기의 두 개스 주입지점 사이에 동등한 압력구역이 유지되도록 상기 두 지점에서 동등한 압력으로 주입되고, 그리고 상기 주입된 개스는 상기 구역의 각 측방향으로 흐르는 것을 특징으로 하는 열처리 방법.
8. 제1항 내지 7항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 로내의 개스압력은 다음의 식들 :

   Pa<Ph 최대<Pt 최대>Pf 최대>Pa

   또는 Pa<Ph 최대<Pf 최대>Pt 최대>Pa

   중의 어느 하나와 관계되고, 여기서

   Pa는 대기압;

   Ph 최대는 후드내의 최대압력 ;

   Pt 최대는 열처리 구역내의 최대압력;

   Pf 최대는 상기로의 냉각구역내의 최대압력인 것을 특징으로 하는 열처리방법.
9. 제1항 내지 8항 중의 어느 한 항을 따른 열처리 방법의 실시를 위한 후드에 있어서, 천공된 바닥을 갖는 주입실 내로 비활성 개스를 주입하기 위한 수단, 상기 개스흐름의 각 측면에 위치되고 상기 스크린의 면내에 위치되는 축을 중심으로 이동가능하며 처리될 부품들의 통로내에 위치되게끔 배치되는 하나 이상의 내화스크린을 포함하고, 상기 후드는 또한 스크린의 높이를 통해 상당히 균질한 유선개스의 스크린을 상기 내화스크린 사이에 생성시키기 위해 상기 흐름 구역내에 실질적인 압력강하를 발생시키지 않으면서도, 상기 천공된 판의 배출구에서 상기 개스흐름에 매우 맞은 속도를 주도록 상기 주입실의 천공된 바닥에 배치되는 상기 비활동성 개스에 대해 투과성을 허용하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 후드.
10. 제9항에 있어서, 상기 주입실은 후드를 장착하는 상기로의 폭에 상당하는 길이를 갖으며, 실질적으로 사각형인 천공된 바닥을 포함하고, 상기 비활성 불활성 개스의 속도는 상기 천공된 판에 걸쳐 상기 통로의 매 지점에서 실질적으로 동일하고 그리고

    1000 X n X(a+b)/(p X a X b)

    보다 낮은데, 여기서

    n=주위 온도에서 상기 불활성 중성개스의 점도

    p=정상 조건하에서 중성개스의 체적량

    a=로의 폭

    b=확산 판의 깊이

    인 것을 특징으로 하는 후드.
11. 제9항 또는 10항에 있어서, 상기 개스는 주입실 내로 개스가 들어가 방향에 관하여 실질적으로 대칭적인 방식으로 상기 주입실내로 주입되는 것을 특징으로 하는 후드.
12. 제9항 또는 10항에 있어서, 상기 주입실으로의 주입은 예비-주입실을 통해 일어나고, 상기 예비주입실은 불활성개스의 침투를 허용하고 그리고 개스가 상기 주입실을 투과할 시, 상기 개스의 흐름 구역내에 실질적인 압력강하를 발생시키지 않으면서 상기 개스에 매우 낮은 속도를 부여해주는 수단에 의해 상기 주입실로부터 분리되는 것을 특징으로 하는 후두.
13. 제12항에 있어서, 상기 예비-주입실을 또한 개스의 투과를 허용하는 수단을 그 사이에 배치하는 두개의 천공된 벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 후드.
14. 제9항 내지 13항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 주입실의 높이는 개스의 투과를 허용하는 수단의 두께보다 2배 이상인 것을 특징으로 하는 후드.
15. 제9항 내지 14항 중의 어느 한 항에 있어서, 개스의 투과를 허용하는 상기 수단을 소결재료, 암석섬유, 유리섬유, 석영섬유로 부터 선택되는 것을 특징으로 하는 후드.
16. 제9항 내지 15항 중의 어느 한 항에 있어서, 개스의 투과를 허용하는 상기 수단의 두께는 상기 주입실의 천공된 면적을 통해 실질적으로 동일하고 그리고 2센티미터 이하인 것을 특징으로 하는 후드.
17. 제9항 내지 16항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 주입실의 높이는 실질적으로 일정한 것을 특징으로 하는 후드.
18. 열처리 로들에 상기 제9항 내지 17항 중의 어느 한 항을 따르는 것을 특징으로 하는 후드의 사용법.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.