KR850005443A - 이미다조디아제핀 유도체의 제조방법 - Google Patents

이미다조디아제핀 유도체의 제조방법 Download PDF

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KR850005443A
KR850005443A KR1019850000293A KR850000293A KR850005443A KR 850005443 A KR850005443 A KR 850005443A KR 1019850000293 A KR1019850000293 A KR 1019850000293A KR 850000293 A KR850000293 A KR 850000293A KR 850005443 A KR850005443 A KR 850005443A
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KR1019850000293A
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훈켈러 발터 (외 1)
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쟝 자크 오게이, 노베르트 에이. 코통
에프. 호프만-라 롯쉬 앤드 캄파니 아크티엔게젤샤프트
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    • C07D487/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
    • C07D487/02Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
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Abstract

내용 없음

Description

이미다조디아제핀 유도체의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (21)

  1. a)하기 일반식(Ⅱ)의 화합물(여기서,Q는 그룹-COR6(a)이고, R6는 수소 또는 저급알킬이다)을 일반식 H2NOR7의 화합물(Ⅲ)(여기서 R7은 저급알킬이다)과 반응시키거나; b)일반식(Ⅱ)의 화합물(여기서 Q는 그룹 -C(R6)=NOH(b)이고, R6은 수소 또는 저급알킬이다)을 염기의 존재하에 일반식 X'-R7의 화합물(Ⅳ)(여기서,X'는 이탈그룹이고, R7은 저급알킬이다)과 반응시키거나, c)일반식(Ⅱ)의 화합물(여기서 Q는 하기그룹(c)내지 (m)중의 한가지를 나타낸다.)을 환화시키고, 필요에 따라,수둑한 화합물을 탈수소화시키거나,
    상기 식에서, Y및 Y'는 각각 산소 또는 황원자이고, Z는 산소원자 또는 그룹 -NR8-(여기서 R8은 수소 또는 저급알킬이다)이고, Z'는 황원자 또는 그룹-NH-이고, R 은 수소, 저급알킬, (C₃-C6)-사이클로알킬, 저급알콕시-저급알킬 또는 하이드록시이고, R´는 수소, 저급알킬,(C3-C6)-사이클로알킬, 저급알콕시-저급알킬 또는 페닐이고, R˝는 수소, 저급알킬,(C3-C6)-사이클로알킬 또는 저급알콕시-저급알킬, 트리플루오로메틸 또는 페닐이고, R´˝는 수소, 저급알킬, (C3-C6)-사이클로알킬 또는 저급알콕시저급알킬이다.] d)일반식(Ⅲ)의 화합물(여기서, Q는 그룹-CONHNH-COR"(g')이고, R˝는 상기에서 정의한 바와 같다)을 오황화인, 암모니아 또는 저급 일급 알킬아민의 존재하에 환학시키거나; e) 일반식(Ⅱ)의 화합물(여기서, Q는 그룹 -C≡N→O(n)이다)을 저급알콕시에 의해 임의로 치환된저급알킬니트릴(C3-C6)-사이클로알킬-니트릴, 또는 저급알킬, 저급알콕시-저급알킬 또는 (C3-C6), 사이클로알킬에 의해 임의로 일- 또는 이치환된 에틸렌 또는 아세틸렌과 반응시키거나, 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물(여기서,Q는 그룹 -CN=(0)이다)을 저급알콕시에 의해 임의로 치환된 저급알킬기트릴 산화물, 또는 (C3-C6)-사이클로알킬니트릴산화물과 반응시킨후, 필요에 따라, 수득된 화합물을 탈수화 시키거나; f)하기 일바식(Ⅱ)의 화합물(여기서, Q는 그룹-CH=O(p), -CH=NR81(q)또는 -N=CHRIV(r)이고, R81은 저급알킬이며, RIV는 저급알킬, (C3-C6)-사이클로알킬 또는 저급알콕시-저급알킬이다)을 염기의 존재하에 P-톨루엔설포니메틸 이소시아나이드와 반응시키거나; g)하기 일반식(Ⅱ)의 화합물(여기서, Q는 하기 그룹(s) 내지 (w)중의 한가지 그룹을 나타낸다)을 환화시킨 후, 필요에 따라, 수득된 화합물을 탈수소화시키거나;
    상기 일반식에서, R,R'및 R˝´는 상기에서 정의한 바와 같고, RV는 수소, 저급알킬, (C3-C6)-사이클로알킬, 저급알콕시-저급알킬 또는 저급알콕시이다.] h) 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물(여기서, Q는 그룹-CO-NH-CH₂-C≡C-RIV(x)이고, RVI은 수소, (C1-C6)-알킬 또는 저급알콕시-(C1-C6)-알킬이다) 을 아세트산제(Ⅱ)수은과 반응시키거나; i)하기 일반식(Ⅴ)의 화합물을 염기에 존재하에 하기 일반식 (ⅩⅩ)의 이소니트릴과 반응시키거나; j)필요에 따라, 수득된 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제약학상 허용되는 산부가염으로 전환시킴을 특징으로 하여, 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물 및 이의 제약학상 허용되는 산부가염을 제조하는 방법.
    상기 일반식에서, A는 α및 β로 표시된 2개의 탄소원자들과 함께 하기 그룹중의 한가지를 나타내며;
    점선은 상기 그룹(1),(2)및 (4) 경우의 이중결함을 나타내며: R¹은 5- 또는 6-원 방향족 헤테로사이클릭그룹, 또는 그룹-C(R6)=MOR7(B)를 나타내고 : R²는 수소이고, R3는 수소 또는 저급알킬을 나타내거나, R2및 R3가 함께 디메틸렌, 트리메틸렌 또는 프로페닐렌을 나타내고 : R4및 R5는 각각 수소, 할로겐, 트리플루오로메틸, 시아노, 니트로, 아미노 또는 저급알킬을 나타내고 ; R6는 수소 또는 저급알킬을 나타내고 :R7은 저급알킬을 나타내며 :Q는 상기 그룹(a)내지 (x)중의 한가지를 나타내며: 단, R2및 R3가 함께 디메틸렌, 트리메틸렌 또는 프로페닐렌을 나타낼 경우 γ로 나타낸 탄소원자는 (s)또는 (R,S)배위를 나타내고, X˝는 이탈그룹이다.
  2. 제1항에 있어서, 헤테로사이클릭그룹이, 환맴버로서의 산소원자, 황원자 또는 그룹 >NR8(여기서 R8은 수소 또는 저급알킬이다.)과 임의로 한개 또는 두개의 질소원자를 더 함유하며 탄소원자를 통해 결합되어 있는 5-원 방향족 헤테로사이클릭그룹, 질소원자를 통해 결합되어 있으며 임의로 환맴버로서 한개 또는 두개의 부가 질소원자를 더 함유하는 5-원 방향족 헤테로사이클릭그룹, 또는 환맴버로서 세개까지의 질소원자를 함유하며 탄소원자를 통해 결함되어 있는 6-원 방향족 헤테로사이클릭그룹이며, 비치환되거나 저급알킬, (C3-C6)-사이클로알킬, 트리플루오로메틸, 페닐, 아미노, 저급알킬아미노, 저급알콕시-저급알킬 또는 하이드록시에 의해 탄소원자상에서 치환된 그룹임을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항 및 제2항에 있어서, A가 그룹(1)이고, 헤테로사이클릭 그룹이 비치환되거나 저급알킬, 트리플루오로메틸, 페닐, 아미노, 저급알킬아미노 또는 하이드록시에 의해 탄소원자상에서 치환된 그룹인 제1항에서 정의한 일반식(Ⅰ)의 화합물을 방법 a)내지 g),i)및 j)에 따라 제조함을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, A 가 그룹(Ⅰ)이고 헤테로사이클릭그룹이 (C3-C6)-사이클릭알킬 또는 저급알콕시-저급알킬에 의해 탄소상에 치환된 그룹인 제1항에서 정의한 일반식(Ⅰ)의 화합물을 방법 a)내지 g),i)및 j) 에 따라 제조함을 특징으로 하고 방법.
  5. 제1항에 있어서, A 가 그룹(Ⅰ)이고, R2가 수소이고, R3가 수소 또는 메틸이며, R4및 R5중 한가지가 수소이고 그 나머지는 수소, 염소, 불소, 또는 니트로일경우, R1은 (C1-C3)-알킬에 의해 3-위치가 치환된 1,2,4-옥사디아졸-5-일 또는 (C1-C3)-알킬에 의해 5-위치가 치환된 1,2,4-옥사디아졸-3-일이아님을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, R1은 그룹 -C(R6)=NOR7, 또는 환맴버로서의 산소원자 또는 황원자 및 한개나 두개의 질소원자를 함유하며 저급알킬,(C3-C6)-사이클로알킬 또는 트리플루오로메틸에 의해 임의로 치환된 5-원 방향족 헤테로사이클릭 그룹이고, R6는 수소 또는 저급알킬이며 R7은 저급알킬임을 특징으로 한 방법.
  7. 제6항에 있어서, R6가 수소, 또는 두개의 헤테로원자에 인접한 탄소원자를 통하여 결함되어 있는 헤테로 사이클릭그룹인 방법.
  8. 제6항에 있어서, R1이 저급알킬 또는 (C3-C6)-사이클로알킬에 의해 임의로 치환된 1,2,4-옥사디아졸-3-일, 1,2,4-옥사디아졸-5-일 또는 1,3,4-옥사디아졸-2-일 그룹임을 특징으로 하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, R1이 3-메틸-1,2,4-옥사아졸-5 또는 3-사이클로프로필-1,2,4-옥사디아졸-5-일인 방법.
  10. 제1 내지 9항중 어느 한가지항에 있어서, R2가 수소이고, R3가 저급알킬이거나 R2및 R3가 함께 디메틸렌 또는 트리메틸렌이며, R2및 R3가 함께 디메틸렌 또는 트리메틸렌일 경우γ로 나타낸 탄소원자가 (s)배위를 이루고 있음을 특징으로하는 방법.
  11. 제1 내지 10항중 어느 한가지항에 있어서, A가 그룹(1)이고, R4는 수소, 할로겐 또는 트리플루오로-메틸이며, R5는 수소 또는 할로겐임을 특징으로 하는 방법.
  12. 제1항에 있어서, 7-클로로-3-(3-사이클로프로필-1,2,4-옥사디아졸-5-일)-5,6-디하이드로-5-메틸-4H-이미다조[1,5-a] [1,4]벤조디아제핀-6-온을 제조합을 특징으로 한 방법.
  13. 제1항에 있어서, (s)-8-클로로-7-플루오로-11,12,13,13a-테트라하이드로-1-(3-메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일)-9H-이미다조[1,5-a]-피롤로[2,1-c][1,4]벤조디아제핀-9-온을 제조합을 특징으로 하는 방법.
  14. 제1항에 있어서, (s)-8-브로모-11,12,13,13a-테트라하이드로-1-(3-메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일)-9H-이미다조[1,5-a]피롤로[2,1-c][1,4]벤조디아제핀-9-온을 제조함을 특징으로 하는 방법.
  15. 제1항에 있어서, (s)-8-클로로-11,12,13,13a-테트라하이드로-1-(3-메틸-1,2 ,4-옥사디아졸-5-일)-9H-이미다조[1,5-a]피롤로[2,1-c][1,4]벤조디아제핀-9-온을 제조합을 특징으로 하는 방법.
  16. 제1항에 있어서,(s)-8-클로로-12,12a-디하이드로-1-(3-메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일)-9H,11H-아제로[2,1-c]이미다조[1,5-a][1,4]벤조디아제핀-9-온을 제조합을 특징으로 하는 방법.
  17. 제1항에 있어서, (s)-12,12a-디하이드로-1-(3-메틸-1,2,4-옥사디아졸-5-일)-8-(트리플루오로메틸)-9H,11H-아제로[2,1-c]이미다조[1,5-a][1,4]벤조디아제핀-9-온을 제조합을 특징으로 하는 방법.
  18. 제1항에 있어서,(s)-8-클로로-(3-사이클로프로필-1,2,4-옥사디아졸-5-일)-12,12a-디하이드로-9H,11H-아제로[2,1-c]이미다조-[1,5-a][1,4]벤조디아제핀-9-온을 제조합을 특징으로 하는 방법.
  19. 제1항에 있어서,(s)-8-클로로-1-(3-사이클로프로필-1,2,3-옥사디아졸-5-일)-11,12,13,13a-테트라하이드로-9H-이미다조[1,5-a]피롤로-[2,1-c][1,4]벤조디아제핀-9-온을 제조함을 특징으로 하는 방법.
  20. 제1항에 있어서, 3-(3-사이클로프로필-1,2,3-옥사디아졸-5-일)-8-플루오로-5,6-디하이드로-5-메틸-4H-이미다조[1,5-a][1,4]벤조디아제핀-6-온을 제조함을 특징으로 하는 방법.
  21. 제1항에 있어서,R1이 (C1-C3)-알킬에 의해 3-위치가 치환된 1,2,4-옥사디아졸-5-일 또는 (C1-C3)-알킬에 의해 5-위치가 치환된 1,2,4-옥사디아졸-3-일이고, A는 그룹(1)이며, R2는 수소이고, R³는 수소 또는 메틸이며, R4및 R5중 한가지는 수소이고 그 나머지는 수소, 염소, 불소 또는 니트로인 제1항에서 정의한 일반식(Ⅰ)의 화합물을 방법 e) 또는 i)에 의해 제조함을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019850000293A 1984-01-19 1985-01-18 이미다조디아제핀 유도체의 제조방법 KR850005443A (ko)

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