KR840007558A - 살균성 아닐린 유도체의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (8)
- 유효성분으로서 살균적으로 유효량의 일반식(I)의 화합물 및 불활성 담체 또는 희석제를 함유하는 살균성 조성물.상기 식중, X 및 Y는 같거나 서로 다르고, 각각 수소원자, 할로겐원자, 저급알킬기, 할로(저급)알킬기, 저급 알콕시기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 시아노기, 히드록시이미노 메틸기, 저급 알콕시이미노메틸기 또는 일반식 -CH2OR2,또는의 기(식중 R2는 저급 알킬기이고, R3는 저급 알킬기 저급 알케닐기 또는 저급 알키닐기이며, R4는 저급알킬렌기이다)이며, X 및 Y중 하나가 수소 원자일 때 다른 하나는 수소원자가 아니고; R1은 할로(저급)알케닐기, 할로(저급)알키닐기, 시아노기, 히드록시(저급)알킬기, 저급알콕시(저급)알케닐기, 저급 알콕시(저급)알키닐기, 시아노(저급)알킬기 또는 일반식 -CH2R5,또는 -SO2R7(식중 R5는 저급알콕시 카르보닐기, 아실기 또는 저급 알킬티오기이고, R6는 저급알킬기, 저급알콕시기 또는 저급알킬아미노기이며, R7은 저급알킬기, 할로(저급)알킬기 또는 저급알킬아미노기이다)이며; Z는 수소원자, 히드록실기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 저급알콕시 카르보닐(저급)알킬기 또는 일반식또는 -SR9의 기(식중 R8은 저급알킬기, 시클로(저급)알킬기 또는 페닐기이고, R9은 저급알킬기, 저급알콕시카르보닐기 또는 페닐기이다)이고; A는 산소원자 또는황원자이며; B는 저급알킬기, 저급알케닐기, 시클로(저급)알킬기, 페닐기 또는 일반식-W-R10의 기(식중 W는 산소원자 또는 황원자이고, R10은 시클로(저급)알킬기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 할로(저급)알케닐기, 할로(저급)알키닐기, 시클로(저급)알킬(저급)알킬기, 또는 할로겐, 시아노, 저급알콕시, 페닐, 저급알케닐옥시, 할로(저급)알콕시, 페녹시 및 아르(저급)알콕시의 군에서 선택된 것으로 치환된 저급 알킬기)이다.
- 제1항에 있어서, 또 다른 활성 성분으로서 하나이상의 벤즈이미다졸, 티오파네이트 및 시클릭이미드 살균제를 함유하는 살균성조성물.
- 제2항에 있어서, 벤즈 이미다졸 살균제가 메틸 1-(부틸 카르바모일)벤즈이미다졸-2-일 카르바메이트, 2-(2-푸릴)벤즈이미다졸, 2-(4-티아졸릴)벤즈이미다졸 및 메틸 벤즈이미다졸-2-일 카르바메이트로부터 선택되고, 티오파네이트 살균제가 1,2-비스(3-메톡시카트보닐-2-티오우레이도)벤젠, 1,2-비스(3-에톡시카트보닐-2-티오우레이도)벤젠, 2-(O,S-디메틸포스포릴아미노)-1-(3′-메톡시카르보닐-2′-티오우레이도)벤젠 및 2-(O,O-디메틸티포오스포릴아미노)-1-(3′-메톡시카르보닐-2′-티오우레이도)벤젠으로부터 선택되며, 시클릭이미드 살균제가 3-(3′,5′디클로로페닐)-1,2-디메틸시클로프로판-1,2-디카르복시미드, 3-(3′,5′-디클로로페닐)-1-이소프로필카르바모일 이미다졸리딘-2,4-디온, 3-(3′,5′-디클로로페닐)-5-메틸-5-비닐옥사졸리딘-2,4-디온 및 에틸(RS)-3-(3′,5′-디클로로페닐)-5-메틸-2,4-디옥소옥사졸리딘-5-카르복실레이트로부터 선택된 살균성 조성물.
- 일종 이상의 하기 일반식(I)의 화합물의 살균적으로 유효량을 식물병균에서 사용함을 특징으로 하는 식물병균의 억제방법.(상기식중 X, Y, Z, A, B 및 R1은 각각 제1항에 정의한 바와 같다).
- 제4항에 있어서, 식물병균이 약제저항성 군주인 방법.
- 일종이상의 하기 일반식(I)의 화합물 및 일종 이상의 벤즈이미다졸, 티오파네이트 및 시클릭이미드 살균제의 혼합물의 살균적 유효량을 사용함을 특징으로 하는 식물병균의 억제방법.(상기식중 X, Y, Z, A, B 및 R1은 각각 제1항에 정의한 바와 같다).
- 하기 일반식(I)의 화합물의 이용(상기식중 X, Y, Z, A, B 및 R1은 각각 제1항에 정의한 바와 같다).
- (a) 하기 일반식(상기식중 X, Y, Z 및 R1은 하기에 정의한 바와 같다)의 화합물을 하기 일반식,(상기 식중 A 및 B는 하기에 정의한 바와 같고, R11은 수소원자이다)의 할라이드, 또는 하기 일반식(상기식중 A는 하기에 정의한 바와같고, B′는 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급시클로 알킬기 또는 페닐기이다)의 무수물과 반응시켜 화합물(I)을 수득하거나;(b) 하기 일반식(상기식중 X, Y, R1및 A는 하기에 정의한 바와 같다)의 화합물을 하기 일반식(상기식중 W 및 R10은 하기에 정의한 바와 같다)의 알콜 또는 티오알콜과 반응시켜 Z가 수소원자이고 B가 일반식 -W-R10(W 및 R10은 하기에 정의한 바와 같다)의 기인 화합물(I)을 수득하거나;(c) 하기 일반식(상기식중 X, Y, R1, A 및 B는 하기에 정의한 바와 같다)의 화합물을 하기 일반식(상기식중 Z는 하기에 정의한 바와같고, R12는 이탈기이다)의 화합물과 반응시켜 화합물(I)을 수득하거나;(d) 하기 일반식(상기식중 X, Y, Z, A 및 B는 하기에 정의한 바와 같다)의 화합물을 하기 일반식(상기식중 R1는 하기에 정의한 바와 같고, R13은 이탈기이다)의 화합물과 반응시켜 화합물(I)을 수득하거나;(e) 하기 일반식(상기식중 Y, Z, A, B 및 R1은 하기에 정의한 바와 같다)의 화합물을 히드록실아민 또는 저급 알콕시 아민과 반응시켜 X가 히드록시이미노 메틸기 또는 저급알콕시 이미노메틸기인 화합물(I)을 수득함을 특징으로 하는 일반식(I)의 화합물의 제조방법.(상기식중, X 및 Y는 같거나 서로 다르고, 각각 수소원자, 할로겐원자, 저급알킬기, 할로(저급)알킬기, 저급알콕시기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 시아노기, 히드록시이미노메틸기, 저급 알콕시 이미노메틸기 또는 일반식 -CH2OR2,또는의 기(식중 R2는 저급 알킬기이고, R3는 저급알킬기, 저급알케닐기 또는 저급알키닐기이며, R4는 저급 알킬렌기이다)이며, X 및 Y중 하나가 수소원자일 때 다른 하나는 수소원자가 아니고; R1은 할로(저급)알케닐기, 할로(저급)알키닐기, 시아노기, 히드록시(저급)알킬기, 저급알콕시(저급)알케닐기, 저급알콕시(저급)알키닐기, 시아노(저급)알킬기 또는 일반식 -CH2R5,또는 -SO2R7(식중는 저급 알콕시카르보닐기, 아실기 또는 저급알킬티오기 R5는 저급알킬기, 저급알콕시기 또는 저급 알킬아미노기이며, R6은 저급알킬기, 할로(저급) 알킬기 또는 저급 알킬아미노기이다)이며; R는 수소원자, 히드록실기, 저급알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 저급알콕시 카르보닐(저급) 알킬기 또는 일반식또는 -SR9의 기(식중 R8은 저급알킬기, 시클로(저급)알킬기 또는 페닐기이고, R9은 저급알킬기, 저급 알콕시 카르보닐 또는 페닐기이다)이고; A는 산소원자 또는 황원자이며; B는 저급알킬기, 저급알케닐기, 시클로(저급)알킬기, 페닐기 또는 일반식 -W-R10의 기(식중 W는 산소 원자 또는 황원자이고 R10은 시클로(저급)알킬기, 저급알케닐기, 저급알키닐기, 할로(저급)알케닐기, 할로(저급)알케닐기, 할로(저급) 알키닐기,시클로(저급) 알킬(저급) 알킬기 또는 할로겐, 시아노, 저급알콕시, 페닐, 저급알케닐옥시, 할로(저급)알콕시, 페녹시 및 아르(저급) 알콕시의 군에서 선택된 것으로 치환된 저급 알킬기이다)이며, 단 3,5-디클로로-4-시아노옥시메타크릴아닐리드, 3-메틸-4-시아노옥시메타크릴아닐리드 및 2-클로로-4-아세틸아미노-6-메틸페닐-메틸 카르바메이트는 포함되지 않는다.)※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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