KR840001734A - 패턴 식별 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제7a도는 본 발명에 따른 비데오 처리기의 블록 다이어그램.
제7b도는 중앙에 위치한 테스트 엘리먼트의 상태를 결정하기 위한 격자 메트릭스의 일부분상에 놓여진 엘리먼트들의 테스트 구성도.
제9a-9b도는 패턴 독출을 행하는 동안의 광 세기 제어동작을 예시한 기능적 흐름도.
Claims (27)
- 예상한 패턴 크기, 간격 및 라인폭에 각기 접근하고, 패턴 이송매체 위의 규정통로를 따라 정열되어 배치되며, 각기 적어도 1개의 주지의 상호 다른 패턴들의 집합으로부터 선택된 연속적인 미지의 분리된 라인 패턴들을 직렬로 판독하기 위한 시스템으로; 상기 매체를 조명하기 위한 수단; 점진적으로 진행하는 영역내에서 상기 매체의 패턴 이송면의 단일 영역 엘리먼트로부터 어떤 일정순간 반사되는 빛에 해당하는 진폭을 각기 갖는 다수의 출력신호를 발생시키도록 상기 통로를 따라 상기 점진적으로 진행하는 영역으로부터 반사되는 빛을 감응하기 위한 수단; 상기 출력신호를 주기적으로 샘플링시키기 위한 수단; 상기 영역 엘리먼트들 각각의 어떤 패턴라인 존재 또는 부존재를 각기 나타내는 상기 샘플링 된 출력신호로부터 상태표시를 유도하기 위한 수단; 저장수단; 상기 매체 표면의 상기 영역 엘리먼트에 대응하는 메트릭스 엘리먼트로 된 가상적인 어떤 격자 메트릭스 위에 상기 미지의 패턴들을 공동으로 나타내는 상기 상태 표시를 상기 저장수단의 적절한 어드레스에 기억시킴으로써 상기 미지의 패턴들의 지도를 작성하기 위한 수단; 연속 샘플링 된 출력신호로부터 유도된 상기 상태 표시들에게서 라인 존재 표시들의 주행 카운트를 실행하기 위한 수단; 상기 카운트에서 피이크들을 검출하기 위한 수단; 상기 격자 메트릭스 위의 상기 미지의 패턴 지도의 예상 위치점들에 따라 상기 검출된 피이크들로부터 피이크를 선택하기 위한 수단; 상기 예상 위치점들 중 1위치점을 각기 포함할 뿐만 아니라 그 안에 어떤 미지의 패턴을 내포하는 상기 격자 메트릭스의 제한부분들을 정의하기 위한 수단; 미지 패턴의 위치가 상기 격자 메트릭스에 정밀하게 정의되어질 때까지 상기 격자 메트릭스 부분 각각의 영역을 연속적으로 감소시키기 위한 수단; 미지 패턴 각각의 지도와 상기 주지패턴 집합의 주지패턴 각각의 지도를 상기 격자 메트릭스 상에 위치 정의 가능한 그 엘리먼트기리 연속 비교하여 대응적으로 위치한 엘리먼트들 간의 동일성을 결정하기 위한 수단과, 상기 동일 엘리먼트들을 상기 주지 패턴 집합의 주지 패턴 각각과 연합된 최대 차이 지도의 엘리먼트들과 연속 비교하여 대응적으로 위치한 엘리먼트들간의 동일성을 결정하기 위한 수단을 포함하여, 상기 미지패턴 각각을 상기 주지패턴들에 관하여 확인하기 위한 수단; 상기 마지막으로 언급한 비교에 따라 얻어진 가장 큰 상관지수를 상기 주지패턴 집합의 상이한 패턴에 대해 결정하기 위한 수단; 그리고 상기 가장 큰 상관 지수가 얻어진 주지 패턴을 가리키기 위한 수단으로 구성된 패턴식별장치.
- 제1항에 있어서, 주지 패턴 각각이 그 격자 메트릭스 부분내에서 다수의 가능한 위치점 각각에 대해 상기 비교를 반복하기 위한 수단; 그리고 동일한 주지패턴 지도의 미지패턴 지도와의 모든 위치 비교들로부터 얻은 최대 상관지수를 선택하여, 상기 주지패턴 집합의 상이한 주지패턴 지도들과의 상기 미지 패턴 지도의 비교들로부터 상기 가장 큰 상관지수를 결정하는데 사용하기 위한 수단을 추가적으로 포함한 패턴식별장치.
- 제1항에 있어서, 상기 통로를 따라 상기 미지 패턴들의 예상 간격과 부합되는 상기 피이크들을 선택하기 위한 수단을 추가적으로 포함한 패턴 식별장치.
- 제3항에 있어서, 비교를 실행하기 위해 상기 첫 번째 및 두 번째 인용한 수단이 각기 익스클루시브 오알 회로와 논리적인 앤드 회로로 구성된 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제3항에 있어서, 상기 출력신호들로부터 상태표시를 유도하기 위한 수단이; 상기 표면의 어떤 대응 영역 엘리먼트에서 반사된 빛에 해당하는 규정된 다수의 빛의 세기 레벨의 하나로서 상기 출력신호들 각각의 진폭을 저장하기 위한 수단; 시험중인 엘리먼트에 관해 대칭적으로 그리고 규정형태로 정열되어 있는 다수의 인접 영역 엘리먼트를 위해 저장된 빛의 세기 레벨 평균에 관하여 일정지역 엘리먼트를 위해 저장된 빛의 세기 레벨을 시험할 뿐만 아니라, 상기 평균 빛의 세기 레벨을 상기 시험 엘리먼트를 위해 저장된 빛의 세기레벨과 비교하기 위한 수단을 포함한 수단; 그리고 상기 시험 엘리멑느의 빛의 세기 레벨이 상기 평균 빛의 세기 레벨보다 더 낮으냐 또는 더 높으냐에 다라 상기 시험 엘리먼트에 대한 라인 존재 또는 라인 부존재 상태표시를 저장하기 위한 수단을 포함하고 있는 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제1항에 있어서, 상기 패턴들을 판독하기 위한 요망 빛의 세기가 동작시 조우하는 상태에 따라 변화하며; 추가적으로 가변적인 광원과, 상기 동작시 어떤 일정시간에 요망한 빛의 세기에 연속적으로 근접하는 식으로 상기 광원에 의해 마련되는 실제적인 빛의 세기를 변동시키기 위한 수단을 포함하여, 실제적인 빛의 세기가 요망된 빛의 세기 변동을 신속히 따라갈 수 있는 능력을 지닌 패턴 식별장치.
- 제6항에 있어서, 상기 출력신호를 공급하도록 만든 빛 감응소자 어레이, 각기 주기적으로 샘플링하는 동안 상기 출력신호를 연속적으로 주사하기 위한 수단, 그리고 상기 통로의 방향에서의 상대적인 운동을 상기 메체와 상기 어레이간에 공급하기 위한 수단을 추가적으로 포함한 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제1항에 있어서, 상기 미지 패턴들의 예상간격에 부합하도록 상기 통로를 따라 형성된 위치점에서 상기 선택된 피이크를 마련하는 수단; 상기 선택 피이크들의 카운트를 제공하는 수단; 상기 연속적인 규정된 수의 개별 패턴들과 동일한 피이크 카운트 임계치를 상기 저장수단에 저장시키기 위한 수단; 상기 선택된 피이크 카운트를 상기 피이크 카운트 임계치에다 비교시기기 위한 수단; 그리고 상기 카운트에 의해 상기 피이크 카운트 임계치에 도달했을 때 상기 미지패턴 각자의 격자 메트릭스 부분내에서 미지패턴 분리를 개시하도록 상기 마지막 언급한 비교수단에 반응하는 수단으로 구성된 패턴 식별장치.
- 제8항에 있어서, 상기 미지 패턴들의 예상간격에 부합하도록 상기 통로를 따라 형성된 위치점들에서만 상기 검출된 피이크들로부터 피이크를 선정하기 위한 수단; 상기 선정된 피이크들 중에서 가장 큰 것을 선택하기 위한 수단; 상기 선택된 가장 큰 피이크의 위치와 걸치는 영역에서 데이터의 Q개의 주사를 지우기 위한 수단; 상기 저장 데이터의 나머지 부분에서 라인 존재 신호들을 계수하기 위한 수단; P개의 주사를 행하는 동안 상기 마지막 언급한 신호의 주행하는 합을 결정하기 위한 수단; 상기 마지막으로 언급된 주행합에서 피이크들을 검출하기 위한 상기 피이크 검출수단을 포함한 수단; 상기 마지막 검출된 피이크들로부터 가장 큰 피이크를 선택하는 전술한 과정을 반복시키기 위한 수단; 상기 선택된 피이크들의 카운트를 공급하기 위한 수단; 상기 연속적인 규정수의 별개 패턴들과 동일한 피이크 카운트 임계치를 상기 제2 저장 순수단에 저장하기 위한 수단; 상기 선택된 피이크들을 상기 피이크 카운트 임계치에다 비교시키기 위한 수단; 그리고 상기 카운트에 따라 상기 피이크 카운트 임계치에 도달했을 때 상기 미지 패턴 각자의 격자 메트릭스 부분내에서 상기 미지 패턴 분리를 개시하도록 상기 마지막 언급한 비교수단에 반응하는 수단이 추가적으로 구성된 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제1항에 있어서, 상기 다이오드 어레이의 출력신호를 주기적으로 샘플링하기 위한 수단이 상기 패턴들의 라인폭의 배수 샘플링을 마련할 만큼 충분히 큰 비율로 샘플링 할 수 있도록 구성된 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제1항에 있어서, 상기 주기적으로 샘플링하기 위한 수단이, 별개의 출력신호를 발생할 수 있도록 각기 구성한 다수의 광감응 소자와, 연속적인 상기 소자의 출력신호들을 주기적으로 주사하기 위한 수단으로 구성된 특징이 있는 패턴 식별장치.
- 제1항에 있어서, 추가적으로 상기 주지패턴 각각의 적어도 1예를 공동으로 내포한 상기 다수의 매체로 이루어진 알아가고 있는 집합을 반복적으로 판독함으로써 상기 주지의 패턴 지도를 발생시키기 위한 수단; 그리고 어떤 라인의 존재 또는 부존재가 각기 상기 주지 패턴을 대부분 판독하는 동안 표시되는 반복 판독된 주지패턴 각각의 엘리먼트 각각에 대해 적절한 상태 표시를 저장하기 위한 수단을 포함한 상기 저장수단에 상기 주지의 패턴 지도들을 저장하기 위한 수단으로 구성된 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제1항에 있어서, 상기 집합을 이룬 주지 패턴들 중 첫 번째 거의 패턴 지도를 상기 집합의 나머지 패턴 각각의 패턴지도와 연속 비교하여, 상기 비교된 패턴 지도들의 대응 위치 엘리먼트들 간의 동일성을 결정함에 따라 상기 첫 번째 주지 패턴의 패턴지도 엘리먼트들과 동일한 엘리먼트들 중 가장 큰 수를 지닌 패턴지도가 가장 유사한 것으로 정의되도록 하는 수단; 상기 첫 번째 주지패턴의 지도 및 상기 가장 유사한 지도에서 대응위치 비유사 엘리먼트들을 식별하기 위한 수단; 상기 비유사 엘리먼트들만 내포하는 상기 첫 번째 주지 패턴에 대해 예비적인 최대차이 지도를 발생시키기 위한 수단; 상기 예비적인 최대차이 지도를 상기 잡합 중 남아있는 주지패턴들 각각의 패턴 지도에 연속 비교하여 대응위치의 비유사 엘리먼트들을 식별하기 위한 수단; 상기 마지막 언급한 비교 각각에서 비유사한 것으로 역시 식별된 상기 첫 번째의 주지패턴에 대해 정제된 최대 차이 지도를 발생시키기 위한 수단; 그리고 상기 집합을 이루는 주지패턴들의 나머지 패턴들에 대한 최대 차이 지도를 발생시키기 위해 상술한 과정을 반복하기 위한 수단을 포함한 상기 최대 차이 지도 발생용 수단이 추가적으로 구성된 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 예상된 패턴의 크기, 간격 및 라인폭에 각기 근접하고, 패턴 이송매체 위의 규정통로를 따라 정열되어 있으며, 주지의 상호 다른 패턴들로 된 적어도 1개의 집합으로부터 각기 선택된 연속적인 미지의 별개 라인 패턴들을 직렬로 판독하기 위한 방법으로; 상기 매체를 조명하고; 다수의 출력신호를 발생시킬 수 있도록 상기 통로를 따라 점진적으로 진행하는 영역으로부터 반사된 빛을 감응하고; 상기 출력 신호들을 주기적으로 샘플링하며; 상기 매체의 패턴 이송표면의 영역 엘리먼트에 대응하는 메트릭스 엘리먼트들을 지닌 어떤 가상적인 격자 메트릭스 위에 상기 미지의 패턴들을 나타낼 수 있도록, 상기 주기적으로 샘플링된 출력신호들로부터 유도된 데이터를 저장함으로서 상기 미지패턴의 지도를 작성하며; 미지 문자 각각의 지도를 상기 집합의 주지문자 각각의 어떤 지도와 엘리먼트끼리 연속 비교하여 그 대응위치 엘리먼트들간의 동일성을 결정하는 단계를 포함하여 상기 집합의 상기 주지패턴들에 관하여 상기 미지패턴들 각각을 식별하며; 상기 동일 엘리먼트들과 상기 집합의 주지 패턴 각각과 연합된 최대차이 지도의 엘리먼트들을 엘리먼트끼리 연속 비교하여 그 대응위치 엘리먼트들간의 동일성을 결정하며; 상기 집합의 상이한 패턴들에 대한 상기 마지막 인용한 비교들에 따라 얻어진 가장 큰 상관지수를 결정하며; 상기 가장 큰 상관 지수가 얻어진 주지의 패턴을 표시하는 단계로 구성된 패턴 식별장치.
- 제14항에 있어서, 격자 메트릭스 부분내의 주지 패턴 각각의 다수의 가능한 위치점들 각각에 대한 비교를 반복하고 상기 집합의 상이한 주지 패턴 지도들과의 상기 미지패턴 지도의 비교에서 얻은 상기 가장 큰 상관계수를 결정하는데 사용하기 위해 동일한 주지 패턴 지도의 미지패턴 지도와의 모든 위치 비교들로부터 얻은 최대 상관지수를 선택하는 단계를 추가적으로 포함한 패턴 식별방법.
- 제14항에 있어서, 주지패턴의 격자 메트릭스 부분내에서 주지패턴 각각의 다수의 가능한 위치점 각각에 대한 비교를 반복하고; 상기 집합의 상이한 주지 패턴들의 지도들과의 상기 미지패턴 지도의 비교로부터 가장 큰 상관지수를 결정하는데 사용할 수 있도록, 동일한 주지패턴 지도의 어떤 미지패턴 지도와의가능한 모든 위치 비교로부터 얻은 최대상관지수를 선택하는 단계르르 추가적으로 포함하는 패턴 식별방법.
- 제15항에 있어서, 각각으로는 상기 표면의 대응영역 엘리먼트에서 어떤 패턴라인의 존재 또는 부존재를 각기 나타내고 공동으로는 상기 격자 메트릭스 상에 상기 미지 패턴들을 나타내는 상태표시들로 상기 저장 데어터가 구성되어져 있고; 상기 미지패턴들의 식별에 앞서서 상기 격자 메트릭스 위에서 상기 미지 패턴들의 위치를 찾고; 상기 출력신호들을 연속 샘플함으로서 얻어진 상기 상태 표시들에서 라인 존재 표시들의 주행 카운트를 실행하며; 각 피이크의 근처에서 어떤 패턴의 존재에 기인하는 상기 카운트의 피이크들을 검출하며; 어떤 별개의 선택피이크의 위치를 포함할 뿐만 아니라 어떤 미지의 패턴을 각기 내포하는 상기 격자 메트릭스의 한정된 부분들을 정의하며; 상기 격자 메트릭스 부분 내의 미지패턴의 위치가 정밀하게 정의될 때까지 상기 격자 메트릭스 부분 각각의 영역을 연속적으로 줄이는 동작을 추가적으로 포함한 패턴 식별방법.
- 제16항에 있어서, 상기 피이크들이 상기 통로를 따라 상기 미지패턴들의 예상간격에 부합되도록 선택된 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제17항에 있어서, 상기 첫 번째 및 두 번째 인용한 비교가 각기 익스클루시브 오알 동작에 따라 그리고 논리적인 앤드 동작에 따라 실행되는 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제17항에 있어서, 상기 출력신호들 각각의 진폭이 어떤 일정순간에 있어서 상기 점진적으로 진행하는 영역내에 위치한 상기 표면의 어떤 영역 엘리먼트로부터 반사된 빛의 세기의 함수이고; 상기 출력신호들 각각의 진폭을 규정된 다수의 빛의 세기 레벨들의 하나로서 저장하고, 시험중인 엘리먼트에 관하여 대칭적으로 배치되고 규정된 형태로 정열된 다수의 인접영역 엘리먼트들에 대해 저장된 빛의 세기 레벨평균에 관하여 어떤 일정영역 엘리먼트를 위해 저장된 빛의 세기 레벨을 시험할 뿐만 아니라, 상기 평균적인 빛의 세기 레벨을 상기 시험 엘리먼트에 대해 저장된 빛의 세기레벨과 비교하면, 시험 엘리먼트의 빛의 세기 레벨이 각기 상기 평균적인 빛의 세기 레벨보다 더 낮으냐 또는 더 높으냐에 따라 결정되는 상기 시험 엘리먼트에 대한 라인 존재 또는 라인 부존재 상태표시를 저장하는 단계에 의해 상기 상태 신호들이 상기 출력신호들로부터 유도되는 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제14항에 있어서, 상기 패턴들을 판독하기 위해 요망된 빛의 세기가 동작시 조우하는 조건에 따라 변화하며 추가적으로 상기 동작시 어떤 일정시간에 요망한 빛의 세기에 연속적으로 근접하는 식으로 어떤 가변적인 광원에 의해 마련된 실제적인 빛의 세기를 변동시켜, 그 실제적인 빛의 세기가 요망한 빛의 세기의 변화를 신속하게 따라갈 수 있는 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제20항에 있어서, 상기 출력신호가 빛 감응소자들의 어레이에 의해 마련되어, 상기 주기적인 샘플링을 각기 행하는 동안 상기 출력신호들을 연속적으로 주사하고, 상기 통로의 방향에서 상대적인 운동을 상기 매체와 빛 감응소자 어레이간에 제공하는 단계를 추가적으로 포함하는 특징을 지닌 패턴 식별방법.
- 제17항에 있어서, 상기 미지 패턴들의 상기 통로의 예상간격에 부합되는 위치점에서만 상기 검출된 피이크들로부터 피이크들을 선정하며, 상기 선정된 피이크들의 가장 큰 것을 선택하며, 상기 선택된 가장 큰 피이크의 위치와 겹치는 어떤 영역에서 데이터의 Q개의 주사를 지우며, 상기 저장데이터의 나머지 부분에서 라인 존재 신호들을 계수하며, P개의 주사를 행하는 동안 상기 마지막 언급한 신호들의 주행합을 결정하며, 상기 마지막 언급한 주행합에서 피이크들을 검출하며, 그리고 이렇게 선택된 피이크들의 수효가 상기 연속적인 미지패턴들의 규정수효와 동일할 때까지 가장 큰 피이크를 선택하는 과정을 반복하는 단계들이 추가적으로 구성된 특징을 지닌 패턴 식별장치.
- 제22항에 있어서, 상기 Q개의 주사들이 상기 가장 큰 피이크의 대향변 위에서 각기 -2 주사 및 +16 주사에 선택적으로 위치한 특징을 지닌 패턴 식별방법.
- 제14항에 있어서, 상기 샘플링이 상기 패턴들의 라인폭의 배수샘플링을 제공할만큼 충분히 큰 비율로 일어나는 특징을 지닌 패턴 식별방법.
- 제14항에 있어서, 공동으로 상기 주지패턴들 각각의 적어도 1예를 포함한 다수의 상기 매체로 이루어진 어떤 알아가는 집합을 반복적으로 판독하며, 그리고 어떤 라인의 존재 또는 부존재가 상기 주지패턴을 대부분 판독하는 동안 표시되는 각기 반복적으로 판독된 주지패턴의 엘리먼트 각각에 대한 어떤 상태 표시를 저장시킴으로서 상기 주지 패턴들의 지도들이 발생되는 특징을 지닌 패턴 식별방법.
- 제14항에 있어서, 첫 번째 주지패턴의 패턴지도의 엘리먼트들과 동일한 가장 큰 수의 엘리먼트들을 지닌 패턴 지도가 가장 유사한 것으로 정의되도록 비교된 패턴 지도들의 대응위치 엘리먼트들간의 동일성을 결정하게 상기 집합의 주지패턴들 중 어떤 처음 패턴의 패턴 지도와 이 집합의 나머지 패턴 각각의 패턴 지도를 연속적으로 비교하며; 상기 제1패턴의 지도와 상기 가장 유사한 지도에서 대응위치 비유사 엘리먼트들을 식별하며; 상기 비유사 엘리먼트들만 내포한 상기 첫 번째 주지 패턴에 대해 예비적인 최대 차이 지도를 발생하며; 대응위치 비유사 엘리먼트들을 식별할 수 있도록 상기 집합을 이룬 나머지 주지 패턴들 각각의 패턴 지도에다 상기 예비적인 최대 차이 지도를 연속 비교하며; 상기 마지막 인용한 비교들 각각에서 비유사한 것으로 역시 식별된 상기 첫 번째 식별된 비유사 엘리먼트들만 내포한 상기 첫 번째 주지패턴에 대해 정제된 최대차이 지도를 발생하며; 상기 집합을 지룬 주지 패턴들 중 나머지 패턴들에 대한 최대차이 지도를 발생할 수 있게 상술한 과정을 반복하는 단계들을 포함하는 특징을 지닌 패턴 식별방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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