KR840001711B1 - 실라잔 폴리머의 제조방법 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

실라잔 폴리머의 제조방법

본 발명은 유기실리콘 화합물 합성시의 중간물질로서 유용한 실라잔 폴리머의 제조방법에 관한 것이다. 이들 폴리머는 또한 고온에서 소성시 실리콘 카바이드 및 실리콘 카바이드-함유 세라믹물질을 형성시키는데도 유용하다.

본 명세서에 기술된 방법은 신규의 실라잔 폴리머를 수득하는 신규의 방법으로서 오가노클로로실란을 불활성의 거의 무수 대기중에서, 휘발성 부산물을 증류시키면서 디실라잔과 접촉 반응시키는 방법이다.

이 분야에서 잘 알려져 있는 바와 같이, 할로실란 모노머는 암모니아 및 1급 또는 2급아미노 그룹을 함유하는 대부분의 유기 화합물과 반응하여 각종 실라잔을 형성한다. 예를들면, 트리메틸클로로실란과 암모니아의 반응으로 실라잔 모노머인 핵사메틸디실라잔이 생성되며, 디메틸디클로로실라잔과 암모니아의 반응으로는 디메틸사이클릭 실라잔이 생성된다. 이들 두 반응은 실라잔 화학에서 상업적 용도의 주종을 이루고 있다.

일반적으로 실라잔은 수년간 학구적인 연구 대상이 되어왔으며 모노머, 올리고머, 사이클릭 및 저분자량수지와 선형 폴리머와 같은 수종의 실라잔이 여러 방법에 의해 제조되어 왔다. 예를들면, 입체 장애를 가진 실라잔 올리고머를 중합하여

또한 CH₃SiCl₃, (CH₃)₂SiCl₂및 과량의 암모니아로부터 제조된 유체상, 고무상 폴리머 및 수지에 대해서도 보고된 바 있다[참조 : Kruger et al. in the Journal of Polymer Science, A2, 3179 (1964) and Redl, Silazane Polymer, ARPA-19, Advanced Research Projects Agency, October, 1965.]

특히 문헌에도 실라잔 제조에 대한 발명이 수록되어 있다. 체로니스에 의한 1951년 8월 21자로 허여된 미합중국 특허 제2,564,674호에는 할로실란을 과량의 암모니아와 용매용액내에서 반응시킴으로써 저분자량의 선형 실라잔 폴리머를 제조하는 방법이 기술되어 있다. 바우스마등에 의한 1974년 5월 7일자 허여된 미합중국 특허 제3,809,713호에는 에틸렌 디아민을 사용하여 부산물인 고체 암모늄할라이드를 제거하는 단계가 첨가된 유사한 반응공정이 기술되어 있다.

최근에는 버비크등에 의한 1974년 12월 10일자로 허여된 미합중국 특허 제3,853,567호 및 1975년 7월 1일자로 허여된 미합중국 특허 제3,892,583호에 CH₃SiCl₃및 (CH₃)₂SiCl₂의 혼합물을 암모니아 또는 유기아민으로 처리하여, 열분해에 의해 SiC/Si₃N₄, 세라믹을 생성할 수 있는 물질을 생성시키는 것에 대해 기술되어 있다.

선행기술의 또 다른 방법에 있어서는, 실라잔 폴리머의 제조시 디실란의 사용은 비교적 저분자량의 물질을 제조하는데에만 제한되어 왔다. 한 예로서, 테트라메틸디클로로디실란을 가스상 암모니아와 반응시킬때, 예상한 선형 실라잔 폴리머가 아닌 6원 환상 실라잔, {(CH₃)₂SiSi(CH₃)₂NH}₂이 생성되는 것이 보고되어 있으며[참조 : Wannagat et. al. Ang. Chem. 75(7), 345(1963)], 또한 디메틸아민과 클로로실란을 제조하는 직접 공정으로부터 수득된 염소-함유 디실란 혼합물로부터 제조된 디실란의 디메틸아미노 치환 혼합물에 대해서도 문헌에 기술되어 있다[참조 : Hengge et. al. Montash. Chem. 101 I (2) 325(1970)].

본 발명의 발명자인 존 에이치. 고울 쥬니어는 또한 최근에 디실라잔과 오가노클로로디실란을 상승된 온도로 가열하면 유용한 실라잔 폴리머가 생성된다는 것을 발표한 바 있다. 이 연구는 발명의 명칭이 "폴리(디실릴) 실라잔 폴리머의 제조방법 및 이 방법에 의한 폴리머"이며 일련번호 225,274호로 1981년 1월 15일자로 출원되어 계류중인 미합중국 특허원에 기재되어 있다.

본 발명에서 새로이 발견된 점은 염소-함유 모노실란과 디실라잔의 반응에 의해 유용한 고분자량의 실라잔 폴리머가 생성된다는 것이다.

즉 본 발명은 염소 함유 모노실란과 디실라잔으로부터 신규의 실라잔 폴리머를 제조하는 방법에 관한 것이다. 더 상세히 말하면 염소함유 모노실란 또는 염소함유 모노실란의 혼합물을, 염소함유 모노실란중의 모든 염소와 반응하기에 충분한 분량의 질소공급원으로서의 디실라잔으로 처리하는 방법이다. 이때 일반적으로는_4-n

≡SiCl+R₃'SiNHSiR₃'→≡siNHSiR₃'+R₃'SiCl

이 반응에는 R₃'SiCl의 생성이 수반되며 이 R₃'SiCl은 반응과정중에 증류시켜 제거한다. 반응혼합물의 온도가 상승됨에 따라, 축합반응이 일어나기 시작하여 고분자량의 실라잔과 {R₃'Si}₂NH가 생성된다. 이 {R₃'Si}₂NH는 반응중에 생성되는 대로 증류시킨다.

2≡Si-NHSiR₃'→≡Si-NHSi≡+{R₃'Si}₂NH

고온에 도달하면 고차결합이 계속 이루어지고 폴리머내에 잔존하는 모든 R₃'SiNH 그룹은 말단 차단제로서 작용한다. 본 방법에서는 원하는 점도에 도달되면 어느 단계에서든지 반응을 중지시킬 수 있다. 이 실라잔 폴리머의 물리적 외관은 액체, 고점도 액체 내지 경질의 유리상 물질이다. 이들은 취급이 용이하고 가수분해에 대하여 거의 안정하다.

따라서 본 발명은 R₃'SiNH-함유 실라잔 폴리머를 제조하는 방법에 관한 것으로 다음 일반식(I)의 오가노클로로실란 또는 오가노클로로실란 혼합물을 불활성이며 거의 무수상태인 대기중에서 다음 일반식(Ⅱ)의 디실라잔과 25

내지 300℃에서

R_nSiCl_4-n(Ⅰ)

(R₃'Si)₂NH (Ⅱ)

여기서

R은 비틸, C_1-3알킬 또는 페닐이고,

R'는 비닐, 수소, C_1-3알킬 또는 페닐이며,

n은 1 또는 2이다.

본 발명은 또한 상기 일반식(I)의 오가노클로로실란 또는 오가노클로로실란의 혼합물을(여기서 디오가노-치환 실리콘분자의 수가 모노오가노-치환 실리콘 분자의 수보다 많지 않다) 불활성이며 거의 무수상태인 대기중에서 상기 일반식(Ⅱ)의 디실라잔과 125

내지 300℃의 온도에서, 휘발성 부산물을 증류시키면서 접촉 반응시켜 R₃'SiNH-함유 실라잔 폴리머를 제조하는 방법에 관한 것이다.

또한 본 발명에는 상기의 두가지 방법에 의해 제조된 신규의 R₃'SiNH-함유 실라잔 폴리머 조성물들도 포함된다.

본 발명에는 또한 상기의 첫번째 방법으로 제조한 실라잔 폴리머를 불활성 대기중에서 또는 진공중에서 적어도 750℃의 온도로 실라잔 폴리머가 실리콘카바이드 세라믹 물질로 전환될때까지 가열하여 실리콘카바이드를 함유하는 세라믹 물질을 제조하는 방법이 포함된다.

본 발명에는 (A) 상기 두번째 방법으로 제조한 실라잔 폴리머를 원하는 형태로 성형하고, (B) 상기 (A)에서 성형된 성형물을 불활성 대기중이나 진공중에서 적어도 750℃의 상승된 온도로, 이 실라잔 폴리머가 실리콘 카바이드를 함유한 세라믹으로 전환될 때까지 가열하여 실리콘 카바이드를 함유하는 세라믹 제품을 제조하는 방법도 포함된다.

본 발명에는 또한 (A) 상기 두번째 방법으로 제조한 실라잔 폴리머를 적어도 한가지의 통상적 세라믹 충전제와 혼합하고, (B) 실라잔 폴리머와 충진제의 혼합물을 원하는 형태로 성형하고, (C) 상기 (B)의 성형물을 불활성 대기 또는 진공중에서 적어도 750℃의 상승된 온도로, 이 실라잔 폴리머가 실리콘 카바이드-함유 세라믹으로 전환될때까지 가열하여 충전된 세라믹 제품을 제조하는 방법도 포함된다.

본 발명에는 또한 (A) 상기 첫번째 방법으로 제조된 실라잔 폴리머를 적어도 한가지의 통상적 세라믹 충전제와 혼합하고, (B) 상기 (A)의 혼합물을 기질에 코팅하고, (C) 상기 (B)의 코팅된 기질을 불활성대기 또는 진공중에서 최소한 750℃의 상승된 온도로, 코팅이 실리콘 카바이드를 함유하는 세라믹 물질로 전환될때까지 가열하여, 충전된 세라믹 물질로 코팅된 제품을 제조하는 방법도 포함된다.

최종적으로, 본 발명에는 (A) 상기 첫번째 방법으로 제조한 폴리머를 기질에 코팅하고 (B) 코팅된 기질을 불활성 대기중이나 진공중에서 적어도 750℃의 상승된 온도로 코팅이 실리콘 카바이드를 함유하는 세라믹으로 전환될때까지 가열하여, 충전되지 않은 세라믹 제품을 제조하는 방법이 포함된다.

본 발명에 의하여 당분야에서 개량된, 즉 가수분해에 대하여 거의 안정하며

본 발명은 디실라잔을 불활성이며 거의 무수상태인 대기하에서 오가노클로로모노실란 또는 이들의 혼합물과 반응시키고 생성된 실라잔 폴리머를 소성시켜 실리콘 카바이드 또는 실리콘 카바이드-함유 세라믹 물질을 제조하는 것이다.

본 발명의 오가노클로로모노실란은 다음의 일반식(I)을 가진다.

RnSiCl_4-n

여기서

R은 비닐 또는 C_1-3알킬기 또는 페닐그룹이다.

본 발명에 유용한 R 그룹의 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 비닐 및 페닐이 있다. 본 발명의 목적을 위해서는 R 그룹은 모두 서로 같거나 다를 수 있다. 오가노클로로모노실란은 통상적인 필수화학약품이며 시중에서 구입할 수 있으므로 그 제법은 여기에 설명하지 않는다. 이후로 ø, Me, Et 및 Vi는 각각 페닐, 메틸, 에틸 및 비닐을 뜻한다.

본 발명에서 n의 값은 1 또는 2이다. 따라서 본 발명에 유용한, 단일유기그룹으로 치환된 실란으로는 CH₃SiCl₃, C₆H₅SiCl₃, CH₂=CHSiCl₃, CH₃CH₂SiCl₃또는 CH₃(CH₂)₂SiCl₂가 있으며 2중 유기치환된 실란으로는 (CH₃)₂SiCl₂, (C₂H₅)₂SiCl₂및_{2 3 2 3 3 3 2 2}

본 발명의 일면에서는 오가노클로로실란 혼합물이 사용되었을 때 디오가노치환 실리콘 분자 단위의 수가 모노오가노치환 실리콘 분자단위의 수를 초과하지 않아야 한다. 디오가노치환 단위의 수가 모노오가노 치환단위의 수를 초과할 경우에도 실라잔 폴리머가 형성되기는 하지만 이러한 폴리머는 점도가 낮으므로 그 성능이 바람직하지 못하며 또한 소성시켰을때 물리적 특성이 떨어진다.

본 발명의 제조방법의 두번째 반응물은 일반식(Ⅱ)(R₃'Si)₂NH의 디실라잔이다. 여기서 R'는 비닐, 수소, C_1-3알킬 또는 페닐그룹이다. 따라서 R'는 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 비닐 및 페닐등을 나타낸다. 상기에서 기술한 바와 같이 일반식중의 각 R' 그룹은 서로 같거나 다를 수 있다. 이 화합물의 예를 들면 다음과 같다 : {(CH₃)₃Si}₂NH, {C₆H₅(CH₃)₂Si}₂NH, {(C₆H₅)₂CH₃Si}₂NH, {CH₂=CH(CH₃)₂Si}₂NH, {CH₂=CH(CH₃)C₆H₅Si}₂NH, {CH₂=CH(C₆H₅)₂Si}₂NH, {CH₂=CH(C₂H₅)₂Si}₂NH, {H(CH₃)}₃Si₃NH 및 {CH₂=CH(C₆H₅)C₂H₅Si}₂NH.

이 반응물을 불활성의 거의 무수상태인 대기중에서 반응시킨다. 여기서 "불활성"이란 본 반응이 아르곤, 질소 또는 헬륨과 같은 불활성 가스의 블랭킷(blanket)하에서 수행된다는 것을 나타낸다. "거의 무수상태"라 함은 본 반응이 바람직하게는 완전히 무수 상태인 대기에서 수행되지만 미량의 수분은 허용될

반응물이 서로 접촉되면 반응이 일어나 중간 물질인 아미노화합물이 형성된다. 가열하면, 아미노화합물이 더 형성되며 가열을 계속하면 R₃'SiCl이 반응 혼합물로부터 증류되며 실릴실라잔 폴리머가 형성된다. 반응물질의 첨가순서는 별로 중요하지 않다. 온도가 높아지면, 축합이 더 진행되고 교차 결합이 이루어지고 증류되어 나오지 않은 잔류의 R₃'Si-가 쇄-정지제(Chain-Stopper)로서 작용한다. 따라서 이 반응은 원하는 점도에 도달한 때에는 거의 아문때라도 정지시킬 수 있다. 만족스런 반응온도 범위는 25

내지 300℃이며 125

내지 300℃가 더 바람직하다. 반응에 소요되는 시간은 반응온도 및 원하는 점도에 따라 다르다.

"휘발성 생성물"이란 상기의 반응중에 형성된, 증류가능한 부산물을 말한다. 이 물질의 예를 들면 (CH₃)₃SiCl, (CH₂=CH)(C₆H₅)₂SiCl, CH₃(C₆H₅)₂SiCl, (CH₃)₂C₆H₅SiCl 및 (CH₂=CH)(CH₃)₂SiCl이 있다. 경우에 따라 이 물질들을 제거하기 위해 진공중에서 가열해야 할 때도 있다.

이 실라잔 폴리머는 거의 즉시 사용할 수 있다. 이 실라잔 폴리머를 불활성 대기중 또는 진공중에서 적어도 750℃의 온도로 열분해시키면 실리콘카바이드 함유물질이 생성된다. 이 폴리머가 충분한 점도를 가질 경우에는, 먼저 성형하고(예를들면 압출섬유) 열분해시켜 실리콘카바이드를 함유한 섬유를 제조할 수 있으며 또는 실라잔 폴리머를 세라믹형 충전제로 충전시키고(원하는 경우) 적어도 750℃로 소성시켜 실리콘카바이드 세라믹 물질을 함유하는 세라믹 제품을 만들 수 있다.

오가노클로로실란의 혼합물을 사용할 때는 디실라잔과 접촉 반응시키기 전에 실란을 혼합하는 것이 가장 좋다.

상기에서 언급한 바와 같이, 생성된 폴리머는 섬유와 같은 여러가지 형태로 압출시킬 수 있다. 본 발명의 폴리머중 취급성이 좋아서 압출 및 성형시킬 수 있는 것은 디오가노-치환 실리콘 분자의 수가 모노오가노-치환 실리콘 분자수를 초과하지 않는 폴리머임이 밝혀졌다.

상기에 언급한 바와 같이 본 발명의 폴리머는 용도에 따라 충전시키거나 충전시키지 않을 수 있다. 따라서 충전시키거나 충전시키지 않은 본 발명의 폴리머를 기질에 코팅하고 가열하여 제조한 실리콘카바이드를 함유하는 세라믹 코팅 제품도 본 발명에 포함된다. 충전제와 보조제는 3롤 밀(mill)에서 본 발명의 실라잔폴리머를 충전제와 혼합하여 밀에 몇번 통과시킴으로써 분쇄할 수 있다. 또는 이 폴리머를 용매에 가하고 충전제와 보조제를 여기에 첨가하고 혼합한 후 용매를 제거하여 충전된 폴리머를 생성할 수도 있다.

코팅은 통상의 방법에 의해 수행할 수 있다. 그 방법은 사용된 폴리머와 기질 및 용도에 따라 다르다. 따라서 이 물질은 브러싱, 롤링, 침지 또는 분무하여 코팅할 수 있다. 충전된 상태에서는 폴리머를 기질상에 도포해야 할 경우도 있다.

폴리머를 라세믹상태로 전환시킬 때는 폴리머를 불활성 대기중 또는 진공중에서 적어도 750℃로 열분해 시킨다.

불활성 대기를 사용하지 않고 750℃ 또는 그 이상에서 열분해시키면 좋지 못한 부반응이 일어나므로 습기 및 기타 강력한 반응물을 배제하도록 주의를 기울여

당분야의 숙련가들의 본 발명에 대한 이해를 돕기 위하여 다음의 실시예를 제시한다. 본 실시예는 단지 설명을 위함이며 본 발명을 제한하는 것은 아니다. 다음 실시예에서, 사용된 분석법은 다음과 같다.

네츠슈 STA 429(2400℃) TGA 장치(Netzsch Instruments, Selb, West Germany 제품)로 열중량 측정분석(TGA)한다. 시료 평균 크기는 11mg, 진행 속도는 10℃/분, 가스유동속도는 200cc/분이다. 스케일은 50℃/in±0.5℃/in이다.

네츠슈장치로 평균크기 13.5mg의 시료를 사용하여 유동속도 200cc/분, 진행속도 10℃/분, 장치 스케일 50℃/in±0.5℃/in으로 하여 시차 열분석(DTA)한다.

실리콘은 실리콘물질을 실리콘의 가용형태로 전환시키고 이 가용성물질을 원자흡수분광측정에 의해 총실리콘을 정량적으로 측정하는 용융기법으로 측정한다. 시료의 가용화는 시료를 칭량하여 파르(Parr)형 용융컵(약 0.3g)에 넣고 15.0g의 Na과산물을 첨가하고 약 90초간 가열한 후 냉수로 급냉시켜 수행한다. 이 물질을 150 내지 200ml의 증류수가 담긴 니켈 비이커에 넣는다. 시약등급의 아세트산 55ml를 첨가하고 물로 500ml용량까지 희석한다.

염소(잔류)는 Na 과산화물을 분해하고 질산은으로 적정하여 측정한다. 할라이드를 Na 과산화물로 용융시키고 이어서 표준 질산은으로 전위차 적정한다. 그 방법은 시료를 칭량하여 젤라틴 캡슐에 넣고 약 1.5g의 Na₂O₂, 약 0.7g의 KNO₃및 약 0.15g의 서당을 세정된 건조한 반응컵에 넣고 캡슐을 이 혼합물에 넣는다. 이 컵을_{2 2}

탄소 및 수소는 시료를 10 내지 20mg 청량하여 미량 백금 보트에 넣고 에이. 에이치. 토마스의 연소기구(목록번호 6447-E, Philadelphia, PA) 내에서 처리하여 미량 연소시킴으로써 측정한다.

본 실시예에서 사용한 물질들은 Astro Industries Furnace 1000A Water cooled graphite heated model 1000. 3060-FP-12중에서 아르곤하에 소성시킨 것이다.

미분화 가스 크로마토그라피에서는 폴리머를 테트라에톡시실란(EOS)과 KOH로 처리하여 각 폴리머 단위의 오가노에톡시실란유도체를 생성시킨다. 그후에 혼합물중의 여러가지 단위들의 함량 및 상대적 비율을 측정하기 위하여 가스크로마토그라피를 사용한다. 이 과정은 0.3g의 폴리머 시료를 50ml의 둥근 바닥플라스크에 넣고 이 플라스크에 8.0ml의 Si(OC₂H₅)₄를 가하고 KOH펠렛을 한개 가한 후 플라스크를 가열하여 반응을 개시시키고 45분 내지 1시간 동안 환류시킨 후 2.0ml의 Si(OC₂H₅)₄를 더 가하고 1/2티스푼의 마쇄한 CO₂를 넣어 KOH를 중화시킨다음 시료를 원심분리하여 상분리하고 표준화시킨 가스크로마토그라피로 실란층을 분석한다.

다음에 수행되는 반응에서, 반응 기구들은 거의 동일한 것으로서 기계교반

[실시예 1]

37.7g(0.25몰)의 메틸트리클로로실란, 97.0g(0.75몰)의 디메틸디클로로실란 및 364.4g(2.3몰)의 {(CH₃)₃Si}₂NH를 상기에 기술한 장치내에서 혼합한다. 이 혼합물을 아르곤 대기하에 300℃로 가열한다. 플라스크 온도가 93℃에 도달하면 증류되기 시작한다. 200℃에서 플라스크의 내용물이 맑은 오렌지색으로 변한다. 이 플라스크를 300℃로 10분간 유지시킨다. 이 물질을 유리병에 옮기고 아르곤 블랭킷하에 실온으로 냉각시킨다. 생성물은 갈색의 점성물질이며 실온으로 냉각되면 고무상 물질이 된다. 폴리머수율은 이론량의 27.9%이다.

아르곤하, 1000℃에서 TGA하면 세라믹 수율이 36%이었다. 아르곤하 500℃에서 DTA했을때 변화가 일어나지 않았다. 공기중 500℃에서 DTA했을때 245℃에서 발열이 일어났다. %Si는 42.8이며 IR분석결과 -NH-, NH₄Cl, SiMe, SiNSi가 나타났다. 실온에서부터 1200℃까지 소성(Astro firing)시키면 세라믹의 수율은 33.5%이다. 1200 내지 1600℃로 소성하면 수율이 82.5%가 된다. EOS 결과는 4% Me₃Si, 21%, Me₂Si 및 39% MeSi이었다. 이 물질로부터는 섬유를 뽑아낼 수 없다.

[실시예 2]

30.8g(0.21몰)의 메틸트리클로로실란, 106.2g(0.82몰)의 (CH₃)₂SiCl₂및_{3 3 2}

[실시예 3]

상기에서와 같이 장치된 플라스크내에서 다음의 성분들을 반응시킨다.

CH₃SiCl₃75.6g(0.51몰)

(CH₃)₂SiCl₂65.7g(0.51몰)

{(CH₃)₃Si}₂NH 409.6g(2.5몰)

이 물질들을 아르곤대기하에 함께 300℃로 가열하여 15분간 유지시킨다. 이 물질들을 아르곤하에 냉각시켜 39.2g의 매우 딱딱한 황색물질을 수득한다. 폴리머의 수율은 56.5%이다. 1000℃, 아르곤하에서 TGA하면 41%의 세라믹 물질이 수득된다. 500℃, 아르곤중에서 DTA했을때는 변화가 없었다. 공기중에서 500℃로 DTA했을때는 220℃에서 발열이 있었다. %Si는 42.4였다. IR 분색결과 -NH-, SiCH₃, Si-N-Si가 존재함이 밝혀졌다. 이 물질을 아스트로 로(Astro furnace)에서 실온부터 1200℃까지 소성시켰을때 실리곤카바이드의 수율은 37.3%이다. 1200℃ 내지 1600℃로_{3 3 3 2 3}

[실시예 4]

상기에서와 같이 장치된 플라스크내에 다음의 성분들을 가한다.

CH₃SiCl₃117.9g(0.79몰)

(CH₃)₂SiCl₂63.9g(0.49몰)

{(CH₃)₃Si}₂NH 536.8g(3.3몰)

이 물질들을 아르곤 대기하에 함께 275℃로 가열하여 1시간 동안 유지시킨다. 이 물질들을 아르곤하에 실온으로 냉각시켜 54.6g의 매우 딱딱하며 부서지기 쉬운 황색 폴리머를 수득한다. 폴리머의 수율은 63.6%이다. 1000℃, 아르곤하에서 TGA하였을때 세라믹 물질의 수율은 51%이다. 500℃, 아르곤중에서 DTA했을때는 변화가 없었다. 공기중에서 500℃로 DTA했을때는 200℃에서 발열이 있었다. % Si는 42.0이었다. IR분석결과 -NH-, NH₄Cl, SiCH₃, Si-N-Si가 존재함이 밝혀졌다. 이 물질을 아스트로 로에서 실온부터 1200℃까지 소성하면 44.9%의 세라믹 물질이 수득된다. 1200

내지 1600℃로 소성하면 세라믹물질이 75.8% 수율로 수득된다. 폴리머를 EOS로 미분화시키면 7.2% (CH₃)₃Si-, 7.3%의 (CH₃)₂Si= 및 61%의 CH₃Si≡가 존재함을 알 수 있다.

[실시예 5 내지 18]

이 실시예에서는 본 발명에 사용될 수 있는 여러가지 클로로실란을 설명하기 위하여 몇가지 반응을 수행하였다. 이 반응은 상기에서와 같이 장치된 반응 플라스크내에서 표 1에 나타낸 시간 및 온도로 수행한다. 반응 결과와 몇가지의 연소성을 표 1에 나타내었다.

[표 1]

Claims (1)

1. 다음 일반식(I)의 오가노클로로실란 또는 오가노클로로실란 혼합물을 불활성이며 거의 무수상태인 대기중에서 다음 일반식(Ⅱ)의 디실라잔과, 25℃내지 300℃에서 휘발성 부산물을 증류시키면서 접촉반응시켜 R₃'SiNH-를 함유한 실라잔 폴리머를 제조하는 방법.

   RnSiCl_4-n(Ⅰ)

   (R'₃Si)₂NH (Ⅱ)

   상기식에서, R은 비닐, C_1-3알킬 또는 페닐이고, R'는 비닐, 수소, C_1-3알킬 또는 페닐이며, n은 1 또는 2이다.