KR790001614B1 - 메탄을 옥시염소화 시키는 방법 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

메탄을 옥시염소화 시키는 방법

제 1 도는 본 발명을 구체적으로 표현한 간단한 공정도이고,

제 2 도는 염소화 메탄 생성물의 회수 공정을 구체적으로 나타낸 간단한 공정도임.

본 발명은 염소화 메탄을 제조하기 위한 신규한 진보된 방법에 관한 것이다.

일반적으로, 염소화메탄을 제조하기 위한 상업적인 공지의 방법들은 메탄을 직접 염소화시키는 것을 포함하고 있다. 또한 당분야에서는 메탄을 옥시염소화시켜 염소화 메탄을 제조하기 위한 유용한 공정이었는데, 그러한 옥시염화소 반응은 일반적으로 탄소 산화물과 또는 이량체의 대량 생산 결과에 의해 메탄의 선택률을 저하시킨다. 또한, 메탄의 옥시염소화는 일반적으로 염소화된 4가지 메탄 유도체의 모든 고유한 생성물로서는 기대하지 않았던 염소화 메탄 부산물의 생성을 수반하게 된다. 그러한 물질, 예를들면 사염화탄소는 대부분의 경우 시장조건 여하에 따라 필요없는 생성물이 된다. 따라서, 당분야에서는 염소화된 메탄에 대한 메탄의 선택률을 최대한도(탄소 산화물과 이량체의 생성을 최소한도로 한다)로 하고, 사염화 탄소의 생성을 최소한도로 하는 메탄의 옥시 염소화방법이 요구되고 있다.

본 발명에 따르면, 메탄과 염소 또는 염화수소와 같은 염소화제를 탄소의 존재하에 염화제일구리, 염화제이구리 및 구리의 옥시염화화물과 접촉시킴으로써 사염화탄소의 전체생성량을 감소시킬 수 있다.

구리의 염화물들은 일반적으로 1가금속, 즉 1가상태의 금속의 염화물과 같이, 본 발명에 의한 방법의 조건하에서 비휘발성이며 산소의 작용을 억제하는 저융점의 금속염을 사용하여 용융된 형태로 유지된다.

1가 금속의 염화물은 특히 염화칼륨이나 염화리튬과 같은 알칼리금속의 염화물들이 바람직한 것들인데 구리보다 중금속, 즉 주기율표의 I, Ⅱ, Ⅱ족 및 IV족의 중금속염화물들, 예를들면 염화아연, 염화은 및 염화칼륨과 같은 기타 염화물이나 그 혼합물이라는 것을 이해하게 될 것이다.

반응 온도에서 염혼합물을 용해물로서 충분히 유지할 수 있는 양으로 저융점의 금속염화물을 가하고, 또 일반적으로 용융된 염혼합물의 융점을 약 316℃이하의 온도로 조절할 수 있는 충분한 양으로 가한다.

구리의 염화물 및 염화칼륨과의 혼합물의 경우에, 그 혼합물의 조성은 염화칼슘이 약 20-40중량%, 바람직하게는 약 30%의 범위이며, 잔여분이 구리 염화물이 된다. 그러나, 어떤 경우에 촉매 용융물은 전체 공정을 통해 촉매로 하여금 용융물의 형태로 유지되는 316℃이상의 융점을 가질수가 있음을 알게될 것이다. 또한, 용융물은 그밖의 반응 촉진제를 함유하는 수가 있음을 알게될 것이다.

대표적인 한가지 예로서, 염화메틸을 이용하여 염소화시킨 메탄을 제조하는 반응순서는 하기 방정식으로 나타낼 수 있다.

(1) 2CuCl₂-2CuCl+Cl₂

(2) CH₄+Cl₂-CH₃Cl+HCl

(3) CuO CuCl₂+2HCl-2CuCl₂+H₂O

구리의 옥시염화물은 다음 방정식으로 나타내는 반응과 함께, 별도의 반응 대역에서 산소분자와 용융혼합물을 접촉시켜 만든다.

(4) 2CH₄+Cl₂+

O₂-2CH₃Cl+H₂O

염소화된 메탄을 제조하기 위한 전체반응은 다음 방정식으로 나타낸다.

(5) CH₄+Cl₂+

O₂→ 2CH₃Cl+H₂O

(6) CH₄+HCl+

O₂→ CH₃Cl+H₂O

(7) CH₄+Cl₂+

O₂→ CH₂Cl₂+H₂O

(8) CH₄+2HCl+O₂→ CH₂Cl₂+2H₂O

(9) 2CH₄+3Cl₂+3/2O₂→ 2CHCl₃+3H₂O

(10) CH₄+2HCl+3/2O₂→ CHCl₃+3H₂O

(11) CH₄+2HCl₂+O₂→ CCl₄+2H₂O

(12) CH₄+4HCl+2O₂← CCl₄+4H₂O

본 발명에 따르면, 사염화탄소는 옥시염소화 반응중에 그 전체생성이 소거되는 양으로 존재하게 되는데 그 양은 매 통과 주기시마다 메탄의 전화율에 따라 변화한다. 그리고, 염소화메탄은 순염소화 메탄생성물(순 염소화 생성물이란 옥시염소화 반응에 재순환되지 않는 염소화 메탄의 생성물이다)로서 회수되며, 또 염소화제로서 염소가 사용되든지 아니면 염화수소가 사용되든지 간에 사염화탄소의 필요한 양(그 양은 메탄의 총 몰수에 대한 사염화탄소의 몰 수로서 계산된다)은 두가지 경우, 즉 메탄 전화율이 증가할때와 염소 대신에 염화수소를 사용할때, 또는 순염소화 생성물중에서 더욱 충분히 염소화된 메탄의 양이 증가할때 증가된다.

그러므로, 예를들면, 이하 설명하는 바와같이, 클로로포름이 유일한 염소화된 메탄 순생성물인 경우와 염소화제로서 염소만을 사용할때 전체메탄 통과주기시마다 총메탄 전화율이 약 25몰%-50몰%의 값일 경우에 전체 메탄의 몰수에 대한 사염화탄소의 양으로 나타내며, 그 전체 생성을 감소시키는데 필요한 사염화탄소대 메탄의 양은 각각 0.4:1내지 약 0.7:1이다. 메탄증가율의 증가는 메탄에 대한 사염화탄소의 몰비의 증가를 가져오게 되며, 또 메탄 전화율이 감소하면 메탄에 대한 사염화탄소의 몰비가 감소하는 결과를 초래하게될 것이다.

염소화제로서 염화수소만을 사용하는 경우, 약 15몰%-약 25몰%의 메탄전화율 범위에 대해, 메탄에 대한 사염화탄소의 몰비는 약 0.4:1에서 약 0.6:1까지 변화될 것이다.

이와 비슷하게, 염화메틸렌과 클로로포름이 특정한 전화율하에 순반응 생성물로서 전환되는 경우에, 주로 사염화탄소의 순반응 생성을 억제하는데 필요한 전체 메탄대 사염화탄소의 몰비는 순반응 생성물로서 클로로포름만이 회수되는 경우에는, 특정한 전화율하에서 요구되는 것보다 감소할 것이다.

또한, 메탄 전화율이 감소될때, 주로 사염화탄소의 순생성을 감소시키는데 필요한 메탄 대 사염화탄소의 몰비는 역시 감소한다는 것은 분명해질 것이다. 일반적으로, 순반응 생성물일 염화메틸렌과 클로로포름뿐이고, 염소화제로서 염소를 이용하는 경우에 약 25%-약 50몰%의 메탄 전화율에서의 메탄에 대한 사염화탄소의 몰비는 약 0.2:1에서 약 0.3:1까지 변화하게 되는데, 몰비가 높을수록, 그에따라 메탄 전화율이 높아지고, 또 순반응 생성물중의 클로로포름의 양도 그만큼 증가하게 된다. 또한, 사염화탄소는 그 순생성이 억제되는데 필요한것보다 더 다량으로 첨가됨을 알아야 한다.

어떤 경우에는, 순반응 생성물로서 클로로포름, 또는 클로로 포름과 염화메틸렌만을 회수할 필요가 있게된다. 그러한 경우에 염화메틸렌과 염화메틸 또는 염화메틸렌이 각각 사염화탄소의 순생성을 소거하기 위하여 필요한 양으로 산염소화 반응에 첨가된다.

사염화탄소의 경우와같이, 첨가되는 특정한 양은 당분야에 숙련된 사람들에 의해 일정량의 선택률과 함께 메탄 전화율에 따라 달라진다.

순반응 생성물로서 클로로포름만이 회수되고, 또 염소만이 사용되는 경우에 매통과 주기시의 메탄 전화율이 약 25몰%-50몰%일때에는, 메탄에 대한 염화메틸의 몰비는 각각 보통 약 0.1:1에서 약 0.5-1로 변화할것이며, 메탄에 대한 염화메틸렌의 몰비는 각각 약 0.2:1에서 약 0.6:1까지 변화할 것이다.

메탄 전화율이 약 15몰%-약 25몰%일때 염소화제로서 염화수소만을 사용하는 경우, 메탄에 대한 염화메틸의 몰비는 약 0.2:1에서 약 0.4:1까지 변화할 것이며, 메탄에 대한 염화메틸렌의 몰비는 약 0.3:1에서 약 0.5:1까지 변화할 것이다.

본 발명에 따르면, 옥시염소화 반응대에서 회수한 유출물중에는 항상 사염화탄소를 비롯한 4가지 염소화된 메탄 유도체들이 들어있다. 이것은, 예를들면 사염화탄소의 순생성은 주로 사염화탄소가 들어있는 옥시 염소화반응대로의 공급을 방해할 것이며, 따라서 옥시염소화 반응대로부터의 유출물은 대응하는 양의 사염화탄소를 함유할 것이다. 그러나, 원래 사염화탄소의 순생성은 없으나, 그 유출물에는 공급물질과 더불어 주입된 사염화탄소의 양보다 많은 사염화탄소는 함유되어 있지 않다. 이상은 염화메틸과 또는 염화메틸렌의 순생성이 없는 경우에 역시 적용될 수 있다. 그러나, 예를들면 본 발명에 의한 방법은 역시 옥시염소화 반응으로 유입되는 염화메틸과 또는 염화메틸렌과 함께 전체 생성물로서 염화메틸렌이나 염화메틸의 회수를 포함한다는 것을 알아야한다. 그와같은 경우에, 염화메틸렌이나 염화메틸은 그 순생성을 억제하는데 불충분하므로, 순반응 생성물 중에 더욱 완전히 염소화된 유도체(사염화탄소 이상의 것)의 양을 증가시켜 주기위해 옥시염소화 반응 대역에 첨가된다.

옥시염소화 반응은 약 371.0℃-510℃의 온도에서 일어나게 된다. 그러나, 옥시염소화 반응온도는 염소화 메탄에 대한 매통과 주기시의 메탄의 선택률에 충분한 효과를 가지고 있다. 따라서, 예를들면 염소화메탄에 대한 메탄의 선택률은 온도 449℃에서 466.5℃까지 옥시염소화반응 온도를 높여주면 불규칙하게 감소된다(탄소 산화물의 생성을 증가시킴). 따라서, 염소화메탄에 대한 메탄의 선택률을 높여주기 위해서는 약 390℃-450℃의 온도, 바람직하게는 420°-450.5℃의 온도에서 옥시염소화 반응을 일으키는 것이 좋다.

본 발명에 의한 방법에 따르면, 염소화메탄에 대한 매 통과주시기의 메탄의 선택률은 75-90몰%이었다.

옥시염소화반응을 위한 압력 및 체류시간은 광범위하게 변화하는데, 일반적으로 압력은 약 1-10기압이며, 체류시간은 약 1-60초이다. 메탄전화율은 옥시 염소화 반응대역에 존재하는 전체메탄(공급및 재순환)에 대한 염소 또는 염화수소의 비율에 좌우된다.

따라서, 전체메탄 존재량과 염소화된 매탄 재순환량에 따라 매통과주기시의 필요한 메탄 전화율을 제공하기 위하여 옥시염소화 반응에 첨가되는 염소와 염화수소의 양은 당분야에 숙련된 사람들에 의해 간단히 결정된다. 옥시염소화 반응대역에 투입되는 용융 혼합물은 일반적으로 염화제이구리 약 20%-55중량%를 함유하고, 용융물중에서의 옥시염소화물의 용해도는 약 0.5중량% 일반적으로는 4중량%이다. 옥시염소화물은 보통 약 1중량%-3중량 %의 양으로 존재한다.

옥시염화물은 그 공정상에 필요한 산소를 공급해준다. 따라서, 그와같은 필요물을 제공하기 위해서는 용융물중에 충분한 양의 옥시염화물이 존재하지 않으면 안된다. 그러나 염순환율을 조절하면, 용융물의 여러가지 성분들의 양이 공정상의 필요물질을 제공하는 중에도 변화될 수 있음을 알아야한다.

옥시염화물은 용융물을 별도의 반응 대역에서 산소분자와 접촉시키면 생성되는데, 일반적으로 산소분자를 제공하기 위해서는 약 371℃-510℃의 온도 바람직하게는 약 430℃-482℃의 온도에서 공기를 사용한다. 압력은 일반적으로 약 1-10기압이며, 체류시간은 약 1-60초이다. 그러나 체류시간은 보다 단축하거나 연장할 수 있음을 알아야한다.

본 발명을 첨부된 도면에 따라 상세히 설명하면 다음과 같다. 그러나, 이 때문에 본 발명에 제한되는 것은 아님을 유의하여야 한다.

또한, 용융된 구리 염화물염은 부식성이 크기 때문에 공정장치는 적당히 방식시키지 않으면 안된다. 예를들면 반응기를 초자로 내장하여도 된다. 마찬가지로 펌프를 용융점의 이송을 위해 사용하는 경우에도, 그것 역시 방식되어야 한다. 그러나, 용융염은 당분야에 널리 알려진 바와같이, 가스리프트를 사용하여 반응기를 사이로 보내는 것이 바람직하다.

제 1 도에 관해서, 선 10을 통해 염화칼륨, 염화제일구리 및 염화제이구리 같은 용융된 염화물염을 그 용융점을 산화시키는데 적당한 온도와 압력에서 상기한 바와같이 유지되는 반응기 11의 반응부 상부로 주입시킨다. 선 12에 있는 공기와 같은 압출된 산호 함유가스는 반응기 11의 저부로 유입되어 하향 용융염과 향류 접촉하여 통과되며, 그 결과 구리의 옥시염소화 물은 생성하기 위한 열이 동시에 방출되어 염을 산화시킨다. 주로 공기와 함께 주입된 질소가 주성분인 배기가스는 상기한 바와같이 배기가스를 선 13을 통해주입된 상승가스와 혼합시키는 반응기 11의 상부로 올라간다.

배기가스는 분무 냉각액, 특히 배기가스를 냉각시키기 위하여 선 14를 통해 유입시킨 수용성 염화수소와 반응기 11의 상부에서 직접 접촉시키며, 그에따라 배기가스에서 증발되어 혼입된 염이 제거된다.

이제, 증발된 냉각액이 포함되어 있는 배기 가스는 선 15를 통하여 반응기 11로부터 회수되고 당분야에서 공지된 수직 냉각탑 16으로 유입되는데, 여기서는 배기 가스가 적당한 냉각액, 특히 배기가스로부터 증발된 냉각액을 제거하기 위해선 17을 통해 유입시킨 수용성 염화수소와의 직접 접촉에 의해 냉각된다.

냉각액은 선 18을 통해 냉각탑 16의 저부에서 회수되고, 제1부분은 산화기 11에 있는 배기가스를 냉각시키기 위해 선 14를 통과하게 된다. 냉각액의 제2유분은 선 17을 통해 냉각탑 16으로 유입시키는 냉각기 21을 포함하는 선 19을 통과한다.

주로 질소로 이루어진 배기가스는 선 22을 통해 냉각탑 16으로부터 회수되는데, 그 일부는 선 23을 통해 정화된다. 나머지 질소 배기가스는 압축기 24에서 압축되는데, 그 온도는 선 17을 따라 냉각탑 16으로부터 회수되는데, 그 일부는 선 23을 통해 정화된다. 나머지 질소배기가스는 압축기 24에서 압축되는데, 그 온도는 선 17을 따라 냉각탑 16으로 유입시키기 위한 냉각기 21이 들어있는 선 19을 통과하기전에 열교환기 63에서 조절된다.

질소가 주성분인 배기가스는 선 22를 통해 냉각탑 16으로부터 회수되는데. 그 일부는 선 23을 통해 정화된다. 나머지 질소 배기가스는 압축기 24에서 압축되는데, 그 온도는 이하 설명하는 바와같이, 용융염을 이송시키기 위한 상승가스로 사용하기 위하여 선 25 및 26을 통해 통과시키기 전에 열교환기 63에서 조절된다.

구리의 옥시 염화물을 함유한 용융염은 선 31을 통해 산화기 11의 저부로부터 회수되며, 선 25에 있는 상승가스에 의해 반응기 33의 반응부분 상부 가까이에 있는 분리기 32로 올라간다. 분리기 32에서 용융염은 상승가스와 분리되는데, 분리된 상승가스는 선 35를 통해 회수되며 선 13을 통해 산화기 11의 냉각부분으로 유입시키기 위해 산화 반응기로부터 나온 상승가스와 혼합한다. 선 44에 있는 공급메탄, 선 43에 있는 공급염소와 또는 염화수소, 그리고 선 46에 있는 재순환 메탄 및 염소화된 메탄들은 반응기 33의 저부로 유입되며, 희망하는 염소화된 메탄생성물의 되도록 메탄을 효과적으로 염소화시키기 위해 거기에서 하향하는 용융염으로 접촉시킨다.

염소화된 메탄의 재순환은 사염화탄소의 순생성이 억제되는데 충분한 양의 사염화 탄소를 포함한다. 즉, 반응기 33에서 회수한 사염화탄소의 양은 반응기 33에 유입한 양과 거의같다. 필요한 전체 생성물에 따라, 염소화된 메탄의 재순환물은 염화메틸을 함유하며, 또한 염화메틸렌을 함유하는 수도 있다.

제 2 도에 따라 이하 설명하는 바와같이, 염화메틸은 그 전체 생성이 소거되는 양으로 하여 유입시키며, 또 반응기 33에 유입되기는 하였으나 염화메틸렌은 그 전체 생성이 소거되는 양으로 하여 유입시키지는 않는다.

염소화된 메탄(그 반응 유출물은 희망하는 염소화된 전체 메탄생성물에 관계없이 염화메틸, 염화메틸렌 클로로포름 및 사염화탄소를 포함한다. 미전화 메탄, 수증기, 약간의 염화수소(일반적으로 동량의 염화수소가스에 상당함) 및 탄소 산화물을 함유하는 반응 유출물은 배기가스를 냉각시키고 그에따라 배기가스로 부터 증발 혼입된 염을 제거하기 위하여 선 53을 통해 유입된 보다 중질(重質)의 클로로메탄과 같은 냉각액과 직접 접촉된다. 증발된 냉각에 포함된 배기가스는 선 54를 따라 반응기 33으로부터 회수되며, 일반적으로 101과 같이 설계된 분리및 회수 부분으로 유입된다. 분리및 회수부분 101에서는 전체 염소화된 메탄생성물이 선 102를 통해 회수되며, 또 미반응 메탄과 희망하는 염소화된 메탄 생성물 이외의 염소화된 메탄은 회수되고 선 45를 통해 반응기 33으로 재순환된다. 분리및 회수는 생성물로서 회수된 염소화된 메탄에 따른 특별한 회수방법과 함께 당분야에 공지된 여러가지 방법중에 임의의 방법으로 수행할 수가 있다.

용융염은 선 61을 통해 반응기 33의 저부로부터 회수하여 선 26에 있는 상승가스에 의해 반응기 11의 상부 근처에 있는 분리기 62로 올라간다.

분리기 62에서는, 용융염의 상승가스로부터 분리되어 선 10을 통해 반응기 11로 유입된다. 상승가스는 선 64를 통해 반응기 62로부터 회수되며, 선 13을 통해 반응기 11의 냉각부분 상부로 유입시키기 위해 선 35에 있는 상승가스와 혼합된다.

이제, 염화메틸렌, 클로로포름 및 사염화탄소의 염소화된 전체메탄 생성물을 회수하기 위한 수단은 제 2 도에 상세히 나타나 있다. 이에 따르면, 총생성물은 약간의 염화메틸렌의 재순환을 필요로하고 일정량의 클로로포름을 포함한다(재순환된 양은 그 순 생성을 소거하는데 충분하지 않다). 그러나, 어떤 경우에는 염화메틸렌, 클로로포름 및 사염화탄소는 염화메틸렌의 재순환이 없어도 순 생성물로서 생성되는 수가 있음을 유의해야 한다.

제 2 도를 보면, 선 54에 있는 반응 유출물은 그 반응 유출물로 부터 첫째로 수분을 응축시키기 위해서 응축기 110에서 응축된다(응축된 물에는 만약 있다면, 염화수소도 역시 함유될 것이다).

상기 냉각은 냉각액으로 사용된 염소화된 탄화수소를 포함하여 염소화된 탄화수소를 응축시키는 결과를 역시 초래한다. 응축된 물 및 염소화된 탄화수소는 선 112을 통해 회수되는 수성상 및 선 113을 통해 회수되는 염소화된 탄화수소상과 함께 분리기 111에서 분리된다. 선 113에 있는 염소화 탄화수소의 일부는 반응기 33을 위한 냉각액으로서 선 53을 통해 재순환된다. 반면에 필요하다면, 그와같은 모든 염소화 탄화수소는 냉각액으로서 재순환시켜도 된다.

선 112에 있는 수성상은 스트리핑 컬럼(도시되지 않았음)에서 혼입용해된 염소화 탄화수소를 제거하며, 선 112a에 있는 염소화된 회수 탄화수소(스트리핑 컬럼으로부터의)는 선 113에 있는 염소화 탄화수소와 혼합된다. 물중에 들어있는 염화수소의 양에 따라, 물은 염화수소 또는 염화수소의 진한 용액을 회수하기 위해 역시 처리되는 수가 있다.

선 114에 있는 가스 유출물의 잔여부분은 가스 유출물로부터 잔여염화수소를 제거하기 위하여 115로서 도시한 당분야에 알려진 형태의 알칼리 세정실을 통해 임의로 통과된다.

알칼리 세정실 115로부터 나온 가스 유출물은 선 116에서 이용된다면, 물 및 염소화 탄화수소를 더욱 응축시키기 위하여 일반적으로 117로 도시한 냉각 및 분리실을 통해 통과된다. 즉 이산화탄소를 제거하기 위해 당분야에 알려진 형태의 산성가스 제거실 118 및 건조기 119를 통과하여 분별증류 컬럼 121로 유입된다. 또한 필요하다면 분리실 117에서 회수된 염소화 탄화수소의 일부는 냉각액으로서 반응기 33으로 재순환시키는 수가 있다. 분리실 117에서 분리된 물은 역시 분별 증류컬럼 121로 유입되는 염소화된 회수 탄화수소와 함께 어떤 염소화 탄화수소를 회수하기 위해 스프리핑 컬럼으로 통과되는 수가 있다.

분별 증류 컬럼 121은 염화메틸렌보다도 가벼운 상부의 성분, 즉 메탄과 염화메틸을 회수하기 위하여 여러가지 온도및 압력하에서 조작된다. 선 45에 있는 분별 증류 컬럼 121로부터 나온 상부 물질은 반응기 33으로 재순환된다.

선 122에 있는, 분별증류 컬럼 121의 저부에서 나온 물질은 상부물질로서 염화메틸렌을 회수하기 위한 온도 및 압력하에서 조작되는 분별 증류컬럼 123으로 유입된다. 선 124에 있는 상부물질인 염화메틸렌의 일부는 반응기 33으로부터 재순환되고, 잔여부분은 총생성물로서 회수된다. 선 125에 있는, 분별증류 컬럼 123으로 부터 나온 저부물질은 상부물질로서 클로로포름을 회수하기 위한 온도와 압력하에서 조작되는 분별증류 컬럼로 129유입시키는 수가 있다. 선 131에 있는 상부물질인 사염화탄소는 반응기 33으로 재순환된다. 선 132에서 이량체로 이루어진 저부물질은 그것을 연소시키고, 또 그에따라 염화수소 및 염소로서의 염소가를 회복시키기 위하여 선 134에 있는 산호 함유 가스를 따라 연소실 133으로 유입시킨다.

염소화 탄화수소를 연소시켜 염소가를 회복시키는 일반적인 방법은 미국특허번호 제3,548,016호에 기재되어 있다.

본 발명은 다음의 실시예로서 더욱 예증이 되지만, 이것이 본 발명의 범위를 제한시키는 것이 아님을 알아야 한다.

[실시예]

다음의 공급물질들을 450℃의 온도와 대기압에서 39.4%의 염화제이구리, 2.6%구리 산염소화물, 30%의 염화칼륨 및 28%의 염화제이구리로 이루어진 용융 혼합물과 접촉시킨다.

공급물질-몰%

실시예 CH₄Cl₂HCl CCl₄

1 63.9 22.3 0 13.8

2 38.6 25.7 0 35.7

전체생성물질-몰%

실시예 CH₃Cl CH₂Cl₂CHCl₃CCl₄이량체

1 38 24 36 0 2

2 21.8 31.5 44.0 0 2.7

본 발명에 의하면 사염화탄소의 생성이 완전히 소거되었으며 이러한 결과는 매통과 주기시의 메탄의 전화율에 상관없이 즉 제한하지 않고도 얻어진다. 비록 이러한 공정으로 인해 이량체의 생성이 증가되지만 그러한 증가는 메탄의 전화율을 증가시키는 능력과, 또 상기 이량체의 염소가는 상기한 바와같이 연소에 의해 회복될 수 있다는 사실로 보상되고도 남음이 있다. 더우기, 이량체로 전화된 메탄의 총량은 사염화탄소로 전화된 메탄의 총량보다도 적으며 따라서 불필요한 생성물(사염화 탄소와 이량체)로 전화되는 메탄의 총량은 감소된다.

본 발명에 의한 방법에서는 탄소 산화물의 생성을 최소로 할때 유익한 결과를 얻게된다.

Claims (1)

1. 옥시염소화 반응대에서 사염화탄소를 전혀 생성하는 일이없이, 메탄과 염화수소, 염소 또는 그 혼합물을 염화제일구리, 염화제이구리 및 구리의 옥시염화물로 이루어진 용융 혼합물과 접촉시키는 것을 특징으로 하는 메탄의 옥시 염소화 방법.

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