KR20240082968A - Efem for managing humidity including local dehumidification module - Google Patents

Efem for managing humidity including local dehumidification module Download PDF

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KR20240082968A
KR20240082968A KR1020230015057A KR20230015057A KR20240082968A KR 20240082968 A KR20240082968 A KR 20240082968A KR 1020230015057 A KR1020230015057 A KR 1020230015057A KR 20230015057 A KR20230015057 A KR 20230015057A KR 20240082968 A KR20240082968 A KR 20240082968A
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dehumidified
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우인근
박진호
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주식회사 저스템
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Abstract

일 실시예는, 공정대상이 되는 기판이 적재되는 풉(FOUP), 도어를 통해 상기 풉과 연통되고, 상기 기판이 일시적으로 체류하는 챔버, 투입된 압축기체를 제습하여 제습된 기체를 수송관으로 공급하는 국소 제습모듈, 및 상기 수송관에 연결되며 상기 챔버 내부에 배치되고, 유입되는 상기 제습된 기체의 흐름을 균일화하고 수직층류화하여 상기 도어의 상기챔버 내부측면 상에 분사하는 수직층류생성기를 포함하는 EFEM를 제공할 수 있다.In one embodiment, a FOUP in which a substrate to be processed is loaded, a chamber that communicates with the FOUP through a door and where the substrate temporarily resides, and a chamber that dehumidifies the input compressed gas and supplies the dehumidified gas to a transport pipe. a local dehumidifying module, and a vertical laminar flow generator connected to the transport pipe and disposed inside the chamber, which equalizes the flow of the incoming dehumidified gas, converts it into a vertical laminar flow, and sprays it on the inner side of the chamber of the door. EFEM can be provided.

Description

국소제습장치를 포함하는 습도제어 EFEM{EFEM FOR MANAGING HUMIDITY INCLUDING LOCAL DEHUMIDIFICATION MODULE} Humidity control including local dehumidification device EFEM{EFEM FOR MANAGING HUMIDITY INCLUDING LOCAL DEHUMIDIFICATION MODULE}

본 실시예는 EFEM(Equipment Front End Module) 기술에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 국소제습장치를 포함하는 습도제어 EFEM에 관한 것이다. This embodiment relates to EFEM (Equipment Front End Module) technology, and more specifically, to a humidity control EFEM including a local dehumidification device.

최근 정보화사회로의 전환이 가속화되면서 고집적 전자장치들에 대한 수요가 급증하고 있다. 고집적 전자장치들은 대표적인 예로서, 고해상도 디스플레이장치, 고밀도 고성능 반도체장치들로서 고정밀의 표면처리 공정을 통해 단일 면적에 다수의 전자적인 구조를 집적함으로서 제조된다.Recently, as the transition to an information society has accelerated, demand for highly integrated electronic devices is rapidly increasing. Representative examples of highly integrated electronic devices include high-resolution display devices and high-density, high-performance semiconductor devices, which are manufactured by integrating multiple electronic structures in a single area through a high-precision surface treatment process.

고집적 전자장치의 제조에 사용되는 공정으로는 박막증착공정, 포토리소그라피공정, 식각공정 등이 알려져 있는데, 고집적 전자장치는 이러한 서로 다른 공정이 1회 이상씩 적용되는 복합 공정에 의해 제조된다.Processes used to manufacture highly integrated electronic devices include thin film deposition processes, photolithography processes, and etching processes. Highly integrated electronic devices are manufactured through a complex process in which these different processes are applied more than once.

공정시스템은 고집적 전자장치에 다수의 공정을 적용시키기 위해 EFEM(Equipment Front End Module), 반송로봇, 공정챔버 등의 공정 처리장치들을 가질 수 있다. 공정대상이 되는 기판-예를 들어, 반도체 웨이퍼-은 이러한 공정 처리장치들 중 EFEM에 대기하고 있다가 반송로봇에 의해 적절한 공정챔버로 이동된 후 필요한 공정을 거치게 된다.The process system may have process processing devices such as EFEM (Equipment Front End Module), transfer robot, and process chamber to apply multiple processes to highly integrated electronic devices. The substrate to be processed - for example, a semiconductor wafer - is waiting in the EFEM among these process processing devices, and is then moved to an appropriate process chamber by a transfer robot and then undergoes the necessary processes.

EFEM은 로드포트모듈(LPM : Load Port Module), 풉(FOUP : Front-Opening Unified Pod), EFEM챔버 등을 가질 수 있다.EFEM may have a Load Port Module (LPM), a Front-Opening Unified Pod (FOUP), an EFEM chamber, etc.

로드포트모듈은 풉이라고 호칭되는 반도체 웨이퍼 보관용기가 결합되는 장치이다. 풉에는 다수의 반도체 웨이퍼가 적재될 수 있는데, 반송로봇을 포함하는 이송장치는 풉에 적재된 반도체 웨이퍼를 순차적으로 공정챔버로 전달하게 된다. 반도체 웨이퍼의 처리는 청정도가 높은 클린룸 내에서 진행되지만, 이보다 더 높은 청정도를 제공하기 위해 풉에 반도체 웨이퍼들이 적재될 수 있다.The load port module is a device that combines a semiconductor wafer storage container called a poo. A plurality of semiconductor wafers can be loaded on the pooh, and a transfer device including a transfer robot sequentially delivers the semiconductor wafers loaded on the pooh to the process chamber. Processing of semiconductor wafers is carried out in a clean room with high cleanliness, but semiconductor wafers can be loaded on the poof to provide even higher cleanliness.

한편, 수분은 공정 처리장치들로부터 발생하는 흄과 반응하여 소자를 산화 혹은 식각시킬 수 있다. 또한, 수분은 미세 반응 입자와 반응하여 이물을 형성시킬 수 있다. 이러한 소자의 산화, 소자의 식각 및/혹은 이물의 형성은 소자의 수율을 떨어뜨리는 요인이 될 수 있다. 공정대상이 되는 기판-예를 들어, 반도체 웨이퍼는 상당한 시간을 EFEM의 풉에서 체류하기 때문에, 산업현장에서는 EFEM의 풉 내부 습도 관리를 수율 향상을 위한 중요한 요소로 인식하고 있다.Meanwhile, moisture can react with fumes generated from process equipment and oxidize or etch the device. Additionally, moisture may react with fine reactive particles to form foreign substances. Oxidation of the device, etching of the device, and/or formation of foreign substances may cause a decrease in the yield of the device. Since the substrate that is the subject of processing - for example, a semiconductor wafer - stays in the EFEM foo for a significant amount of time, the industrial field recognizes humidity management inside the EFEM foo as an important factor in improving yield.

이러한 배경에서, 본 실시예의 목적은, 일 측면에서, EFEM 내 국소공간의 습도를 관리하는 기술을 제공하는 것이다. 다른 측면에서, 본 실시예의 목적은, 비용을 최소화하면서 EFEM의 습도를 관리하는 기술을 제공하는 것이다. 또 다른 측면에서, 본 실시예의 목적은, 기존 EFEM챔버를 교체하지 않으면서 기판에 영향을 미치는 주요 영역에서의 습도를 관리하는 기술을 제공하는 것이다. 또 다른 측면에서, 본 실시예의 목적은, 공간을 많이 차지하지 않으면서 EFEM의 습도를 관리하는 기술을 제공하는 것이다. 또 다른 측면에서, 본 실시예의 목적은, 전력소비를 크게 줄이면서 EFEM의 습도를 관리하는 기술을 제공하는 것이다.Against this background, the purpose of this embodiment is, in one aspect, to provide a technology for managing the humidity of a local space within an EFEM. In another aspect, the purpose of this embodiment is to provide a technique for managing humidity in EFEM while minimizing cost. In another aspect, the purpose of this embodiment is to provide a technique for managing humidity in key areas affecting the substrate without replacing an existing EFEM chamber. In another aspect, the purpose of this embodiment is to provide a technology for managing the humidity of the EFEM without taking up a lot of space. In another aspect, the purpose of this embodiment is to provide a technique for managing humidity in EFEM while significantly reducing power consumption.

전술한 목적을 달성하기 위하여, 일 실시예는, 공정대상이 되는 기판이 적재되는 풉(FOUP); 도어를 통해 상기 풉과 연통되고, 상기 기판이 일시적으로 체류하는 챔버; 투입된 압축기체를 제습하여 제습된 기체를 수송관으로 공급하는 국소 제습모듈; 및 상기 수송관에 연결되며 상기 챔버 내부에 배치되고, 유입되는 상기 제습된 기체의 흐름을 균일화하고 수직층류화하여 상기 도어의 상기챔버 내부측면 상에 분사하는 수직층류생성기;를 포함하는 EFEM를 제공할 수 있다.In order to achieve the above-described object, one embodiment includes a FOUP on which a substrate to be processed is loaded; a chamber in communication with the poo through a door and in which the substrate temporarily resides; A local dehumidification module that dehumidifies the injected compressed gas and supplies the dehumidified gas to the transportation pipe; and a vertical laminar flow generator connected to the transport pipe and disposed inside the chamber, which homogenizes the flow of the incoming dehumidified gas, converts it into a vertical laminar flow, and sprays it on the inner side of the chamber of the door. can do.

일 예로서, 상기 국소 제습모듈은 멤브레인 제습모듈이고, 상기 멤브레인 제습모듈은 상기 압축기체에서 이물질을 제거하는 적어도 하나의 이물질 제거필터와 상기 압축기체를 제습하여 제습된 기체를 배출하는 멤브레인을 포함할 수 있다.As an example, the local dehumidification module is a membrane dehumidification module, and the membrane dehumidification module may include at least one foreign matter removal filter that removes foreign matter from the compressed gas and a membrane that dehumidifies the compressed gas and discharges the dehumidified gas. You can.

일 예로서, 상기 수직층류생성기는 상기 챔버 내부에 챔버 내부 공간과 분리 형성되며, 상기 수송관에 연결되어 상기 제습된 기체가 유입되는 제습기체 유입공간; 상기 제습기체 유입공간에 밀결합되며 상기 제습된 기체의 흐름을 균일화하는 디퓨징 필터; 및 상기 디퓨징 필터에 밀결합되며 상기 디퓨징 필터를 통해 균일화된 제습된 기체를 수직층류(laminar flow)화하여 상기 도어의 상기 챔버 내부측면 상에 분사하는 수직층류형성관;을 포함할 수 있다.As an example, the vertical laminar flow generator includes a dehumidifying gas inlet space formed inside the chamber, separated from the chamber interior space, and connected to the transport pipe into which the dehumidified gas flows; a diffusing filter tightly coupled to the dehumidifying gas inlet space and uniformizing the flow of the dehumidified gas; and a vertical laminar flow forming pipe that is tightly coupled to the diffusing filter and forms a vertical laminar flow of the dehumidified gas homogenized through the diffusing filter and sprays it on the inner side of the chamber of the door. .

일 예로서, 상기 디퓨징 필터는 HEPA 필터 또는 ULPA 필터를 포함할 수 있다.As an example, the diffusing filter may include a HEPA filter or ULPA filter.

일 실시예는, 상기 풉의 하측에 배치되어 상기 풉을 지지하는 로드포트모듈;를 더 포함하고, 상기 로드포트모듈은 상기 풉 내부 공간을 질소(N2)로 퍼지 시키는, EFEM을 제공할 수 있다.One embodiment further includes a load port module disposed below the foop to support the foop, wherein the load port module can provide an EFEM that purges the inner space of the foop with nitrogen (N2). .

일 실시예는, 상기 제습기체 유입공간의 기체 흐름양과 기체 흐름압 중 적어도 하나를 조절하는 제어부;를 더 포함하는, EFEM을 제공할 수 있다.One embodiment may provide an EFEM that further includes a control unit that adjusts at least one of the gas flow amount and gas flow pressure in the dehumidifying gas inflow space.

일 예로서, 상기 제습기체 유입공간은 복수 개이고, 상기 제어부는 각각 제습기체 유입공간의 기체 흐름양과 기체 흐름압 중 적어도 하나를 개별적으로 조절할 수 있다.As an example, there are a plurality of dehumidifying gas inflow spaces, and the control unit can individually adjust at least one of the gas flow amount and gas flow pressure of each dehumidifying gas inlet space.

일 예로서, 상기 수직층류생성기는 상기 챔버 내부 측면에 배치되되 상기 도어 상방에 위치하고, 상기 수직층류형성기는 상기 도어 방향으로 형성되는 다공관을 포함할 수 있다.As an example, the vertical laminar flow generator may be disposed on an inner side of the chamber but above the door, and the vertical laminar flow generator may include a porous pipe formed in the direction of the door.

일 예로서, 상기 수직층류생성기는 상기 도어의 상기 챔버 내부측면보다 넓은 면적으로 기체를 분사할 수 있다.As an example, the vertical laminar flow generator may spray gas to an area larger than the inner side of the chamber of the door.

일 예로서, 상기 챔버에는 서로 분리된 제1기체유입구와 제2기체유입구가 형성되고, 상기 제1기체유입구는 상기 챔버의 측면에 형성되어 상기 수송관에 연결되어 상기 제습된 기체가 유입되고, 상기 제2기체유입구는 상기 챔버의 상면에 형성되어 제습되지 않은 기체가 유입될 수 있다.As an example, the chamber is formed with a first gas inlet and a second gas inlet that are separated from each other, and the first gas inlet is formed on a side of the chamber and is connected to the transport pipe to allow the dehumidified gas to flow in, The second gas inlet is formed on the upper surface of the chamber through which gas that has not been dehumidified can be introduced.

일 예로서, 상기 챔버 내부는 상기 챔버에서 상기 도어에 인접한 제1공간과 상기 제1 공간과 다른 제2공간으로 구분되고, 상기 멤브레인 제습모듈에 의해 제습된 기체는 상기 제1기체유입구와 상기 수직층류생성기를 통해 상기 제1공간으로 공급되고, 상기 제2기체유입구에서 유입되는 제습되지 않은 기체는 팬필터유닛(FFU)에 의하여 상기 제2공간으로 공급될 수 있다.As an example, the inside of the chamber is divided into a first space adjacent to the door in the chamber and a second space different from the first space, and the gas dehumidified by the membrane dehumidification module is perpendicular to the first gas inlet. The non-dehumidified gas supplied to the first space through the laminar flow generator and introduced through the second gas inlet may be supplied to the second space by a fan filter unit (FFU).

일 예로서, 상기 수직층류생성기에서 출력되는 제습된 기체의 풍속은 상기 팬필터유닛에 의한 제습되지 않은 기체의 풍속보다 클 수 있다.As an example, the wind speed of the dehumidified gas output from the vertical laminar flow generator may be greater than the wind speed of the non-dehumidified gas produced by the fan filter unit.

이상에서 설명한 바와 같이 본 실시예에 의하면, EFEM 내 국소공간의 습도를 관리하는 기술을 제공할 수 있다. 그리고, 본 실시예에 의하면, 비용을 최소화하면서 EFEM의 습도를 관리할 수 있고, 기존 EFEM챔버를 교체하지 않으면서 기판에 영향을 미치는 주요 영역에서의 습도를 관리할 수 있다. 그리고, 본 실시예에 의하면, 공간을 많이 차지하지 않으면서 EFEM의 습도를 관리할 수 있고, 전력소비를 크게 줄이면서 EFEM의 습도를 관리할 수 있다.As described above, according to this embodiment, a technology for managing the humidity of a local space within the EFEM can be provided. Additionally, according to this embodiment, the humidity of the EFEM can be managed while minimizing costs, and the humidity in key areas that affect the substrate can be managed without replacing the existing EFEM chamber. And, according to this embodiment, the humidity of the EFEM can be managed without taking up a lot of space, and the humidity of the EFEM can be managed while significantly reducing power consumption.

도 1은 일 실시예에 따른 공정시스템의 구성을 나타내는 측면도이다.
도 2는 일 실시예에 따른 공정시스템의 구성을 나타내는 상면도이다.
도 3은 EFEM의 습도 관리를 위한 제1예시 기술을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 EFEM의 습도 관리를 위한 제2예시 기술을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 일 실시예에 따른 EFEM의 제1예시에 대한 측면 투시도이다.
도 6은 일 실시예에 따른 EFEM의 제1예시에 대한 상면 투시도이다.
도 7은 일 실시예에 따른 EFEM의 제1예시에 대한 정면 투시도이다.
도 8은 일 실시예에 따른 EFEM의 수직층류형성관의 예시 단면도이다.
1 is a side view showing the configuration of a process system according to an embodiment.
Figure 2 is a top view showing the configuration of a process system according to an embodiment.
Figure 3 is a diagram for explaining a first example technology for humidity management of EFEM.
Figure 4 is a diagram for explaining a second example technology for humidity management of EFEM.
Figure 5 is a side perspective view of a first example of EFEM according to an embodiment.
Figure 6 is a top perspective view of a first example of EFEM according to an embodiment.
Figure 7 is a front perspective view of a first example of an EFEM according to an embodiment.
Figure 8 is an exemplary cross-sectional view of a vertical laminar flow forming pipe of an EFEM according to an embodiment.

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail through illustrative drawings. When adding reference numerals to components in each drawing, it should be noted that identical components are given the same reference numerals as much as possible even if they are shown in different drawings. Additionally, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.

또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.Additionally, when describing the components of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are only used to distinguish the component from other components, and the nature, order, or order of the component is not limited by the term. When a component is described as being “connected,” “coupled,” or “connected” to another component, that component may be directly connected or connected to that other component, but there is another component between each component. It will be understood that elements may be “connected,” “combined,” or “connected.”

도 1은 일 실시예에 따른 공정시스템의 구성을 나타내는 측면도이고, 도 2는 일 실시예에 따른 공정시스템의 구성을 나타내는 상면도이다.FIG. 1 is a side view showing the configuration of a process system according to an embodiment, and FIG. 2 is a top view showing the configuration of a process system according to an embodiment.

도 1 및 도 2를 참조하면, 공정시스템은 EFEM(100), 로드락장치(210), 반송챔버(220), 및 공정챔버(230)를 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2 , the process system may include an EFEM 100, a load lock device 210, a transfer chamber 220, and a process chamber 230.

EFEM(100)은 웨이퍼와 같은 기판(W)을 공정챔버(230)로 공급하기 위한 인터페이스모듈로서, 기판(W)은 EFEM(100)을 통해 공정시스템에 투입되고 반출될 수 있다.The EFEM (100) is an interface module for supplying a substrate (W), such as a wafer, to the process chamber 230. The substrate (W) can be inputted into and taken out of the process system through the EFEM (100).

공정대상이 되는 기판(W)은 공정챔버(230)로 이송되기 전에 EFEM(100)에 체류하고 있다가 필요한 시점에 반송챔버(220)를 거쳐 공정챔버(230)로 이송될 수 있다.The substrate W to be processed may remain in the EFEM 100 before being transferred to the process chamber 230 and then transferred to the process chamber 230 through the transfer chamber 220 when necessary.

EFEM(100)에 체류하는 기판(W)들은 순차적으로 로드락장치(210)로 이송될 수 있다. 그리고, 로드락장치(210)로 이송된 기판(W)은 반송챔버(220)로 이송되고, 반송챔버(220)에 배치되는 반송로봇은 기판(W)을 공정챔버(230)로 이송시켜 기판(W)에 공정처리가 될 수 있게 한다.The substrates (W) remaining in the EFEM (100) may be sequentially transferred to the load lock device (210). Then, the substrate (W) transferred to the load lock device 210 is transferred to the transfer chamber 220, and the transfer robot disposed in the transfer chamber 220 transfers the substrate (W) to the process chamber 230 to form the substrate. (W) to enable fair processing.

공정시스템은 복수의 공정챔버들(230a, 230b, 230c)을 포함할 수 있고, 각각의 공정챔버들(230a, 230b, 230c)은 기판(W)에 대해 서로 다른 공정을 적용시킬 수 있다. 반송챔버(220)에 배치되는 반송로봇은 기판(W)을 제1공정챔버(230a)에 투입하여 기판(W)에 제1공정이 적용될 수 있게 하고, 제1공정챔버(230a)에서 반출된 기판(W)을 다시 제2공정챔버(230b)에 투입하여 기판(W)에 제2공정이 적용될 수 있게 한다. 그리고, 반송로봇은 기판(W)을 제3공정챔버(230c)에 투입하여 기판에 제3공정이 적용되게 할 수 있다.The process system may include a plurality of process chambers 230a, 230b, and 230c, and each of the process chambers 230a, 230b, and 230c may apply different processes to the substrate W. The transfer robot disposed in the transfer chamber 220 inserts the substrate W into the first process chamber 230a so that the first process can be applied to the substrate W, and the substrate W is carried out from the first process chamber 230a. The substrate W is put back into the second process chamber 230b so that the second process can be applied to the substrate W. Then, the transfer robot can input the substrate W into the third process chamber 230c to apply the third process to the substrate.

각 장치(120, 100, 210, 230) 사이에는 도어들(D1, D2, D3, D4)이 배치되어 있으면서 각 장치(120, 100, 210, 230) 사이의 기체가 혼합되는 것을 최소화시킬 수 있다. 예를 들어, EFEM(100)과 로드락장치(210) 사이에는 제2도어(D2)가 배치되고, 로드락장치(210)와 반송챔버(220) 사이에는 제3도어(D3)가 배치되며, 반송챔버(220)와 공정챔버(230) 사이에는 제4도어(D4)가 배치될 수 있다. 그리고, 각각의 도어(D1, D2, D3, D4)는 기판(W)이 이동될 때에만 개방되고, 그렇지 않은 시간에는 닫혀 있을 수 있다.Doors D1, D2, D3, and D4 are disposed between each device (120, 100, 210, and 230), thereby minimizing mixing of gases between each device (120, 100, 210, and 230). . For example, a second door (D2) is disposed between the EFEM (100) and the load lock device (210), and a third door (D3) is disposed between the load lock device (210) and the transfer chamber 220. , a fourth door D4 may be disposed between the transfer chamber 220 and the process chamber 230. Additionally, each door D1, D2, D3, and D4 may be opened only when the substrate W is moved and may be closed at other times.

EFEM(100)은 EFEM챔버(110), 풉(120), 로드포트모듈(130) 등을 포함할 수 있다.The EFEM 100 may include an EFEM chamber 110, a fob 120, a load port module 130, etc.

풉(120)에는 다수의 기판(W)이 적재될 수 있다. 다수의 기판(W)은 순차적으로 EFEM챔버(110)로 이송될 수 있다.A plurality of substrates (W) may be loaded on the foop 120. A plurality of substrates (W) may be sequentially transferred to the EFEM chamber 110.

풉(120)은 제1도어(D1)를 통해 EFEM챔버(110)와 연통될 수 있다. EFEM챔버(110) 내에는 이송장치가 배치될 수 있는데, 제1도어(D1)가 개방될 때, 이송장치가 풉(120)에서 기판(W)을 반출하고 로드락장치(210)로 전달할 수 있다.The foop 120 may be communicated with the EFEM chamber 110 through the first door D1. A transfer device may be disposed in the EFEM chamber 110. When the first door D1 is opened, the transfer device can unload the substrate W from the pooh 120 and transfer it to the load lock device 210. there is.

EFEM(100)은 복수의 풉(120a, 120b, 120c)을 포함할 수 있다. 각각의 풉(120a, 120b, 120c)은 서로 다른 위치에서 EFEM챔버(110)와 연통될 수 있다. EFEM챔버(110)에 배치되는 이송장치는 각각의 풉(120a, 120b, 120c)에 배치되는 제1도어들(D1a, D1b, D1c)을 순차적으로 개방하고 각각의 풉(120a, 120b, 120c)에서 순차적으로 기판(W)들을 반출해 낼 수 있다.EFEM (100) may include a plurality of foos (120a, 120b, 120c). Each foop (120a, 120b, 120c) may be in communication with the EFEM chamber 110 at different positions. The transfer device disposed in the EFEM chamber 110 sequentially opens the first doors (D1a, D1b, D1c) disposed in each foop (120a, 120b, 120c) and opens each foop (120a, 120b, 120c). The substrates (W) can be taken out sequentially.

풉(120)은 내부 공간이 EFEM챔버(110)에 비해 상대적으로 좁을 수 있다. 풉(120)은 상대적으로 좁은 공간을 가지기 때문에 기판(W)을 둘러싸는 기체 분위기를 잘 조절할 수 있다. 예를 들어, 반도체 웨이퍼와 같은 기판(W)은 수분, 산소 등에 노출되면 표면에 산화막이 형성될 수 있는데, 풉(120) 내부 공간을 질소(N2)로 퍼지(Purge)시키면 이러한 문제를 최소화시킬 수 있다.The interior space of the foof 120 may be relatively narrow compared to the EFEM chamber 110. Since the foof 120 has a relatively narrow space, the gas atmosphere surrounding the substrate W can be well controlled. For example, when a substrate (W) such as a semiconductor wafer is exposed to moisture, oxygen, etc., an oxide film may form on the surface. This problem can be minimized by purging the space inside the poof (120) with nitrogen (N2). You can.

풉(120)을 지지하는 로드포트모듈(130)은 풉(120) 내부 공간으로 징소(N2)를 공급할 수 있다. 로드포트모듈(130)은 N2공급장치, N2배관, MFC(Mass Flow Controller), 필터 등을 포함할 수 있다. N2공급장치에서 공급되는 N2는 N2배관을 통해 풉(120) 내부 공간으로 전달될 수 있는데, 이때, MFC가 N2 유체의 흐름을 제어할 수 있고, 질소(N2) 유통경로에 있는 필터가 이물질을 제거할 수 있다.The load port module 130 supporting the foop 120 can supply a ring element N2 to the inner space of the foop 120. The load port module 130 may include an N2 supply device, N2 pipe, MFC (Mass Flow Controller), filter, etc. N2 supplied from the N2 supply device can be delivered to the internal space of the pooh (120) through the N2 pipe. At this time, the MFC can control the flow of the N2 fluid, and the filter in the nitrogen (N2) distribution path removes foreign substances. It can be removed.

로드포트모듈(130)이 풉(120) 내부 공간으로 질소(N2)를 퍼지시키는 이러한 구조에 의하면, 풉(120) 내부 습도를 낮추는 시간을 단축할 수 있고, 반도체 웨이퍼와 같은 기판(W)의 오염(contamination) 억제 효과가 상승할 수 있고, 기판(W)의 이송시에 정전기 발생을 억제할 수 있으며, 미세입자들의 확산을 방지하고 미세입자들에 의한 기판(W)의 부식 가능성을 낮출 수 있게 된다.According to this structure in which the load port module 130 purges nitrogen (N2) into the inner space of the foop 120, the time to lower the internal humidity of the foop 120 can be shortened and the The contamination suppression effect can be increased, the generation of static electricity can be suppressed when transferring the substrate (W), the diffusion of fine particles can be prevented, and the possibility of corrosion of the substrate (W) by fine particles can be reduced. There will be.

한편, 수분은 공정 처리장치들로부터 발생하는 흄과 반응하여 소자를 산화 혹은 식각시킬 수 있고, 미세 반응 입자와 반응하여 이물을 형성시킬 수 있기 때문에, EFEM(100), 특히 기판(W)이 많은 시간을 체류하는 풉(120) 내에서 수분을 최소화시키는 것이 중요하다. 풉(120)은 상대적으로 좁은 공간을 가지고 있기 때문에 습도 저감이 용이할 수 있으나, EFEM챔버(110)는 상대적으로 공간이 넓기 때문에 습도 저감이 쉽지 않을 수 있다.On the other hand, moisture can react with fumes generated from process processing devices to oxidize or etch devices, and can react with fine reactive particles to form foreign substances, so the EFEM (100), especially the substrate (W), has many It is important to minimize moisture within the poof 120 where it resides for some time. Because the foof 120 has a relatively narrow space, it may be easy to reduce humidity, but because the EFEM chamber 110 has a relatively wide space, it may not be easy to reduce humidity.

이러한 EFEM에서의 습도를 관리하기 위한 기술이 다양하게 시도되었지만, 대부분 비용이 많이 들거나 효용성이 떨어지는 문제를 가지고 있었다.Various technologies have been attempted to manage humidity in EFEM, but most of them have problems such as high cost or low effectiveness.

도 3은 EFEM의 습도 관리를 위한 제1예시 기술을 설명하기 위한 도면이다.Figure 3 is a diagram for explaining a first example technology for humidity management of EFEM.

도 3을 참조하면, N2 순환형 EFEM챔버(110)는 기판(W)이 노출되는 공간에 질소(N2)를 순환시켜 공간 내의 습도를 제어할 수 있다.Referring to FIG. 3, the N2 circulation type EFEM chamber 110 can control the humidity in the space by circulating nitrogen (N2) in the space where the substrate W is exposed.

N2 순환형 EFEM챔버(110)의 상측에는 N2공급배관(10)이 연결될 수 있고, 하측에는 차압배기부(12)가 연결될 수 있다. 그리고, EFEM챔버(110)의 일측으로는 풉(120)이 연결될 수 있다.An N2 supply pipe 10 may be connected to the upper side of the N2 circulation type EFEM chamber 110, and a differential pressure exhaust unit 12 may be connected to the lower side. Also, the foo 120 may be connected to one side of the EFEM chamber 110.

EFEM챔버(110)는 N2공급배관(10)을 통해 내부 공간으로 질소(N2)를 공급할 수 있다. EFEM챔버(110)의 내부 공간은 질소(N2)가 순환될 수 있는 일정한 경로가 형성되어 있을 수 있고, N2공급배관(10)을 통해 공급된 질소(N2)는 해당 경로를 따라 내부 공간에서 순환할 수 있다.The EFEM chamber 110 can supply nitrogen (N2) to the internal space through the N2 supply pipe 10. The internal space of the EFEM chamber 110 may have a certain path through which nitrogen (N2) can be circulated, and nitrogen (N2) supplied through the N2 supply pipe 10 circulates in the internal space along the path. can do.

EFEM챔버(110)는 차압배기부(12)를 통해 내부 공간의 기압을 조절하고 내부 공간에서는 질소(N2) 밀도를 조절할 수 있다.The EFEM chamber 110 can control the air pressure of the internal space through the differential pressure exhaust unit 12 and control the nitrogen (N2) density in the internal space.

풉(120)은 로드포트모듈(130)을 통해 질소(N2) 퍼지될 수 있다. 풉(120) 내부 공간은 도어(D1)의 개방과 함께 EFEM챔버(110)와 연통될 수 있는데, 이때, 양 공간이 모두 질소(N2)로 충진되어 있기 때문에 EFEM(100) 전체의 습도가 낮은 상태로 관리될 수 있다.The poof 120 can be purged with nitrogen (N2) through the load port module 130. The inner space of the poof (120) can be communicated with the EFEM chamber (110) by opening the door (D1). At this time, since both spaces are filled with nitrogen (N2), the overall humidity of the EFEM (100) is low. status can be managed.

한편, N2 순환형 EFEM(100)는 질소(N2)가 EFEM챔버(110) 외부로 누설되면 안 되기 때문에 밀폐형 구조로 설계될 수 있다. 그런데, 종래의 EFEM챔버는 밀폐형 구조가 아니기 때문에 N2 순환형 EFEM챔버(110)를 도입하기 위해서는 EFEM챔버(110)를 교체해야하는 문제가 발생할 수 있다. 일반적으로 반도체 생산 공정에서의 공정장치의 교체는 막대한 비용과 시간 손실이 발생한다. 따라서, 이러한 비용과 시간 손실을 최소화할 수 있는 다른 기술의 적용이 필요할 수 있다.Meanwhile, the N2 circulating EFEM (100) can be designed as a closed structure because nitrogen (N2) should not leak outside the EFEM chamber (110). However, since the conventional EFEM chamber does not have a sealed structure, a problem may arise in that the EFEM chamber 110 must be replaced in order to introduce the N2 circulation type EFEM chamber 110. In general, replacement of process equipment in the semiconductor production process incurs enormous costs and time loss. Therefore, it may be necessary to apply other technologies that can minimize these costs and time losses.

도 4는 EFEM의 습도 관리를 위한 제2예시 기술을 설명하기 위한 도면이다.Figure 4 is a diagram for explaining a second example technology for humidity management of EFEM.

도 4를 참조하면, EFEM챔버(110)의 일측으로는 풉(120)이 연결되고, EFEM챔버(110)의 상측으로는 제습기(150)가 배치될 수 있다.Referring to FIG. 4, a foop 120 may be connected to one side of the EFEM chamber 110, and a dehumidifier 150 may be placed above the EFEM chamber 110.

EFEM챔버(110) 상측에 배치되는 제습기(150)는 외부로부터 흡입한 공기에서 수분을 제거하여 제습된 공기(F1)를 만들 수 있다. 그리고, 팬필터유닛(FFU: Fan Filter Unit, 140)은 제습기(150)에 의해 제습된 공기(F1)를 EFEM챔버(110)의 내부 공간으로 투입시킬 수 있다. 제습된 공기(F1)는 상측에서 하측으로 흐르다가 하측을 통해 외부로 방출될 수 있다.The dehumidifier 150 disposed above the EFEM chamber 110 can create dehumidified air F1 by removing moisture from air sucked in from the outside. Additionally, the fan filter unit (FFU) 140 can inject the air (F1) dehumidified by the dehumidifier 150 into the internal space of the EFEM chamber 110. The dehumidified air (F1) may flow from the upper side to the lower side and be discharged to the outside through the lower side.

풉(120)은 로드포트모듈(130)을 통해 질소(N2)로 퍼지될 수 있다. 풉(120) 내부 공간은 질소(N2) 퍼지를 통해 제습되고, EFEM챔버(110)의 내부 공간은 제습기(150)를 통해 제습될 수 있다.The poof 120 can be purged with nitrogen (N2) through the load port module 130. The interior space of the foof 120 may be dehumidified through nitrogen (N2) purge, and the interior space of the EFEM chamber 110 may be dehumidified through the dehumidifier 150.

한편, 이러한 구조에서 제습기(150)는 EFEM챔버(110)의 상측 공간을 모두 차지할 수 있는데, 다른 구조물로 인해 상측 공간을 모두 사용할 수 없는 경우 적용이 어려울 수 있다. 그리고, 이러한 구조에서 제습기(150)는 상대적으로 큰 공간에 해당되는 EFEM챔버(110)의 내부 공간 전체를 제습해야하기 때문에 전력 소비량이 많고 효율성이 낮아지는 문제를 가질 수 있다.Meanwhile, in this structure, the dehumidifier 150 can occupy all of the upper space of the EFEM chamber 110, but application may be difficult if the entire upper space cannot be used due to other structures. In addition, in this structure, the dehumidifier 150 must dehumidify the entire internal space of the EFEM chamber 110, which is a relatively large space, so it may have problems of high power consumption and low efficiency.

일 실시예에 따른 EFEM은 전술한 기술의 문제점을 해결할 수 있다. EFEM 중에서 기판은 대부분의 시간을 풉 내부 공간에서 체류한다. 그리고, 이송할 때의 일부 시간만 EFEM챔버 내에서 체류한다. 일 실시예에 따른 EFEM은 이러한 상황을 고려하여 EFEM챔버의 내부 공간 중에서 풉 부근의 영역에 국소제습장치를 이용하여 기체 커튼을 형성함으로써, 기판 이송을 위해 도어가 개방되더라도 풉 내부의 기체 분위기를 유지 관리할 수 있다. 이러한 일 실시예에 의하면, 풉 부근 영역에 기체 커튼을 형성하기 때문에 EFEM챔버 내부 기체가 풉 내부 공간으로 유입되는 것을 차단할 수 있고 이에 따라 풉 내부 공간 내의 기체 분위기를 관리할 수 있다. 또한, 풉과 멀리 떨어진 공간에 불필요하게 과도한 제습을 실시하지 않아, 비용과 전력의 소비를 최소화시킬 수 있다.EFEM according to one embodiment can solve the problems of the above-described technology. During EFEM, the substrate spends most of its time in the inner space. And, it stays in the EFEM chamber only for a part of the time during transfer. Taking this situation into account, EFEM according to one embodiment forms a gas curtain using a local dehumidification device in the area around the foop in the internal space of the EFEM chamber, thereby maintaining the gas atmosphere inside the foop even when the door is opened for substrate transfer. It can be managed. According to this embodiment, since a gas curtain is formed in the area near the pooh, it is possible to block the gas inside the EFEM chamber from flowing into the inner space of the fooh, and thus the gas atmosphere within the inner space of the fooh can be managed. Additionally, by avoiding unnecessary excessive dehumidification in spaces far away from the foo, costs and power consumption can be minimized.

도 5는 일 실시예에 따른 EFEM의 제1예시에 대한 측면 투시도이고, 도 6은 일 실시예에 따른 EFEM의 제1예시에 대한 상면 투시도이고, 도 7는 일 실시예에 따른 EFEM의 제1예시에 대한 정면 투시도이다.Figure 5 is a side perspective view of a first example of an EFEM according to an embodiment, Figure 6 is a top perspective view of a first example of an EFEM according to an embodiment, and Figure 7 is a first example of an EFEM according to an embodiment. This is a front perspective view of the example.

도 5 내지 7도을 참조하면, EFEM(100)은 국소제습모듈, 풉(120), 로드포트모듈(130), EFEM챔버(110), 및 제어부(170)를 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 5 to 7 , the EFEM 100 may include a local dehumidification module, a poof 120, a load port module 130, an EFEM chamber 110, and a control unit 170.

국소제습모듈은 제습된 기체를 생성하여 EFEM(100) 습도 관리를 위해 제습된 기체를 국소공간에 공급하는 장치일 수 있다. 국소제습모듈은 EFEM(100) 제습된 기체를 국소공간에만 공급하면 되므로 작은 크기를 가질 수 있고 작은 공간에도 설치할 수 있어 설치 비용 및 운영 비용을 줄일 수 있다. 여기서, 국소공간은 EFEM챔버(110) 내부 공간 중 풉(120) 부근 영역일 수 있다. The local dehumidification module may be a device that generates dehumidified gas and supplies the dehumidified gas to a local space for humidity management of the EFEM (100). The local dehumidification module only needs to supply EFEM (100) dehumidified gas to a local space, so it can have a small size and can be installed in a small space, reducing installation and operating costs. Here, the local space may be an area near the foof 120 in the internal space of the EFEM chamber 110.

일 예로서, 국소제습모듈은 멤브레인 제습모듈(160)일 수 있다. 멤브레인 제습모듈(160)은 투입된 압축기체(CA)에서 수분을 제거하여 제습된 기체(F1)를 생성할 수 있다. 멤브레인 제습모듈(160)은 EFEM(100)의 제조자 또는 사용자의 요청에 의해 별도 제작되는 제습모듈일 수 있고, 일반적으로 시장에서 제습용으로 판매되는 제습모듈일 수도 있다. As an example, the local dehumidification module may be a membrane dehumidification module 160. The membrane dehumidification module 160 can remove moisture from the input compressed gas (CA) and generate dehumidified gas (F1). The membrane dehumidifying module 160 may be a dehumidifying module manufactured separately at the request of the manufacturer or user of the EFEM 100, or may be a dehumidifying module generally sold in the market for dehumidifying purposes.

멤브레인 제습모듈(160)은 멤브레인(162)과 이물질 제거필터(163, 165)를The membrane dehumidification module 160 includes a membrane 162 and foreign matter removal filters 163 and 165.

포함하여 구성될 수 있다. 멤브레인(162)은 압축기체(CA)의 에너지를 이용하여 압축기체(CA)에서 수분을 제거하고, 제습된 기체(F1)를 배출할 수 있다. 이물질 제거필터(163, 165)는 압축기체(CA)에서 이물질을 제거하는 필터로서, 복수 개일 수 있다. 여기서 이물질은 압축기체(CA)가 아닌 다른 물질, 예를 들면, 미세 먼지 입자 또는 미세 수분 입자일 수 있다. 멤브레인(162)은 압축기체(CA)가 고분자 분리막을 통과하면서 외부로 시간 선택적으로 수분이 배출되는 원리를 이용하는 장치이므로 멤브레인(162)의 고분자 분리막이 막히는 문제가 발생하지 않도록, 이물질 제거필터(163, 165)는 액적 형태의 수분입자와 미세 먼지 입자를 제거할 수 있는 필터를 포함할 수 있다. It can be configured to include. The membrane 162 can remove moisture from the compressed gas (CA) by using the energy of the compressed gas (CA) and discharge the dehumidified gas (F1). The foreign matter removal filters 163 and 165 are filters that remove foreign matter from the compressed gas (CA), and may be plural. Here, the foreign matter may be a material other than the compressed gas (CA), for example, fine dust particles or fine moisture particles. The membrane 162 is a device that uses the principle of time-selectively discharging moisture to the outside as compressed gas (CA) passes through the polymer separator. Therefore, to prevent the polymer separator of the membrane 162 from clogging, the foreign matter removal filter 163 is used. , 165) may include a filter capable of removing moisture particles and fine dust particles in the form of droplets.

맴브레인 제습모듈(160)과 EFEM챔버(110)는 수송관(20)으로 서로 연결될 수 있다. 멤브레인 제습모듈(160)이 생성한 제습된 기체(F1)는 수송관(20)을 통하여 EFEM챔버(110)의 기체유입구(113)로 유입될 수 있다. 수송관(20)에는 제습된 기체(F1)의 흐름양과 제습된 기체(F1) 흐름압을 조절하는 제어부(170)가 설치될 수 있다. 제어부(170)는 기판(W) 이송을 위해 도어(D1)가 개방되는 경우, 제습된 기체(F1)가 EFEM챔버(110)의 기체유입구(113)로 유입되도록 기체의 흐름압/흐름양을 조절할 수 있다. The membrane dehumidification module 160 and the EFEM chamber 110 may be connected to each other through a transportation pipe 20. The dehumidified gas F1 generated by the membrane dehumidification module 160 may flow into the gas inlet 113 of the EFEM chamber 110 through the transport pipe 20. A control unit 170 that adjusts the flow amount of the dehumidified gas (F1) and the flow pressure of the dehumidified gas (F1) may be installed in the transport pipe 20. When the door D1 is opened to transfer the substrate W, the control unit 170 adjusts the flow pressure/flow amount of the gas so that the dehumidified gas F1 flows into the gas inlet 113 of the EFEM chamber 110. It can be adjusted.

멤브레인 제습모듈(160)은 도 4의 제습기에 대비하여 경량품으로 지지대 사용 없이 수송관에 설치하여 사용할 수 있으므로, 별도로 EFEM챔버 상측 설치 공간을 필요로 하지 않고, 적은 비용으로 설치할 수 있어 비용을 줄일 수 있다. 또한 멤브레인 제습모듈(160)은 압축기체(CA)의 에너지를 이용하여 압축기체(CA)에서 수분을 제거하므로, 제습을 위한 별도의 전력을 필요로 하지 아니할 수 있다. 또한 멤브레인 제습모듈(160)은 필터 추가가 가능한 모듈 구조를 가지므로 EFEM의 제조자 또는 사용자가 필요로 하는 제습 정도를 쉽게 조절할 수 있다. Compared to the dehumidifier of FIG. 4, the membrane dehumidification module 160 is a lightweight product and can be installed and used in a transportation pipe without using a support, so it does not require a separate installation space above the EFEM chamber and can be installed at a low cost, thereby reducing costs. there is. Additionally, since the membrane dehumidification module 160 removes moisture from the compressed gas (CA) by using the energy of the compressed gas (CA), separate power for dehumidification may not be required. In addition, the membrane dehumidification module 160 has a module structure that allows the addition of filters, so the EFEM manufacturer or user can easily adjust the degree of dehumidification required.

풉(120)에는 공정대상이 되는 기판(W)이 적재될 수 있다. 풉(120)은 제1도어(D1)를 통해 EFEM챔버(110)와 연통될 수 있다. 제1도어(D1)가 개방되면 풉(120) 내부 공간에 적재된 기판(W)이 EFEM챔버(110)로 이송될 수 있다. 풉(120) 내의 공간은 질소(N2)로 퍼지(purge)될 수 있다. A substrate (W) to be processed may be loaded on the foof 120. The foop 120 may be communicated with the EFEM chamber 110 through the first door D1. When the first door D1 is opened, the substrate W loaded in the inner space of the foof 120 can be transferred to the EFEM chamber 110. The space within the poof 120 may be purged with nitrogen (N2).

로드포트모듈(130)은 풉(120)의 하측에 배치되어 풉(120)을 지지하며, 풉(120) 내부 공간으로 질소(N2)를 공급할 수 있다. 로드포트모듈(130)은 N2공급장치, N2배관, MFC(Mass Flow Controller), 필터 등을 포함할 수 있다. N2공급장치에서 공급되는 질소(N2)는 N2배관을 통해 풉(120) 내부 공간으로 전달될 수 있는데, 이때, MFC가 질소(N2) 유체의 흐름을 제어할 수 있고, 질소(N2) 유통경로에 있는 필터가 이물질을 제거할 수 있다.The load port module 130 is disposed on the lower side of the foop 120, supports the foop 120, and can supply nitrogen (N2) to the inner space of the foop 120. The load port module 130 may include an N2 supply device, N2 pipe, MFC (Mass Flow Controller), filter, etc. Nitrogen (N2) supplied from the N2 supply device can be delivered to the internal space of the pooh (120) through the N2 pipe. At this time, the MFC can control the flow of the nitrogen (N2) fluid and the nitrogen (N2) distribution path. The filter in can remove foreign substances.

로드포트모듈(130)이 풉(120) 내부 공간으로 질소(N2)를 퍼지시키는 이러한 구조에 의하면, 풉(120) 내부 습도를 낮추는 시간을 단축할 수 있고, 반도체 웨이퍼와 같은 기판(W)의 오염(contamination) 억제 효과가 상승할 수 있고, 기판(W)의 이송시에 정전기 발생을 억제할 수 있으며, 미세 입자들의 확산을 방지하고 미세 입자들에 의한 기판(W)의 부식 가능성을 낮출 수 있게 된다. 바람직하게는 로드포트모듈(130)이 풉(120) 내부 공간으로 질소(N2)를 퍼지시키는 이러한 구조에 의하면, 풉(120) 내부 습도를 1% 이하로 관리할 수 있다.According to this structure in which the load port module 130 purges nitrogen (N2) into the inner space of the foop 120, the time to lower the internal humidity of the foop 120 can be shortened and the The contamination suppression effect can be increased, the generation of static electricity can be suppressed when transferring the substrate (W), the diffusion of fine particles can be prevented, and the possibility of corrosion of the substrate (W) by fine particles can be reduced. There will be. Preferably, according to this structure in which the load port module 130 purges nitrogen (N2) into the inner space of the foop 120, the internal humidity of the foop 120 can be managed to 1% or less.

EFEM챔버(110)는 수직층류생성기(190)와 팬필터유닛(FFU: Fan Filter Unit, 140)을 포함할 수 있다. The EFEM chamber 110 may include a vertical laminar flow generator 190 and a fan filter unit (FFU: Fan Filter Unit, 140).

EFEM챔버(110)에는 서로 분리된 제1기체유입구(113)와 제2기체유입구(115)가 형성될 수 있다. 제1기체유입구(113)는 EFEM챔버(110)의 측면에 형성되어 제습된 기체(F1)가 유입되는 기체유입구일 수 있고, 제2기체유입구(115)는 EFEM챔버(100)의 상면에 형성되어 제습되지 않은 기체(F2)가 유입되는 기체유입구일 수 있다. The EFEM chamber 110 may be formed with a first gas inlet 113 and a second gas inlet 115 that are separated from each other. The first gas inlet 113 may be formed on the side of the EFEM chamber 110 and may be a gas inlet through which the dehumidified gas (F1) flows, and the second gas inlet 115 may be formed on the upper surface of the EFEM chamber 100. This may be a gas inlet through which gas (F2) that has not been dehumidified flows in.

제1기체유입구(113)는 EFEM챔버(110)의 내부에 배치된 수직층류생성기(190)에 연통되며, 수송관(20)을 통해 멤브레인 제습모듈(160)이 연결될 수 있다. The first gas inlet 113 is connected to the vertical laminar flow generator 190 disposed inside the EFEM chamber 110, and can be connected to the membrane dehumidification module 160 through the transport pipe 20.

수직층류생성기(190)는 제1기체유입구(113)을 통하여 수송관(20)에 연결되며 EFEM챔버(110)의 내부 측면 도어(D1) 상부에 배치될 수 있다. 수직층류생성기(190)는 유입되는 제습된 기체(F1)의 흐름을 균일화 및 수직층류화하고 도어(D1)의 챔버(110) 내부측면 상에 분사하여 기체 커튼을 형성할 수 있다. 수직층류생성기(190)는 도어(D1)가 개방되는 시점 또는 개방 보다 빠른 시점에 풉(120)의 도어(D1) 개방부를 차폐하는 기체커튼을 형성함으로써, 도어(D1) 개방 시점에 EFEM챔버(110) 내의 제습되지 않은 기체(F2)가 풉(120)의 내부로 유입되는 것을 방지할 수 있다.The vertical laminar flow generator 190 is connected to the transport pipe 20 through the first gas inlet 113 and can be placed on the upper part of the inner side door D1 of the EFEM chamber 110. The vertical laminar flow generator 190 can form a gas curtain by equalizing and vertically laminarizing the flow of the incoming dehumidified gas F1 and spraying it on the inner side of the chamber 110 of the door D1. The vertical laminar flow generator 190 forms a gas curtain that shields the opening of the door D1 of the foop 120 at the time the door D1 is opened or at a time earlier than the opening, thereby forming an EFEM chamber ( It is possible to prevent the non-dehumidified gas (F2) in 110) from flowing into the interior of the foo (120).

이를 위하여 수직층류생성기(190)는 제습기체 유입공간(192), 디퓨징 필터(194) 및 수직층류형성관(196)을 포함하여 구성될 수 있다. To this end, the vertical laminar flow generator 190 may be configured to include a dehumidifying gas inlet space 192, a diffusing filter 194, and a vertical laminar flow forming pipe 196.

보다 구체적으로, 제습기체 유입공간(192)은 EFEM챔버(110) 내부 측면 도어(D1) 상부에 형성된 격리벽에 의하여 EFEM챔버(110) 내부 공간과 분리된 EFEM챔버(110)내의 분리공간일 수 있다. 제습기체 유입공간(192)은 멤브레인 제습모듈(160)에 의해 제습된 기체(F1)가 EFEM챔버(110) 내의 제습되지 않은 기체(F2)와 서로 혼합되지 않도록 할 수 있다. More specifically, the dehumidifying gas inflow space 192 may be a separate space within the EFEM chamber 110 separated from the inner space of the EFEM chamber 110 by an isolation wall formed on the upper side of the inner side door D1 of the EFEM chamber 110. there is. The dehumidifying gas inflow space 192 may prevent the gas F1 dehumidified by the membrane dehumidifying module 160 from mixing with the non-dehumidified gas F2 in the EFEM chamber 110.

도 7을 참조하면, 제습기체 유입공간(192a)은 분리 격리벽들에 의하여 구분되는 복수의 제습기체 유입공간들(B1, B2, B3)을 포함할 수 있다. 제습기체 유입공간들(B1, B2, B3)은 각각 개별적인 수송관에 연결될 수 있다. 제어부(170a)는 각각의 제습기체 유입공간(B1, B2, B3)의 기체 흐름양을 조절할 수 있다. 제어부(170a)는 각각의 제습기체 유입공간(B1, B2, B3)의 기체 흐름압을 조절할 수도 있다. 제습기체 유입공간들(B1, B2, B3)의 개수는 EFEM(100)의 제조사 또는 사용자의 필요에 따라 적의 적절히 조절되어 최적화될 수 있다.Referring to FIG. 7, the dehumidifying gas inlet space 192a may include a plurality of dehumidifying gas inlet spaces B1, B2, and B3 divided by separation walls. The dehumidifying gas inflow spaces (B1, B2, B3) may each be connected to individual transport pipes. The control unit 170a can adjust the amount of gas flow in each dehumidifying gas inflow space (B1, B2, and B3). The control unit 170a may adjust the gas flow pressure in each dehumidifying gas inlet space (B1, B2, and B3). The number of dehumidifying gas inflow spaces (B1, B2, B3) can be optimized by appropriately adjusting according to the needs of the manufacturer or user of the EFEM (100).

디퓨징 필터(194)는 제습기체 유입공간(192) 하단부에 밀결합되어, 제습된 기체(F1)에 잔류하는 이물질을 제거하고 제습된 기체(F1)의 흐름을 균일화할 수 있다. 예를 들면, 디퓨징 필터(194)는 HEPA(High Efficiency Particulate Air) 필터 또는 ULPA(Ultra Low Penetration Air) 필터를 포함할 수 있다. HEPA 필터는 클린 룸 등 청정환경을 만들기 위해 미세입자를 고효율로 여과하는 필터로서 유리섬유나 아스베스트 섬유 소재를 활용하여 0.3μm 정도의 입자를 99.97% 이상 여과할 수 있다. ULPA 필터는 HEPA 필터가 거르는 0.3 μm입자보다 작은 초미세 입자를 여과하는 필터로서, 0.12μm 정도의 입자를 99.99% 이상 걸러낼 수 있다.The diffusing filter 194 is tightly coupled to the lower end of the dehumidified gas inlet space 192, and can remove foreign substances remaining in the dehumidified gas (F1) and equalize the flow of the dehumidified gas (F1). For example, the diffusing filter 194 may include a High Efficiency Particulate Air (HEPA) filter or an Ultra Low Penetration Air (ULPA) filter. The HEPA filter is a filter that filters fine particles with high efficiency to create a clean environment such as a clean room. It can filter more than 99.97% of particles of about 0.3μm by using glass fiber or asbestos fiber materials. The ULPA filter is a filter that filters ultra-fine particles smaller than the 0.3 μm particles that HEPA filters filter out, and can filter out more than 99.99% of particles of about 0.12 μm.

디퓨징 필터(194)는 제습된 기체(F1)에 포함된 이물질을 제거하는 필터 역할을 수행함과 동시에, 제습된 기체(F1)가 필터에 의해 생성되는 압력차로 인해 제습된 기체(F1)가 필터를 통과하면서 필터 면적에서 균일한 흐름을 만드는 디퓨저(Diffuser) 역할을 할 수 있다. The diffusing filter 194 serves as a filter to remove foreign substances contained in the dehumidified gas (F1), and at the same time, the dehumidified gas (F1) is filtered due to the pressure difference generated by the filter. It can act as a diffuser to create a uniform flow in the filter area while passing through.

수직층류형성관(196)은 디퓨징 필터(194)에 밀결합되며, 디퓨징 필터(194)에서 출력되는 기체를 수직층류화하여 제1도어(D1)의 EFEM챔버(110) 내부 측면 상에 제습된 기체(F1)를 분사할 수 있다.The vertical laminar flow forming pipe 196 is tightly coupled to the diffusing filter 194, and vertically laminars the gas output from the diffusing filter 194 on the inner side of the EFEM chamber 110 of the first door D1. Dehumidified gas (F1) can be sprayed.

수직층류형성관(196)의 기체입구와 디퓨징 필터(194)의 기체출구는 밀겹합되어 기체의 외부 혼입을 방지할 수 있다. 제습기체 유입공간(192)의 일부 혹은 전부는 격리벽에 의해 수직층류형성관(196)까지 연장될 수 있는데, 이러한 연장에 따라 멤브레인 제습모듈(160)으로부터 제습된 기체(F1)의 일부 혹은 전부는 수직층류형성관(196)의 기체출구까지 외부 기체가 혼입되지 않을 수 있다.The gas inlet of the vertical laminar flow forming pipe 196 and the gas outlet of the diffusing filter 194 are closely coupled to prevent external mixing of gas. Part or all of the dehumidifying gas inflow space 192 may be extended by an isolation wall to the vertical laminar flow forming pipe 196. According to this extension, some or all of the gas F1 dehumidified from the membrane dehumidifying module 160 may be extended. External gas may not be mixed up to the gas outlet of the vertical laminar flow forming pipe 196.

수직층류형성관(196)은 제1도어(D1)의 내부측면-EFEM챔버(110) 방향의 내부측면-보다 넓은 면적으로 제습된 기체(F1)를 분사할 수 있다. 예를 들어, 제습된 기체(F1)가 상측에서 하측으로 분사된다고 할 때, 상측에서 바라본 수직층류형성관(196a, 196b, 196c)의 너비(L1)-바닥에 평행하고 풉에서 EFEM챔버로 연통되는 방향에 수직된 방향의 너비-는 도 6에 도시된 것과 같이 풉(120a, 120b, 120c) 혹은 제1도어(D1)의 너비보다 길 수 있다. 이에 따라, 풉(120a, 120b, 120c)과 EFEM챔버(110)가 연통되는 면적보다 더 넓은 면적으로 수직층류화된 기체를 분사하여 제습되지 않은 기체(F2)가 풉(120)으로 전달되는 것을 차단할 수 있다. 이를 통하여 풉(120)의 기체 분위기를 유지하고 풉(120) 내부의 습도를 관리할 수 있다. 수직층류형성관(196)에서 출력되는 기체의 풍속은 팬필터유닛(130)에 의한 제습되지 않은 기체(F2) 흐름의 속도보다 클 수 있다. 수직층류형성관(196)에서 출력되는 기체의 풍속은 0.2m/s ~ 1.5m/s일 수 있다. The vertical laminar flow forming pipe 196 can spray the dehumidified gas F1 to a larger area than the inner side of the first door D1 - the inner side in the direction of the EFEM chamber 110. For example, when dehumidified gas (F1) is injected from the top to the bottom, the width (L1) of the vertical laminar flow forming pipes (196a, 196b, 196c) as seen from the top is parallel to the floor and communicates from the pooh to the EFEM chamber. The width in the direction perpendicular to the direction may be longer than the width of the pooh (120a, 120b, 120c) or the first door (D1), as shown in FIG. 6. Accordingly, the vertically laminarized gas is sprayed to an area larger than the area where the pooh (120a, 120b, 120c) and the EFEM chamber (110) communicate, thereby preventing the non-dehumidified gas (F2) from being transferred to the pooh (120). You can block it. Through this, it is possible to maintain the gas atmosphere of the pooh 120 and manage the humidity inside the pooh 120. The wind speed of the gas output from the vertical laminar flow forming pipe 196 may be greater than the speed of the flow of the non-dehumidified gas (F2) by the fan filter unit 130. The wind speed of the gas output from the vertical laminar flow forming pipe 196 may be 0.2 m/s to 1.5 m/s.

수직층류형성관(196)에서 출력되는 기체의 풍속은 수송관(20)에 설치된 제어부(170)의 제습된 기체(F1)의 흐름양/흐름압 조절에 의해 제어될 수 있다.The wind speed of the gas output from the vertical laminar flow forming pipe 196 can be controlled by adjusting the flow amount/flow pressure of the dehumidified gas F1 in the control unit 170 installed in the transport pipe 20.

제습기체 유입공간(192a)이 복수의 제습기체 유입공간들(B1, B2, B3)을 포함하는 경우, 복수의 제습기체 유입공간들(B1, B2, B3)에 각각 대응하여 디퓨징 필터(194a)와 수직층류형성관(196a)이 구비될 수 있다. 이때 수직층류형성관(196a)은 복수의 제습기체 유입공간들(B1, B2, B3)에 대응하여 별도 구비될 수 있지만, 디퓨징 필터(194a)들을 일괄 커버할 수 있도록 일체로 형성될 수도 있다.When the dehumidifying gas inflow space 192a includes a plurality of dehumidifying gas inflow spaces B1, B2, and B3, a diffusing filter 194a is formed corresponding to the plurality of dehumidifying gas inflow spaces B1, B2, and B3, respectively. ) and a vertical laminar flow forming pipe (196a) may be provided. At this time, the vertical laminar flow forming pipe 196a may be provided separately to correspond to the plurality of dehumidifying gas inlet spaces B1, B2, and B3, but may be formed integrally to cover the diffusing filters 194a at a time. .

멤브레인 제습모듈(160)이 생성한 제습된 기체(F1)를 제1도어(D1) 면적 또는 풉(120)과 EFEM챔버(110)가 연통되는 면적보다 더 넓은 면적으로 수직층류화된 기체를 분사하는 이러한 구조에 의하면, 풉 부근의 영역에 기체 커튼을 형성함으로써, 기판 이송을 위해 도어가 개방되더라도 풉 내부의 기체 분위기를 유지 관리할 수 있다. 이러한 일 실시예에 의하면, 풉 부근 영역에 제습된 기체를 이용하여 기체 커튼을 형성하기 때문에 EFEM챔버 내부 기체가 풉 내부 공간으로 유입되는 것을 차단할 수 있고, 이로 인하여 풉 내부 공간 내에서 낮은 습도의 기체 분위기를 유지 관리할 수 있다.The dehumidified gas (F1) generated by the membrane dehumidification module (160) is sprayed into a vertically laminar flow over an area larger than the area of the first door (D1) or the area where the poof (120) communicates with the EFEM chamber (110). According to this structure, by forming a gas curtain in the area near the foop, the gas atmosphere inside the foop can be maintained even if the door is opened for substrate transfer. According to this embodiment, since a gas curtain is formed using dehumidified gas in the area near the pooh, it is possible to block the gas inside the EFEM chamber from flowing into the inner space of the fooh, thereby preventing low-humidity gas from flowing into the inner space of the fooh. The atmosphere can be maintained.

제2기체유입구(115)는 EFEM챔버(110) 상측에 형성될 수 있고, 제습되지 않은 기체(F2)가 제2기체유입구(115)를 통하여 유입될 수 있다. 제습되지 않은 기체(F2)가 유입되는 기체 경로에는 팬필터유닛(140)이 배치될 수 있다. 팬필터유닛(140)은 팬과 필터를 포함하여 구성될 수 있다. 팬필터유닛(140)은 필터를 통해 흄과 같은 분자성 오염 물질, 먼지와 같은 미립자가 걸러진 기체를 EFEM챔버(110) 내부 공간으로 공급하여 EFEM챔버(110) 내부 공간을 청정하게 유지할 수 있다. 팬필터유닛(140)은 팬(Fan)을 통해 기류를 발생시킬 수 있다. 예를 들면, 팬필터유닛(140)은 제2기체유입구(115)를 통해 제습되지 않은 기체(F2)를 EFEM챔버(110) 내부로 유입하여 EFEM챔버(110) 상부에서 하부 쪽으로 기체의 흐름을 만들어 낼 수 있다. 팬필터유닛(140)에 의해 제2기체유입구(115)로 유입되는 제습되지 않은 기체(F2)의 습도는 45% 정도 일 수 있다.The second gas inlet 115 may be formed on the upper side of the EFEM chamber 110, and non-dehumidified gas F2 may flow in through the second gas inlet 115. A fan filter unit 140 may be disposed in the gas path through which the non-dehumidified gas (F2) flows. The fan filter unit 140 may be configured to include a fan and a filter. The fan filter unit 140 supplies gas from which molecular contaminants such as fume and fine particles such as dust have been filtered out to the internal space of the EFEM chamber 110 through a filter, thereby keeping the internal space of the EFEM chamber 110 clean. The fan filter unit 140 can generate airflow through a fan. For example, the fan filter unit 140 introduces non-dehumidified gas (F2) into the EFEM chamber 110 through the second gas inlet 115, thereby maintaining the flow of gas from the top of the EFEM chamber 110 to the bottom. It can be created. The humidity of the non-dehumidified gas (F2) flowing into the second gas inlet 115 through the fan filter unit 140 may be about 45%.

EFEM챔버(110)의 내부 공간은 제1공간(S1)과 제2공간(S2)으로 구분될 수 있다. 제1공간(S1)은 풉(120)과 연통되는 제1도어(D1)에 인접한 국소공간, 즉, 제습된 기체(F1)가 수직층류생성기(190)에서 분사되어 EFEM챔버(110)하부로 배출되어 가는 기체 경로에 해당하는 공간일 수 있다. 제2공간(S2)은 제1도어(D1)와 멀리 떨어진 공간, 즉 EFEM챔버(110) 내부 공간 중 제1공간(S1)을 제외한 EFEM챔버(110) 내부 대부분의 공간일 수 있다. 제1기체유입구(113)로 유입된 제습된 기체(F1)는 EFEM챔버(110)의 제1공간(S1)으로 흐를 수 있고, 제2기체유입구(115)로 유입된 제습되지 않은 기체(F2)는 EFEM챔버(110)의 제2공간(S2)으로 흐를 수 있다. The internal space of the EFEM chamber 110 may be divided into a first space (S1) and a second space (S2). The first space (S1) is a local space adjacent to the first door (D1) in communication with the poo (120), that is, the dehumidified gas (F1) is sprayed from the vertical laminar flow generator (190) to the lower part of the EFEM chamber (110). It may be a space corresponding to the gas path being discharged. The second space S2 may be a space far away from the first door D1, that is, most of the space inside the EFEM chamber 110 except for the first space S1 among the spaces inside the EFEM chamber 110. The dehumidified gas (F1) flowing into the first gas inlet 113 can flow into the first space (S1) of the EFEM chamber 110, and the non-dehumidified gas (F2) flowing into the second gas inlet 115 ) may flow into the second space (S2) of the EFEM chamber 110.

멤브레인 제습모듈(160)은 투입된 압축기체(CA)에서 수분을 제거하여 제습된 기체(F1)를 생성하고 제습된 기체(F1)을 수송관(20)을 통하여 EFEM챔버(110)의 제1기체유입구(113)로 유입시킬 수 있다. 제1기체유입구(113)로 유입된 제습된 기체(F1)는 수직층류생성기(190) 통해 균일화되고 수직층류화되어 제1도어(D1)의 EFEM챔버(112) 내부 측면 상에 제1도어(D1)의 내부측면보다 넓은 면적으로 분사되어 기체 커튼을 형성할 수 있다. The membrane dehumidification module 160 removes moisture from the input compressed gas (CA) to generate dehumidified gas (F1) and transfers the dehumidified gas (F1) to the first gas of the EFEM chamber (110) through the transport pipe (20). It can be introduced into the inlet 113. The dehumidified gas (F1) flowing into the first gas inlet (113) is homogenized and vertically laminarized through the vertical laminar flow generator (190) to form a first door (D1) on the inner side of the EFEM chamber (112). It can form a gas curtain by spraying over a larger area than the inner side of D1).

그러므로, 팬필터유닛(140)에 의해 제2기체유입구(115)를 통해 EFEM챔버(110) 내부로 유입된 제습되지 않은 기체(F2)는 EFEM챔버(110) 상부에서 하부 쪽으로 흘러 가더라도, 도어(D1) 개방 시점에 EFEM챔버(110) 내의 제습되지 않은 기체(F2)가 풉(120)의 내부로 유입되는 것을 방지할 수 있고 풉(120) 내부의 질소(N2) 분위기를 유지함으로써, 기판이 수분이나 흄에 의한 품질 저하를 줄일 수 있다.Therefore, even if the non-dehumidified gas (F2) flowing into the EFEM chamber 110 through the second gas inlet 115 by the fan filter unit 140 flows from the top to the bottom of the EFEM chamber 110, it does not enter the door. (D1) At the time of opening, the non-dehumidified gas (F2) in the EFEM chamber 110 can be prevented from flowing into the inside of the foof 120 and the nitrogen (N2) atmosphere inside the foof 120 can be maintained, thereby maintaining the substrate This can reduce quality degradation caused by moisture or fumes.

도 8은 일 실시예에 따른 EFEM의 수직층류형성관의 예시 단면도이다.Figure 8 is an exemplary cross-sectional view of a vertical laminar flow forming pipe of an EFEM according to an embodiment.

도 8을 참조하면, 수직층류형성관(196)은 제습기체유입공간의 기체출구에서 제1도어 방향으로 직선 또는 곡선 형태로 형성되는 다수의 공간(197)들, 즉 다공관을 포함할 수 있다. 다공관에 포함되는 각 공관(197)들은 원기둥 형태 또는 타원형 형태를 가질 수 있다. 그리고, 인접한 3개의 공관(197) 중심을 연결하면 정삼각형이 될 수 있다. 한편, 다공관에 포함되는 각 공관(197)의 형태는 원기둥 형태 또는 타원형 형태일 수도 있으나, 삼각기둥의 형태, 사각기둥의 형태 등 다각기둥의 형태를 가질 수도 있다. 다공관에 포함되는 이러한 각 공관(197)의 형태에 따라, 내부에 통과하는 기체가 내부의 벽과의 마찰을 통해 토출구에서 코안다 효과가 최소화될 수 있다. 그리고, 다공관에 포함되는 각 공관(197)의 형태에 따라 수직층류가 용이하게 형성될 수 있다.Referring to FIG. 8, the vertical laminar flow forming pipe 196 may include a plurality of spaces 197 formed in a straight or curved shape from the gas outlet of the dehumidifying gas inlet space toward the first door, that is, a porous pipe. . Each hollow pipe 197 included in the porous pipe may have a cylindrical or oval shape. Also, connecting the centers of three adjacent tubes 197 can form an equilateral triangle. Meanwhile, the shape of each hollow pipe 197 included in the porous pipe may be cylindrical or oval, but may also have the shape of a polygonal column, such as a triangular column or a square column. Depending on the shape of each hollow pipe 197 included in the porous pipe, the Coanda effect can be minimized at the discharge port through friction between the gas passing therein and the internal wall. In addition, vertical laminar flow can be easily formed depending on the shape of each hollow pipe 197 included in the porous pipe.

이상에서 설명한 바와 같이 본 실시예에 의하면, EFEM 내 국소공간의 습도를 관리하는 기술을 제공할 수 있다. 그리고, 본 실시예에 의하면, 비용을 최소화하면서 EFEM의 습도를 관리할 수 있고, 기존 EFEM챔버를 교체하지 않으면서 기판에 영향을 미치는 주요 영역에서의 습도를 관리할 수 있다. 그리고, 본 실시예에 의하면, 공간을 많이 차지하지 않으면서 EFEM의 습도를 관리할 수 있고, 전력소비를 크게 줄이면서 EFEM의 습도를 관리할 수 있다.As described above, according to this embodiment, a technology for managing the humidity of a local space within the EFEM can be provided. Additionally, according to this embodiment, the humidity of the EFEM can be managed while minimizing costs, and the humidity in key areas that affect the substrate can be managed without replacing the existing EFEM chamber. And, according to this embodiment, the humidity of the EFEM can be managed without taking up a lot of space, and the humidity of the EFEM can be managed while significantly reducing power consumption.

이상에서 기재된 "포함하다", "구성하다" 또는 "가지다" 등의 용어는, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 해당 구성 요소가 내재될 수 있음을 의미하는 것이므로, 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. 기술적이거나 과학적인 용어를 포함한 모든 용어들은, 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥 상의 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Terms such as “include,” “comprise,” or “have,” as used above, mean that the corresponding component may be included, unless specifically stated to the contrary, and do not exclude other components. It should be interpreted that it may further include other components. All terms, including technical or scientific terms, unless otherwise defined, have the same meaning as generally understood by a person of ordinary skill in the technical field to which the present invention pertains. Commonly used terms, such as terms defined in a dictionary, should be interpreted as consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted in an idealized or overly formal sense unless explicitly defined in the present invention.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely an illustrative explanation of the technical idea of the present invention, and various modifications and variations will be possible to those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but are for illustrative purposes, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted in accordance with the claims below, and all technical ideas within the equivalent scope should be construed as being included in the scope of rights of the present invention.

100 : EFEM (Equipment Front End Module)
110 : EFEM챔버
113 : 제1기체유입구
115 : 제2기체유입구
120 : 풉(FOUP: Front Opening Unified Pod)
130 : 로드포트모듈
140 : 팬필터유니(FFU: Fan Filter Unit)
150 : 제습기
160 : 멤브레인 제습모듈
162 : 멤브레인
163, 165 : 이물질 제거필터
170 : 제어부
190 : 수직층류생성기
192 : 제습기체 유입공간
194 : 디퓨징 필터
196 : 수직층류형성관
197 : 다공관
210 : 로드락장치
220 : 반송챔버
230 : 공정챔버
W : 기판
D1 : 제1도어
D2 : 제2도어
D3 : 제3도어
D4 : 제4도어
N2 : 질소
10 : N2공급배관
12 : 차압배기부
F1 : 제습된 기체
F2 : 제습되지 않은 기체
S1 : 제1공간
S2 : 제2공간
100: EFEM (Equipment Front End Module)
110: EFEM chamber
113: First gas inlet
115: Second gas inlet
120: FOUP (Front Opening Unified Pod)
130: Load port module
140: Fan Filter Unit (FFU)
150: Dehumidifier
160: Membrane dehumidification module
162: membrane
163, 165: Foreign matter removal filter
170: control unit
190: Vertical laminar flow generator
192: Dehumidifying gas inlet space
194: Diffusing filter
196: Vertical laminar flow forming pipe
197: perforated pipe
210: Load lock device
220: Return chamber
230: Process chamber
W: substrate
D1: 1st door
D2: Second door
D3: Third door
D4: 4th door
N2: Nitrogen
10: N2 supply pipe
12: Differential pressure exhaust unit
F1: Dehumidified gas
F2: Gas that has not been dehumidified
S1: First space
S2: Second space

Claims (12)

공정대상이 되는 기판이 적재되는 풉(FOUP);
도어를 통해 상기 풉과 연통되고, 상기 기판이 일시적으로 체류하는 챔버;
투입된 압축기체를 제습하여 제습된 기체를 수송관으로 공급하는 국소 제습모듈; 및
상기 수송관에 연결되며 상기 챔버 내부에 배치되고, 유입되는 상기 제습된 기체의 흐름을 균일화하고 수직층류화하여 상기 도어의 상기챔버 내부측면 상에 분사하는 수직층류생성기;
를 포함하는 EFEM.
FOUP where the substrate subject to processing is loaded;
a chamber in communication with the poo through a door and in which the substrate temporarily resides;
A local dehumidification module that dehumidifies the injected compressed gas and supplies the dehumidified gas to the transportation pipe; and
A vertical laminar flow generator connected to the transport pipe and disposed inside the chamber, homogenizes the flow of the incoming dehumidified gas, converts it into a vertical laminar flow, and sprays it on the inner side of the chamber of the door;
EFEM containing.
제1항에 있어서,
상기 국소 제습모듈은 멤브레인 제습모듈이고,
상기 멤브레인 제습모듈은 상기 압축기체에서 이물질을 제거하는 적어도 하나의 이물질 제거필터와 상기 압축기체를 제습하여 제습된 기체를 배출하는 멤브레인을 포함하는 EFEM.
According to paragraph 1,
The local dehumidification module is a membrane dehumidification module,
The membrane dehumidification module is an EFEM that includes at least one foreign matter removal filter for removing foreign matter from the compressed gas and a membrane for dehumidifying the compressed gas and discharging the dehumidified gas.
제1항에 있어서,
상기 수직층류생성기는
상기 챔버 내부에 챔버 내부 공간과 분리 형성되며, 상기 수송관에 연결되어 상기 제습된 기체가 유입되는 제습기체 유입공간;
상기 제습기체 유입공간에 밀결합되며 상기 제습된 기체의 흐름을 균일화하는 디퓨징 필터; 및
상기 디퓨징 필터에 밀결합되며 상기 디퓨징 필터를 통해 균일화된 제습된 기체를 수직층류(laminar flow)화하여 상기 도어의 상기 챔버 내부측면 상에 분사하는 수직층류형성관;을 포함하는, EFEM.
According to paragraph 1,
The vertical laminar flow generator
a dehumidifying gas inflow space formed inside the chamber, separated from the chamber interior space, and connected to the transport pipe into which the dehumidified gas flows;
a diffusing filter tightly coupled to the dehumidifying gas inlet space and uniformizing the flow of the dehumidified gas; and
EFEM comprising; a vertical laminar flow forming pipe that is tightly coupled to the diffusing filter and forms a vertical laminar flow of the dehumidified gas homogenized through the diffusing filter and sprays it on the inner side of the chamber of the door.
제1항에 있어서,
상기 디퓨징 필터는 HEPA 필터 또는 ULPA 필터를 포함하는 EFEM.
According to paragraph 1,
The diffusing filter is an EFEM including a HEPA filter or ULPA filter.
제1항에 있어서,
상기 풉의 하측에 배치되어 상기 풉을 지지하는 로드포트모듈;를 더 포함하고, 상기 로드포트모듈은 상기 풉 내부 공간을 질소(N2)로 퍼지 시키는, EFEM.
According to paragraph 1,
The EFEM further includes a load port module disposed below the foop to support the foop, wherein the load port module purges the inner space of the foop with nitrogen (N2).
제3항에 있어서,
상기 제습기체 유입공간의 기체 흐름양과 기체 흐름압 중 적어도 하나를 조절하는 제어부;를 더 포함하는, EFEM.
According to paragraph 3,
EFEM further comprising a control unit that adjusts at least one of the gas flow amount and gas flow pressure in the dehumidifying gas inlet space.
제6항에 있어서,
상기 제습기체 유입공간은 복수 개이고, 상기 제어부는 각각 제습기체 유입공간의 기체 흐름양과 기체 흐름압 중 적어도 하나를 개별적으로 조절하는, EFEM.
According to clause 6,
The EFEM has a plurality of dehumidifying gas inflow spaces, and the control unit individually adjusts at least one of a gas flow amount and a gas flow pressure of each dehumidifying gas inlet space.
제3항에 있어서,
상기 수직층류생성기는 상기 챔버 내부 측면에 배치되되 상기 도어 상방에 위치하고,
상기 수직층류형성기는 상기 도어 방향으로 형성되는 다공관을 포함하는, EFEM.
According to paragraph 3,
The vertical laminar flow generator is disposed on the inner side of the chamber and above the door,
EFEM, wherein the vertical laminar flow former includes a porous pipe formed in the door direction.
제1항에 있어서,
상기 수직층류생성기는 상기 도어의 상기 챔버 내부측면보다 넓은 면적으로 기체를 분사하는, EFEM.
According to paragraph 1,
The vertical laminar flow generator is an EFEM that sprays gas into an area larger than the inner side of the chamber of the door.
제3항에 있어서,
상기 챔버에는 서로 분리된 제1기체유입구와 제2기체유입구가 형성되고,
상기 제1기체유입구는 상기 챔버의 측면에 형성되어 상기 수송관에 연결되어 상기 제습된 기체가 유입되고,
상기 제2기체유입구는 상기 챔버의 상면에 형성되어 제습되지 않은 기체가 유입되는, EFEM.
According to paragraph 3,
The chamber is formed with a first gas inlet and a second gas inlet that are separated from each other,
The first gas inlet is formed on a side of the chamber and is connected to the transport pipe to allow the dehumidified gas to flow in,
The second gas inlet is formed on the upper surface of the chamber through which non-dehumidified gas flows into the EFEM.
제10항에 있어서,
상기 챔버 내부는 상기 챔버에서 상기 도어에 인접한 제1공간과 상기 제1 공간과 다른 제2공간으로 구분되고,
상기 멤브레인 제습모듈에 의해 제습된 기체는 상기 제1기체유입구와 상기 수직층류생성기를 통해 상기 제1공간으로 공급되고,
상기 제2기체유입구에서 유입되는 제습되지 않은 기체는 팬필터유닛(FFU)에 의하여 상기 제2공간으로 공급되는, EFEM.
According to clause 10,
The interior of the chamber is divided into a first space adjacent to the door in the chamber and a second space different from the first space,
The gas dehumidified by the membrane dehumidification module is supplied to the first space through the first gas inlet and the vertical laminar flow generator,
EFEM, where the non-dehumidified gas flowing in from the second gas inlet is supplied to the second space by a fan filter unit (FFU).
제11항에 있어서,
상기 수직층류생성기에서 출력되는 제습된 기체의 풍속은 상기 팬필터유닛에 의한 제습되지 않은 기체의 풍속보다 큰, EFEM.
According to clause 11,
EFEM, wherein the wind speed of the dehumidified gas output from the vertical laminar flow generator is greater than the wind speed of the non-dehumidified gas by the fan filter unit.
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