KR20240060204A - 수지 및 이의 제조방법 - Google Patents

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KR20240060204A
KR20240060204A KR1020220141537A KR20220141537A KR20240060204A KR 20240060204 A KR20240060204 A KR 20240060204A KR 1020220141537 A KR1020220141537 A KR 1020220141537A KR 20220141537 A KR20220141537 A KR 20220141537A KR 20240060204 A KR20240060204 A KR 20240060204A
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신현아
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Abstract

본 출원은 화학식 1의 단위를 포함하는 수지, 이의 제조방법, 이를 포함하는 수지 조성물 및 상기 수지 조성물을 포함하는 성형품에 관한 것이다.

Description

수지 및 이의 제조방법{RESIN AND PREPARATION METHOD THEREOF}
본 명세서는 수지 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
광학 재료의 굴절률이 높으면 동일한 수준의 보정을 달성하는데 필요로 하는 광학 렌즈의 두께는 얇아진다. 이에 따라, 광학 재료의 굴절률이 높을수록 보다 얇고 가벼운 렌즈의 제조가 가능하게 되어, 렌즈가 사용되는 각종 기기의 소형화가 가능하다.
일반적으로 광학 재료의 굴절률이 높아지면 아베수(Abbe's Number)가 낮아지는 문제가 있으며, 또한 광학 재료로의 사용을 위하여, 일정 수준 이상의 투명성이 요구된다.
한국 공개특허공보 제10-2020-0034523호
본 명세서의 일 실시상태는 신규한 구조의 수지 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는 신규한 구조의 수지를 포함하는 조성물 및 상기 수지 조성물로 제조된 성형품을 제공하고자 한다.
본 명세서의 일 실시상태는 하기 화학식 1의 단위를 포함하는 수지를 제공한다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에 있어서,
X1 내지 X4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 O 또는 S이고,
R1 및 R2은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 단환 또는 다환의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이고,
R3 및 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
R11은 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고,
R12는 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고,
a 및 b은 각각 0 또는 1이고,
R5는 -La1-Ar1-La2-; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
La1 및 La2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
Ar1은 -O-; -S-; -S(O2)-; -C(RR')-; -N(R")-; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
R, R' 및 R"는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
*은 수지의 주쇄에 연결되는 부위를 의미한다.
본 명세서의 일 실시상태는 하기 화학식 1a의 화합물을 제공한다.
[화학식 1a]
상기 화학식 1a에 있어서,
X1 내지 X4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 O 또는 S이고,
R1 및 R2은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 다환의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이고,
R3 및 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고,
R11은 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고,
R12는 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
a 및 b은 각각 0 또는 1이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는 하기 화학식 1a의 화합물; 및 폴리아릴렌티오에테르 전구체를 포함하는 수지 제조용 조성물을 중합하는 단계를 포함하는 수지의 제조방법을 제공한다.
[화학식 1a]
상기 화학식 1a에 있어서,
X1 내지 X4, R1 내지 R4, R11, R12, L1, L2, Y1, Y2, a 및 b는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 동일하다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는 전술한 실시상태에 따른 수지를 포함하는 수지 조성물을 제공한다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는 전술한 실시상태에 따른 수지를 포함하는 조성물을 포함하는 성형품을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태들에 따른 수지는 높은 굴절률을 갖는다.
본 명세서의 일 실시상태들에 따른 수지를 이용함으로써, 두께가 얇은 우수한 광학 부재, 광학 렌즈, 광학 필름, 광학 박막, 또는 광학 수지를 얻을 수 있다.
이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세히 설명한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 화학식 1의 단위를 포함하는 수지는 로런츠-로렌츠의 식(Lorentz-Lorenz's formula)에 의하여 알려져 있는 분자 구조와 굴절률의 관계식으로부터, 분자의 전자 밀도를 높이며, 분자 체적을 줄임으로써, 분자로 구성되는 물질의 굴절률이 높아짐을 알 수 있다.
또한, 상기 화학식 1의 코어 구조가 BPA(비스페놀A)의 유도체므로 분자 체적이 작고 패킹(packing)할 수 있는 능력이 우수하여 수지의 굴절률을 향상시킬 수 있다. 또한, R1, R2 및 R12가 치환 또는 비치환된 단환 또는 다환의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 단환 또는 다환의 헤테로아릴기와 같이 전자가 풍부한 치환기이므로, 상기 화학식 1의 구조의 전자 밀도를 높여 수지의 굴절률을 더욱 향상시킬 수 있다. 따라서 본 명세서의 일 실시상태에 따른 수지는 높은 굴절률 및 높은 투명성을 갖고, 이를 이용한 광학렌즈, 광학 필름, 또는 광학 수지는 두께가 얇고 우수한 광학특성을 나타낼 수 있다.
또한, 로런츠-로렌츠의 식으로부터 높은 분자굴절률과 낮은 몰 부피를 가진 치환기를 도입할 경우 고분자의 굴절률을 증가시킬 수 있다. 이에 따라 고리형 방향족 탄화수소, 불소를 제외한 할로겐 원자, 황 원자들은 고분자의 굴절률을 증가시킬 수 있는 요소이다. 이에 높은 굴절률을 가지는 황을 포함하는 전구체를 활용하여 고굴절 소재를 제조할 수 있다.
상기 화학식 1은 비스페놀 A의 유도체를 포함하고, a 및 b가 0 또는 1이므로, L1 및 L2의 알킬렌기를 적절하게 조절하여, 원하는 분자량 및 고굴절률의 수지를 얻을 수 있고, a 및 b가 1 인 경우, 벌키(bulky)함에도 불구하고, 유기용매에 대한 용해도가 높아 용액 중합을 진행하기에 적절하며, 중합조건을 설정하는데 유리하다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1의 단위는 상기 수지에 1 이상 포함될 수 있으며, 2 이상 포함되는 경우 각 단위는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서에서 수지는 폴리아릴렌티오에테르 수지이다.
본원 명세서 전체에서, 마쿠시 형식의 표현에 포함된 "이들의 조합"의 용어는 마쿠시 형식의 표현에 기재된 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 혼합 또는 조합을 의미하는 것으로서, 상기 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 의미한다.
본 명세서에서 치환기의 예시들은 아래에서 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 는 연결되는 부위를 의미한다.
본 명세서에서 상기 "치환"이라는 용어는 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 같거나 상이할 수 있다.
본 명세서에서 "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 히드록시기; 시아노기; 알킬기; 시클로알킬기; 알콕시기; 알케닐기; 아릴옥시기; 아릴티오기; 알킬티오기; 실릴기; 아릴기; 및 헤테로아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 이상의 치환기로 치환되었거나, 상기 예시된 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환기로 치환되거나, 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다.
본 명세서에 있어서, 2 이상의 치환기가 연결된다는 것은 어느 하나의 치환기의 수소가 다른 치환기와 연결된 것을 말한다. 예컨대, 2개의 치환기가 연결되는 것은 페닐기와 나프틸기가 연결되어 또는 의 치환기가 될 수 있다. 또한, 3개의 치환기가 연결되는 것은 (치환기 1)-(치환기 2)-(치환기 3)이 연속하여 연결되는 것뿐만 아니라, (치환기 1)에 (치환기 2) 및 (치환기 3)이 연결되는 것도 포함한다. 예컨대, 페닐기, 나프틸기 및 이소프로필기가 연결되어, , 또는 의 치환기가 될 수 있다. 4 이상의 치환기가 연결되는 것에도 전술한 정의가 동일하게 적용된다.
본 명세서에 있어서, 할로겐기의 예로는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드가 있다.
본 명세서에 있어서, 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-프로필기, 이소프로필기, 부틸기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, 1-메틸-부틸기, 1-에틸-부틸기, 펜틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 헥실기, n-헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 3,3-디메틸부틸기, 2-에틸부틸기, 헵틸기, n-헵틸기, 1-메틸헥실기, 시클로펜틸메틸기, 시클로헥실메틸기, 옥틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, 1-메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, 2-프로필펜틸기, n-노닐기, 2,2-디메틸헵틸기, 1-에틸-프로필기, 1,1-디메틸-프로필기, 이소헥실기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 시클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 30인 것이 바람직하며, 구체적으로 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 3-메틸시클로펜틸기, 2,3-디메틸시클로펜틸기, 시클로헥실기, 3-메틸시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 2,3-디메틸시클로헥실기, 3,4,5-트리메틸시클로헥실기, 4-tert-부틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 아다만틸기기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 알콕시기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄일 수 있다. 알콕시기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적으로, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기, sec-부톡시기, n-펜틸옥시기, 네오펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, n-헥실옥시기, 3,3-디메틸부틸옥시기, 2-에틸부틸옥시기, n-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, n-데실옥시기, 벤질옥시기, p-메틸벤질옥시기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 2 내지 30인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 비닐기, 1-프로페닐기, 이소프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1-펜테닐기, 2-펜테닐기, 3-펜테닐기, 3-메틸-1-부테닐기, 1,3-부타디에닐기, 알릴기, 1-페닐비닐-1-일기, 2-페닐비닐-1-일기, 2,2-디페닐비닐-1-일기, 2-페닐-2-(나프틸-1-일)비닐-1-일기, 2,2-비스(디페닐-1-일)비닐-1-일기, 스틸베닐기, 스티레닐기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 아릴기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 6 내지 30인 것이 바람직하며, 상기 아릴기는 단환식 또는 다환식일 수 있다.
상기 아릴기가 단환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 6 내지 50인 것이 바람직하다. 구체적으로 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 아릴기가 다환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나. 탄소수 10 내지 50인 것이 바람직하다. 구체적으로 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라센기, 페난트렌기, 트리페닐렌기, 파이렌기, 페날렌기, 페릴렌기, 크라이센기, 플루오렌기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 플루오렌기는 치환될 수 있으며, 인접한 기들이 서로 결합하여 고리를 형성할 수 있다.
상기 플루오렌기가 치환되는 경우, , , , , , , 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, "인접한" 기는 해당 치환기가 치환된 원자와 직접 연결된 원자에 치환된 치환기, 해당 치환기와 입체구조적으로 가장 가깝게 위치한 치환기, 또는 해당 치환기가 치환된 원자에 치환된 다른 치환기를 의미할 수 있다. 예컨대, 벤젠고리에서 오르토(ortho)위치로 치환된 2개의 치환기 및 지방족 고리에서 동일 탄소에 치환된 2개의 치환기는 서로 "인접한" 기로 해석될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 헤테로아릴기는 탄소가 아닌 원자, 이종원자를 1 이상 포함하는 것으로서, 구체적으로 상기 이종 원자는 O, N, Se 및 S 등으로 이루어진 군에서 선택되는 원자를 1 이상 포함할 수 있다. 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 2 내지 30인 것이 바람직하며, 상기 헤테로아릴기는 단환식 또는 다환식일 수 있다. 헤테로아릴기의 예로는 티오펜기, 퓨란기, 피롤기, 이미다졸기, 티아졸기, 옥사졸기, 옥사디아졸기, 피리딘기, 바이피리딘기, 피리미딘기, 트리아진기, 트리아졸기, 아크리딘기, 피리다진기, 피라진기, 퀴놀린기, 퀴나졸린기, 퀴녹살린기, 프탈라진기, 피리도 피리미딘기, 피리도 피라진기, 피라지노 피라진기, 이소퀴놀린기, 인돌기, 카바졸기, 벤즈옥사졸기, 벤즈이미다졸기, 벤조티아졸기, 벤조카바졸기, 벤조티오펜기, 디벤조티오펜기, 벤조퓨란기, 페난트리딘기(phenanthridine), 페난쓰롤린기(phenanthroline), 이소옥사졸기, 티아디아졸기, 디벤조퓨란기, 디벤조실롤기, 페노크산틴기(phenoxathiine), 페녹사진기(phenoxazine), 페노티아진기(phenothiazine), 디하이드로인데노카바졸기, 스피로플루오렌잔텐기, 스피로플루오렌티옥산텐기, 테트라하이드로나프토티오펜기, 테트라하이드로나프토퓨란기, 테트라하이드로벤조티오펜기, 및 테트라하이드로벤조퓨란기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서 있어서, 상기 실릴기는 알킬실릴기, 아릴실릴기, 알킬아릴실릴기; 헤테로아릴실릴기 등일 수 있다. 상기 알킬실릴기 중 알킬기는 전술한 알킬기의 예시가 적용될 수 있고, 상기 아릴실릴기 중 아릴기는 전술한 아릴기의 예시가 적용될 수 있으며, 상기 알킬아릴실릴기 중의 알킬기 및 아릴기는 상기 알킬기 및 아릴기의 예시가 적용될 수 있고, 상기 헤테로아릴실릴기 중 헤테로아릴기는 상기 헤테로고리기의 예시가 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 탄화수소고리기는 방향족 탄화수소고리기, 지방족 탄화수소고리기, 또는 방향족 탄화수소고리와 지방족 탄화수소고리의 축합고리기일 수 있으며, 상기 시클로알킬기, 아릴기, 및 이들의 조합의 예시 중에서 선택될 수 있으며, 상기 탄화수소고리기는 페닐기, 시클로헥실기, 아다만틸기, 바이시클로[2.2.1]헵틸기, 바이시클로[2.2.1]옥틸기, 테트라하이드로나프탈렌기, 테트라하이드로안트라센기, 1,2,3,4-테트라하이드로-1,4-메타노나프탈렌기, 1,2,3,4-테트라하이드로-1,4-에타노나프탈렌기, 스피로시클로펜탄플루오렌기, 스피로아다만탄플루오렌기, 및 스피로시클로헥산플루오렌기 등이 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 헤테로고리기는 탄소가 아닌 원자, 이종원자를 1 이상 포함하는 것으로서, 구체적으로 상기 이종 원자는 O, N, Se 및 S 등으로 이루어진 군에서 선택되는 원자를 1 이상 포함할 수 있다. 상기 헤테로고리기는 단환 또는 다환일 수 있으며, 방향족 헤테로고리기; 지방족 헤테로고리기; 방향족 헤테로고리와 지방족 헤테로고리의 축합고리기; 지방족 탄화수소고리, 방향족 탄화수소고리 및 방향족 헤테로고리의 축합고리기, 또는 지방족 탄화수소고리, 방향족 탄화수소고리 및 지방족 헤테로고리의 축합고리기 일 수 있으며, 상기 방향족 헤테로고리기는 상기 헤테로아릴기의 예시 중에서 선택될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 지방족 헤테로고리기란 헤테로원자 중 1개 이상을 포함하는 지방족 고리기를 의미한다. 지방족 헤테로고리기는 단결합의 지방족고리기, 다중결합을 포함하는 지방족고리기, 또는 단결합과 다중결합을 포함하는 고리가 축합된 형태의 지방족고리기를 모두 포함한다. 지방족 헤테로고리의 예로는, 에폭시기, 옥시레인기(oxirane), 테트라하이드로퓨란기, 1,4-디옥세인기(1,4-dioxane), 피롤리딘기, 피페리딘기, 모르폴린기(morpholine), 옥세판기, 아조케인기, 티오케인기, 테트라하이드로나프토티오펜기, 테트라하이드로나프토퓨란기, 테트라하이드로벤조티오펜기, 및 테트라하이드로벤조퓨란기 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 아릴옥시기는 -ORo로 표시될 수 있고, 상기 Ro는 전술한 아릴기에 대한 설명이 적용된다.
본 명세서에 있어서, 아릴티오기는 -SRs1으로 표시될 수 있고, 상기 Rs1은 전술한 아릴기에 대한 설명이 적용된다.
본 명세서에 있어서, 알킬티오기는 -SRs2로 표시될 수 있고, 상기 Rs2은 전술한 알킬기에 대한 설명이 적용된다.
본 명세서에 있어서, 알킬렌기는 알킬기에 결합 위치가 두 개 있는 것 즉 2가기를 의미한다. 이들은 각각 2가기인 것을 제외하고는 전술한 알킬기의 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 시클로알킬렌기는 시클로알킬기에 결합 위치가 두 개 있는 것 즉 2가기를 의미한다. 이들은 각각 2가기인 것을 제외하고는 전술한 시클로알킬기의 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 아릴렌기는 아릴기에 결합 위치가 두 개 있는 것 즉 2가기를 의미한다. 이들은 각각 2가기인 것을 제외하고는 전술한 아릴기의 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 헤테로아릴렌기는 아릴기에 결합 위치가 두 개 있는 것 즉 2가기를 의미한다. 이들은 각각 2가기인 것을 제외하고는 전술한 헤테로아릴기의 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1 중 치환기가 표시되지 않은 부분은 수소가 치환된 것을 의미할 수 있다.
이하 본 발명의 바람직한 실시상태를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명의 실시상태는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 설명하는 실시상태들에 한정되지는 않는다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1의 단위는 상기 수지에 1 이상 포함될 수 있으며, 2 이상 포함되는 경우 각 단위는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서에서 *은 다른 구조에 결합 부위를 의미한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 a는 0이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 a는 1이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 b는 0이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 b는 1이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-1이다.
[화학식 1-1]
상기 화학식 1-1에 있어서,
*, X1, X2, R1 내지 R5, R11, R12, Y1, 및 Y2는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 동일하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-2이다.
[화학식 1-2]
상기 화학식 1-2에 있어서,
*, X1 내지 X4, R1 내지 R5, R11, R12, L1, L2, Y1, 및 Y2는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 동일하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 X1은 O이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 X2은 O이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 X3은 O이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 X4은 O이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 X1은 S이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 X2은 S이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 X3은 S이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 X4은 S이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L1 및 L2는 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이며,
상기 Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고,
상기 R1 및 R2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 10 내지 30의 다환의 아릴기; 또는 탄소수 2 내지 30의 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이며,
상기 R3 및 R4는 수소이고,
상기 R11은 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고,
상기 R12는 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴기로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴기이며,
상기 R5는 -La1-Ar1-La2-; 또는 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴렌기이며,
상기 La1 및 La2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴렌기이며,
상기 Ar1은 -O-; -S-; -S(O2)-; 또는 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1 및 R2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 10 내지 30의 다환의 아릴기; 또는 탄소수 2 내지 30의 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1 및 R2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 10 내지 20의 다환의 아릴기; 또는 탄소수 2 내지 20의 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1 및 R2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 나프틸기; 또는 벤조퓨란기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1 및 R2는 나프틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1 및 R2는 벤조퓨란기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R3 및 R4는 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L1 및 L2는 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L1 및 L2는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L1 및 L2는 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L1 및 L2는 에틸렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 메틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R11은 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R11은 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 상기 R11은 메틸기; 에틸기; 또는 이소프로필기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 상기 R11은 메틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R12는 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴기로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R12는 탄소수 6 내지 20의 단환 또는 다환의 아릴기로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 단환 또는 다환의 아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R12는 나프틸기로 치환 또는 비치환된 페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R12는 페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R12는 나프틸기로 치환된 페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R5는 -La1-Ar1-La2-; 또는 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R5는 -La1-Ar1-La2-; 또는 탄소수 6 내지 20의 단환 또는 다환의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R5는 -La1-Ar1-La2-; 또는 탄소수 6 내지 10의 단환 또는 다환의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R5는 -La1-Ar1-La2-; 또는 페닐렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 La1 및 La2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 La1 및 La2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 20의 단환 또는 다환의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 La1 및 La2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 10의 단환 또는 다환의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 La1 및 La2는 페닐렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar1은 -O-; -S-; -S(O2)-; 또는 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar1은 -O-; -S-; -S(O2)-; 또는 탄소수 6 내지 20의 단환 또는 다환의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar1은 -O-; -S-; -S(O2)-; 또는 탄소수 6 내지 15의 단환 또는 다환의 아릴렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar1은 -O-; -S-; -S(O2)-; 또는 플루오렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 는 하기 구조 중 어느 하나이다.
상기 구조에 있어서, 는 상기 화학식 1에 연결되는 부위를 의미한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 수지는 양 말단기로 각각 -OH; -SH; -CO2CH3; -CO2CH2CH3; 또는 -OC6H5 를 가질 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지의 중량평균 분자량은 5,000 g/mol 내지 200,000 g/mol이며, 바람직하게는 10,000 g/mol 내지 100,000 g/mol 더욱 바람직하게는 15,000 g/mol 내지 50,000 g/mol, 20,000 g/mol 내지 40,000 g/mol이다.
상기 수지가 전술한 중량평균 분자량 범위를 만족하는 경우, 상기 수지는 최적의 유동성과 가공성을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지의 수평균 분자량은 3,000g/mol 내지 100,000 g/mol 이며, 5,000g/mol 내지 50,000 g/mol, 10,000g/mol 내지 30,000 g/mol, 12,000g/mol 내지 28,000 g/mol, 바람직하게는 14,000g/mol 내지 25,000 g/mol이다.
본 명세서에 있어서, 수지 및 이의 제조에 사용되는 올리고머의 중량평균 분자량(Mw)은 Agilent 1200 series를 이용하여, 폴리스티렌 표준(PS standard)을 이용한 겔 투과 크로마토그래피(gel permeation chromatography; GPC)로 측정할 수 있다. 구체적으로는 Polymer Laboratories PLgel MIX-B 300mm 길이 칼럼을 이용하여 Agilent 1200 series기기를 이용하여 측정할 수 있으며, 이때 측정 온도는 40℃이고, 사용 용매는 테트라하이드로퓨란(THF)이며, 유속은 1mL/min이다. 수지 또는 올리고머의 샘플은 각각 10mg/10mL의 농도로 조제한 후, 10 μL 의 양으로 공급하고, 폴리스티렌 표준을 이용하여 형성된 검정 곡선을 이용하여 중량평균 분자량(Mw) 값을 유도한다. 이때 폴리스티렌 표준 품의 분자량(g/mol)은 2,000 / 10,000 / 30,000 / 70,000 / 200,000 / 700,000 / 2,000,000 / 4,000,000 / 10,000,000의 9종을 사용한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지의 유리전이온도(Tg)는 90℃ 내지 200℃일 수 있다. 바람직하게는 95℃ 내지 190℃, 100℃ 내지 170℃, 또는 110℃내지 169℃일 수 있다.
상기 수지가 상기 유리전이온도 범위를 만족하는 경우, 내열성 및 사출성이 우수하다.
상기 유리전이온도(Tg)는 시차주사열량계(DSC)로 측정할 수 있다. 구체적으로, 상기 유리전이온도는 5.5mg 내지 8.5mg의 상기 폴리카보네이트 수지 시료를 질소 분위기 하에 270℃까지 가열한 다음 냉각 후 두 번째 가열 시 10℃/min의 승온 속도로 가열하며 스캔하여 얻은 그래프로부터 측정할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지의 파장 589nm에서 측정된 굴절률이 1.65 내지 1.80이다. 상기 굴절률은 바람직하게 1.680 내지 1.750, 더욱 바람직하게는 1.667 내지 1.702일 수 있다. 상기 수지가 상기 굴절률을 만족하는 경우, 이를 광학 렌즈와 같은 성형품에 적용할 때 얇고 가벼운 광학 렌즈의 제조가 가능하다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지의 파장 486, 589, 및 656 nm 에서 측정 및 계산된 아베수는 10 내지 40일 수 있다. 바람직하게는 15 내지 38이고, 더욱 바람직하게 20 내지 35일 수 있고, 더더욱 바람직하게는 27.7 내지 28.2 일 수 있다. 상기 수지가 상기 아베수 범위를 만족하는 경우, 상기 수지를 광학 렌즈와 같은 성형품에 적용할 때 분산이 적으며 선명도가 높아지는 효과가 있다.
상기 아베수는 구제적으로 20℃에서 D(589 nm), F(486 nm), C(656 nm)파장에서의 굴절률(nD, nF, nC)을 각각 측정하여 아래의 계산식에 의해 아베수를 얻을 수 있다.
아베수=(nD-1)/(nF - nC)
상기 굴절률 및 아베수 측정은 상기 수지를 용매에 용해하여 제조한 용액을 실리콘 웨이퍼에 스핀코팅(spin-coating)으로 도포하여 제조된 막으로부터 수행될 수 있으며, 도포된 막을 20℃에서 타원계(ellipsometer)를 이용하여 빛의 파장에 따른 결과값을 얻어 측정할 수 있다. 상기 스핀코팅에 의한 도포는 150 rpm 내지 300 rpm의 회전 속도에서 수행될 수 있고, 상기 도포된 막의 두께는 5㎛ 내지 20㎛일 수 있다. 상기 실리콘 웨이퍼는 특별히 제한되지 않으며, 본 명세서에 따른 수지 조성물의 굴절률 및 아베수를 측정할 수 있는 것이라면 적절히 채용될 수 있다. 상기 용매는 디메틸아세트아마이드 또는 1,2-디클로로벤젠일 수 있고, 상기 용액은 용액 총 중량 기준 상기 수지 시료를 10 중량%로 용해하여 제조할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 구조 중 어느 하나이다.
본 명세서의 일 실시상태는 하기 화학식 1a를 제공한다.
[화학식 1a]
상기 화학식 1a에 있어서,
X1 내지 X4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 O 또는 S이고,
R1 및 R2은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 다환의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이고,
R3 및 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고,
R11은 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고,
R12는 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
a 및 b은 각각 0 또는 1이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1a는 하기 화학식 1a-1이다.
[화학식 1a-1]
상기 화학식 1a-1에 있어서,
X1, X2, R1 내지 R4, R11, R12, Y1 및 Y2의 정의는 상기 화학식 1a에서 정의한 바와 동일하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1a는 하기 화학식 1a-2이다.
[화학식 1a-2]
상기 화학식 1a-2에 있어서,
X1 내지 X4, R1 내지 R4, R11, R12, L1, L2, Y1 및 Y2의 정의는 상기 화학식 1a에서 정의한 바와 동일하다.
본 명세서의 일 실시상태는 하기 화학식 1a의 화합물; 및 폴리아릴렌티오에테르 전구체를 포함하는 수지 제조용 조성물을 중합하는 단계를 포함하는 수지의 제조방법을 제공한다.
[화학식 1a]
상기 화학식 1a에 있어서,
X1 내지 X4, R1 내지 R4, R11, R12, L1, L2, Y1, Y2, a 및 b의 정의는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 동일하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1a는 하기 구조 중 어느 하나이다.
상기 화학식 1a의 화합물을 포함하는 경우, 중합이 용이하고, 치환기에 따라 다양한 범위의 굴절률, 또는 높은 굴절률을 갖고, 넓은 범위의 유리 전이온도를 갖는다.
상기 수지 제조용 조성물은 용매를 더 포함할 수 있다.
상기 용매는 예컨대, 테트라하이드로퓨란, 디페닐에터, 디메틸아세트아마이드, 메틸에틸케톤, 에틸아세테이트, 또는 메탄올일 수 있으나, 이에 한정되지 않고 당 기술분야에서 적용되는 것들이 적절히 채용될 수 있다.
상기 용매는 상기 수지 제조용 조성물 100 중량부에 대하여 5 중량부 내지 60 중량부로 포함될 수 있다.
상기 용매는 상기 수지 제조용 조성물 100 중량부에 대하여 바람직하게 5 중량부 내지 50 중량부, 7 중량부 내지 45 중량부 또는 8 중량부 내지 40 중량부로 포함될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1a의 화합물은 상기 수지 제조용 조성물 100 중량부에 대하여 1 중량부 내지 100 중량부, 1 중량부 내지 99 중량부로 포함될 수 있다.
더욱더 구체적으로는 상기 화학식 1a의 화합물은 상기 수지 제조용 조성물 100 중량부에 대하여 바람직하게 1 내지 60 중량부, 1 내지 50 중량부, 1 내지 40 중량부, 1 내지 30 중량부, 1 내지 20 중량부 또는 1 내지 10중량부로 포함될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 폴리아릴렌티오에테르 전구체는 상기 수지 제조용 조성물 100 중량부에 대하여 1 중량부 내지 60 중량부로 포함될 수 있다.
상기 폴리아릴렌티오에테르 전구체는 상기 수지 제조용 조성물 100 중량부에 대하여 바람직하게 1 내지 60 중량부, 1 내지 55 중량부, 1 내지 50 중량부, 1 내지 45 중량부 또는 1 내지 40 중량부로 포함될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 폴리아릴렌티오에테르 전구체는 하기 화학식 A이다.
[화학식 A]
상기 화학식 A에 있어서,
R5는 -La1-Ar1-La2-; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
La1 및 La2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
Ar1은 -O-; -S-; -S(O2)-; -C(RR')-; -N(R")-; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
R, R' 및 R"는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 A는 하기 화합물 중 어느 하나이다.
상기 화학식 1a의 화합물과 상기 화학식 A의 폴리아릴렌티오에테르 전구체를 중합함으로써 전술한 화학식 1의 단위로 형성될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지는 상기 화학식 1a의 화합물과 상기 화학식 A의 폴리아릴렌티오에테르 전구체로부터 중합되는 것이 바람직하다.
상기 화학식 1a의 화합물은 상기 화학식 1의 단위를 포함하는 수지를 구성하는 전체 단량체 100 몰부 대비 1 몰부 내지 100 몰부, 1 몰부 내지 99 몰부로 사용될 수 있다.
상기 화학식 A의 폴리아릴렌티오에테르 전구체는 상기 수지를 구성하는 상기 화학식 1a의 화합물 전체 단량체 100 몰부 대비 1 몰부 내지 99 몰부로 사용될 수 있다.
본 명세서에 따른 수지의 중합은 당 기술분야에 알려져 있는 방법이 이용될 수 있다.
상기 중합은 용액(solution) 중합법으로 수행하는 것이 바람직하다.
상기 용액(solution) 중합법은 상기 용매를 포함하는 상기 수지 제조용 조성물 및 염기를 사용하고, 필요에 따라 촉매를 추가로 더 사용할 수 있다. 상기 용액(solution) 중합법은 상기 화학식 1a 및 상기 폴리아릴렌티오에테르 전구체를 포함하는 것을 제외하고는 종래에 사용되는 용액(solution) 중합법 및 재료를 이용할 수 있다.
상기 촉매 및 염기는 당 기술분야에 일반적으로 적용되는 물질이 채용될 수 있다. 구체적으로 상기 용액(solution) 중합은 상기 화학식 1a의 화합물; 상기 폴리아릴렌티오에테르 전구체 및 용매를 반응 용기에서 용해 후, 염기를 투입하여 반응을 실시하는 것이 바람직하다.
상기 용액(solution) 중합의 온도는 상온 내지 70℃이며, 바람직하게는 상온 내지 60℃, 더욱 바람직하게는 상온 내지 50℃이다.
상기 용액(solution) 중합의 반응 시간은 1시간 내지 15시간이고, 바람직하게는 3 시간 내지 12 시간 이며, 더욱 바람직하게는 12시간이다.
상기 용액(solution) 중합은 연속식, 또는 배치식으로 실시해도 되며, 반응 조건에 따라서 선택적으로 실시가 가능하다. 반응 장치는 소켄형(soken) 교반 날개, 닻형 교반 날개, 맥스 블렌드 교반 날개, 헤리칼 리본형 교반 날개 등을 장비한 종형일 수 있고, 패들 날개, 격자 날개, 안경 날개 등을 장비한 횡형일 수 있으며, 스크루를 장비한 압출기형일 수 있다. 또한, 중합물의 점도를 감안하여 이들 반응 장치를 적절히 조합한 반응 장치를 사용하는 것이 바람직하게 실시된다.
상기 수지는 용매에 침전하여 여과하여 수득할 수 있으며, 상기 수득과정은 침전 및 여과를 1회 이상 반복할 수 있다.
본 명세서의 수지는, 이물질 함유량이 최대한 적은 것이 바람직하고, 미반응 단량체, 용매, 부산물, 용액의 여과 등이 바람직하게 실시된다.
상기 여과에 사용되는 필터의 메시는, 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이하이다. 또한, 생성되는 수지의 폴리머 필터에 의한 여과가 바람직하게 실시된다. 상기 폴리머 필터의 메시는, 100 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30 ㎛ 이하이다. 또한, 수지 펠릿을 채취하는 공정은, 저더스트 환경이어야 하고, 클래스 6 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 클래스 5 이하이다.
또한, 상기 수지를 포함하는 성형품의 성형 방법으로는, 사출 성형 외에, 압축 성형, 주형, 롤 가공, 압출 성형, 연신 등이 예시되지만 이것에 한정되지 않는다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는 전술한 실시상태들에 따른 수지를 포함하는 수지 조성물을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지는 상기 수지 조성물 100 중량부를 기준으로 1 중량부 내지 80 중량부로 포함될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 수지 조성물은 용매를 더 포함할 수 있다. 상기 용매는 예컨대, 디메틸아세트아마이드 또는 1,2-디클로로벤젠일 수 있다.
상기 용매는 상기 수지 조성물 100 중량부를 기준으로 20 중량부 내지 99 중량부로 포함될 수 있다.
상기 수지 조성물은 상기 화학식 1a의 화합물 외에 추가의 단량체를 더 포함할 수 있다. 상기 추가의 단량체는 특별히 제한되지 않으며, 상기 수지 조성물의 주요한 물성을 변화시키지 않는 범위에서 폴리아릴렌티오에테르 관련 당 기술분야에서 일반적으로 적용되는 단량체가 적절히 채용될 수 있다. 상기 추가의 단량체는 상기 화학식 1의 단위를 포함하는 수지를 구성하는 전체 단량체 100 몰부 대비 1몰부 내지 50 몰부로 사용될 수 있다.
상기 수지 조성물은 상기 화학식 1의 단위를 포함하는 수지 외에, 필요에 따라 첨가제, 예컨대 산화방지제, 가소제, 대전방지제, 핵제, 난연제, 활제, 충격보강제, 형광증백제, 자외선흡수제, 안료 및 염료로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 추가로 포함할 수 있다.
상기 첨가제는 상기 수지 조성물 100 중량부를 기준으로 1 중량부 내지 99 중량부로 포함될 수 있다.
상기 산화방지제, 가소제, 대전방지제, 핵제, 난연제, 활제, 충격보강제, 형광증백제, 자외선흡수제, 안료 또는 염료의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 당 기술분야에서 적용되는 것들이 적절히 채용될 수 있다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는 전술한 실시상태들에 따른 수지 조성물을 포함하는 성형품을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 성형품은 상기 수지 조성물 또는 이의 경화물로부터 제조될 수 있다.
상기 성형품의 제조 방법의 일례로, 상기 화학식 1의 단위를 포함하는 수지와 상기 첨가제를 믹서를 이용하여 잘 혼합한 후에, 압출기로 압출 성형하여 펠릿으로 제조하고, 상기 펠릿을 건조시킨 다음 사출 성형기로 사출하는 단계를 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 성형품은 광학 부재이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 성형품은 광학 렌즈이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 광학 렌즈는 굴절률이 높아 얇은 두께의 광학 렌즈를 구현할 수 있다.
상기 광학 렌즈는 상기 수지를 이용하여 제조되는 것으로, 두께가 얇고, 고굴절률 및 고투명성을 가지며, 바람직하게는 카메라에 적용될 수 있다.
이하, 실시예를 통하여, 본 명세서를 더욱 상세하게 예시한다.
[제조예 1] 모노머 1의 제조
Figure pat00039
화합물 1-A 10.0g(15.8mmol, 1.0eq), 디클로로메탄(DCM) 100ml에 소량 녹인 뒤 질소 치환한 후, 0℃에서 트리에틸아민 4.0g(39.5mmol, 2.5eq)을 투입하였다. 그 뒤 아크릴로일 클로라이드 3.1g(34.8mmol, 2.2eq)를 천천히 투입하고, overnight 교반을 진행하여, 염(salt)를 여과한 뒤 크루드(crude) 용액을 얻었다. 회전감압증발기를 이용해 상기 크루드(crude)용액에서 용매를 제거하고, n-Hexane에 슬러리화하여 10분 이상 교반한 뒤 여과하였다. 여과 후, n-Hexane으로 수세하여 흰 고체인 모노머 1을 7.8g 수득하였다.
MS: [M+H]+=738
[제조예 2] 모노머 2의 제조
Figure pat00040
화합물 1-A 10.0g(15.8mmol, 1.0eq), 디클로로메탄(DCM) 100ml에 소량 녹인 뒤 질소 치환한 후, 0℃에서 트리에틸아민 4.0g(39.5mmol, 2.5eq)을 투입하였다. 그 뒤 메틸아크릴로일 클로라이드 3.6g(34.8mmol, 2.2eq)를 천천히 투입하고, overnight 교반을 진행하여, 염(salt)를 여과한 뒤 크루드(crude) 용액을 얻었다. 회전감압증발기를 이용해 상기 크루드(crude)용액에서 용매를 제거하고, n-Hexane에 슬러리화하여 10분 이상 교반한 뒤 여과하였다. 여과 후, n-Hexane으로 수세하여 흰 고체인 모노머 2을 8.0g 수득하였다.
MS: [M+H]+=766
[제조예 3] 모노머 3의 제조
Figure pat00041
화합물 1-A 대신 1-B를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 1의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 3를 수득하였다.
MS: [M+H]+=650
[제조예 4] 모노머 4의 제조
Figure pat00042
화합물 1-A 대신 1-B를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 2의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 4를 수득하였다.
MS: [M+H]+=678
[제조예 5] 모노머 5의 제조
Figure pat00043
화합물 1-A 대신 2-A를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 1의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 5를 수득하였다.
MS: [M+H]+=738
[제조예 6] 모노머 6의 제조
Figure pat00044
화합물 1-A 대신 2-A를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 2의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 6를 수득하였다.
MS: [M+H]+=766
[제조예 7] 모노머 7의 제조
Figure pat00045
화합물 1-A 대신 2-B를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 1의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 7를 수득하였다.
MS: [M+H]+=650
[제조예 8] 모노머 8의 제조
Figure pat00046
화합물 1-A 대신 2-B를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 2의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 8를 수득하였다.
MS: [M+H]+=678
[제조예 9] 모노머 9의 제조
Figure pat00047
화합물 1-A 대신 3-A를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 1의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 9를 수득하였다.
MS: [M+H]+=718
[제조예 10] 모노머 10의 제조
Figure pat00048
화합물 1-A 대신 3-A를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 2의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 10를 수득하였다.
MS: [M+H]+=746
[제조예 11] 모노머 11의 제조
Figure pat00049
화합물 1-A 대신 3-B를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 1의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 11를 수득하였다.
MS: [M+H]+=630
[제조예 12] 모노머 12의 제조
Figure pat00050
화합물 1-A 대신 3-B를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 2의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 12를 수득하였다.
MS: [M+H]+=658
[제조예 13] 모노머 13의 제조
Figure pat00051
화합물 1-A 대신 4-A를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 2의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 13를 수득하였다.
MS: [M+H]+=864
[제조예 14] 모노머 14의 제조
Figure pat00052
화합물 1-A 대신 4-A를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 2의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 14를 수득하였다.
MS: [M+H]+=892
[제조예 15] 모노머 15의 제조
Figure pat00053
화합물 1-A 대신 4-B를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 2의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 15를 수득하였다.
MS: [M+H]+=776
[제조예 16] 모노머 16의 제조
Figure pat00054
화합물 1-A 대신 4-B를 사용한 것 외에는 모노머(Monomer) 2의 합성과 동일한 방법을 통해 모노머(Monomer) 16를 수득하였다.
MS: [M+H]+=804
[수지의 제조방법]
용액(Solution) 중합법으로 상기 화학식 1a의 화합물, 상기 화학식 A의 화합물을 용매에 녹인 후 염기를 첨가하여 첨가반응을 유도하고 이에 따라 고분자를 형성하는 방법이다.
하기 화합물 A-1 내지 A-4의 디티올 모노머(Dithiol monomer) 중 어느 하나, 상기 모노머(Monomer) 1 내지 16의 디아크릴레이트 모노머(diacrylate monomer) 중 어느 하나를 테트라하이드로퓨란에 녹인 뒤 질소분위기를 만들어준다. 질소 버블링(bubbling)을 30분 이상 진행한다. 이후 triethylamine를 천천히 투입하고 상온 혹은 50℃에서 교반을 진행시켜준다. 12시간 반응 후 메탄올 용매에 침전하여 여과한다. 흰 고체를 수득한다. 침전 및 여과 과정을 반복한다.
상기의 방법으로 하기 실시예 1 내지 64의 수지를 제조하였다.
Figure pat00055
수지 1 의 제조
Figure pat00056
모노머(Monomer) 1 5.0g과 화합물 A-1 2.6g을 테트라하이드로퓨란 30ml에 녹인 뒤 질소분위기를 만들어주었다. 질소 버블링(bubbling)을 30분 이상 진행하였다. 이 후 triethylamine 0.7g을 천천히 투입하고 상 온에서 교반하였다. 12시간 반응 후 메탄올 용매에 침전하여 여과하였다. 흰 고체를 수득하고, 침전 및 여과 과정을 반복하여, 수지 1을 제조하였다.
수지 2 내지 16의 제조
상기 실시예 1에서 모노머(Monomer) 1 대신 모노머(Monomer) 2 내지 모노머(Monomer) 16를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 제조하여 수지 2 내지 수지 16를 제조하였다.
수지 17 내지 32의 제조
상기 실시예 1에서 모노머(Monomer) 1 내지 모노머(Monomer) 16를 각각 사용하고, 화합물 A-1 대신 화합물 A-2를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 제조하여 수지 17 내지 수지 32를 제조하였다.
수지 33 내지 48의 제조
상기 실시예 1에서 모노머(Monomer) 1 내지 모노머(Monomer) 16를 각각 사용하고, 화합물 A-1 대신 화합물 A-3를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 제조하여 수지 33 내지 수지 48를 제조하였다.
수지 49 내지 64의 제조
상기 실시예 1에서 모노머(Monomer) 1 내지 모노머(Monomer) 16를 각각 사용하고, 화합물 A-1 대신 화합물 A-4를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 제조하여 수지 49 내지 수지 64를 제조하였다.
[비교예 1] 비교예 수지 1의 제조
상기 실시예 1에서 모노머 1 대신 하기 C-1을 사용하는 것을 제외하고는 동일하게 제조하여 비교예 수지 1을 제조하였다.
[비교예 2] 비교예 수지 2의 제조
상기 실시예 1에서 모노머 1 대신 하기 C-2을 사용하는 것을 제외하고는 동일하게 제조하여 비교예 수지 2을 제조하였다.
실험예.
중합한 수지 시료의 분자량 및 분자량 분포(PDI(Mw/Mn))를 겔 투과 크로마토그래피(GPC)를 통해 확인하였고 열적 특성을 알아보기 위해 시차주사열량계(DSC)를 이용하여 서모그램(thermogram)을 얻었다. 굴절률 및 아베수를 측정하기 위해 제막 후 타원계(ellipsometer)를 이용하여 빛의 파장에 따른 결과값을 얻었다.
겔투과크로마토그래피(GPC)를 통한 분자량은 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran (THF, stabilized with BHT(butylated hydroxytoluene)))을 용매로 사용하였고, 수지 시료를 테트라하이드로퓨란에 1.0mg/1ml의 농도로 용해시켜 시린지 필터(syringe filter)로 여과하여 만든 용액을 주입하여 40℃에서 측정하여 결과를 얻었으며 이를 하기 표 1에 기재하였다. Waters RI detector를 사용하였고 칼럼(column)은 Agilent PLgel MIXED-B 2개를 사용하였다.
유리전이온도(Tg)는 시차주사열량계(DSC)로 측정할 수 있다. 구체적으로, 상기 유리전이온도는 5.5mg 내지 8.5mg의 상기 폴리카보네이트 수지 시료를 질소 분위기 하에 270℃까지 가열한 다음 냉각 후 두 번째 가열 시 10℃/min의 승온 속도로 가열하며 스캔하여 얻은 그래프로부터 측정하였다.
수지의 굴절률 및 아베수를 측정하기 위해 중합하여 얻은 수지 파우더 시료를 용매 디메틸아세트아마이드에 고분자 용액 총 중량 기준 10 중량%로 용해하여 제조한 고분자 용액을 실리콘 웨이퍼에 스핀코팅(spin-coating)으로 220 rpm의 회전속도로 도포하여 두께 20㎛ 제막 후 20℃에서 타원계(ellipsometer)를 이용하여 빛의 파장에 따른 결과값을 얻었고, 이를 하기 표 1에 기재하였다. 구체적으로 굴절률은 파장 589 nm에서 측정한 것이고, 아베수는 D(589 nm), F(486 nm), C(656 nm)파장에서의 굴절률(nD, nF, nC)을 각각 측정하여 아래의 계산식에 의해 아베수를 얻었다.
아베수=(nD-1)/(nF - nC)
Mw Mn 굴절률(nd) Tg 아베수
실시예1 수지1 41100 22800 1.678 145 27.9
실시예2 수지2 31200 17300 1.674 137 27.7
실시예3 수지3 33000 18300 1.685 161 27.8
실시예4 수지4 27800 15400 1.682 153 28.0
실시예5 수지5 28100 15600 1.679 146 28.0
실시예6 수지6 29900 16600 1.676 139 27.9
실시예7 수지7 30200 16700 1.687 162 27.9
실시예8 수지8 33300 18500 1.683 155 28.0
실시예9 수지9 34500 19100 1.679 157 28.0
실시예10 수지10 37500 20800 1.675 149 27.9
실시예11 수지11 30500 16900 1.685 175 27.8
실시예12 수지12 29000 16100 1.681 167 28.0
실시예13 수지13 30500 16900 1.689 148 28.0
실시예14 수지14 34000 18800 1.686 141 28.0
실시예15 수지15 33100 18300 1.696 162 27.9
실시예16 수지16 31200 17300 1.692 155 28.2
실시예17 수지17 33300 18500 1.681 120 28.0
실시예18 수지18 29000 16100 1.675 110 28.0
실시예19 수지19 28700 15900 1.690 142 27.9
실시예20 수지20 34500 19100 1.685 132 28.2
실시예21 수지21 32100 17800 1.683 123 28.1
실시예22 수지22 31000 17200 1.677 113 28.0
실시예23 수지23 31200 17300 1.692 144 27.9
실시예24 수지24 36200 20100 1.687 134 28.2
실시예25 수지25 34900 19300 1.682 136 28.1
실시예26 수지26 33000 18300 1.676 125 27.9
실시예27 수지27 31200 17300 1.691 160 27.8
실시예28 수지28 28700 15900 1.685 149 28.0
실시예29 수지29 29600 16400 1.694 127 27.9
실시예30 수지30 28700 15900 1.689 119 27.9
실시예31 수지31 26600 14700 1.702 145 27.8
실시예32 수지32 31900 17700 1.698 137 28.0
실시예33 수지33 32100 17800 1.674 125 28.0
실시예34 수지34 33800 18700 1.669 115 27.9
실시예35 수지35 34500 19100 1.683 147 27.8
실시예36 수지36 47800 26500 1.678 137 28.1
실시예37 수지37 40500 22500 1.676 127 27.9
실시예38 수지38 30800 17100 1.671 118 27.8
실시예39 수지39 31200 17300 1.685 149 27.7
실시예40 수지40 32000 17700 1.680 139 27.9
실시예41 수지41 35600 19700 1.675 140 27.9
실시예42 수지42 27800 15400 1.670 130 27.8
실시예43 수지43 29000 16100 1.683 164 27.7
실시예44 수지44 32100 17800 1.678 153 27.9
실시예45 수지45 31200 17300 1.688 131 27.9
실시예46 수지46 27000 15000 1.684 123 27.8
실시예47 수지47 27800 15400 1.696 150 27.7
실시예48 수지48 31200 17300 1.692 141 27.9
실시예49 수지49 33300 18500 1.668 131 27.9
실시예50 수지50 40100 22200 1.670 121 28.2
실시예51 수지51 35000 19400 1.679 153 27.8
실시예52 수지52 31300 17300 1.674 143 28.0
실시예53 수지53 28300 15700 1.672 133 28.0
실시예54 수지54 31900 17700 1.667 123 27.9
실시예55 수지55 30900 17100 1.680 155 27.9
실시예56 수지56 31100 17200 1.676 145 28.0
실시예57 수지57 27100 15000 1.671 145 28.0
실시예58 수지58 31100 17200 1.668 134 27.9
실시예59 수지59 34400 19100 1.679 169 27.8
실시예60 수지60 33600 18600 1.675 158 28.0
실시예61 수지61 32600 18100 1.684 137 28.0
실시예62 수지62 31200 17300 1.680 128 28.0
실시예63 수지63 37800 21000 1.692 155 27.9
실시예64 수지64 31000 17200 1.688 147 28.2
비교예 1 비교예 수지1 45300 25100 1.629 138 30.0
비교예 2 비교예 수지2 42100 23400 1.639 115 29.6
상기 표 1에 있어서, Mn은 수평균 분자량, Mw는 중량평균 분자량을 의미하며, 굴절률은 파장 589 nm에서 측정한 값이다.
상기 표 1에 의하면, 실시예 1 내지 64의 수지는 본 명세서의 실시상태에 따른 화학식 1의 단위를 포함하고, 특히, 비스페놀 A 코어 구조의 벤젠고리의 R1 내지 R2와 같이 전자가 풍부한 치환기로 치환되는 경우 비스페놀 A 코어 구조의 전자 밀도를 높임으로써 굴절률을 향상시킬 수 있다.
반면, 비교예 1 및 2에 따른 수지는 비스페놀 A 코어 구조의 벤젠고리에 전자가 풍부한 치환기를 가지고 있지 않아 본 명세서의 일 실시상태에 따른 화학식 1의 단위를 포함하는 실시예 1 내지 64의 수지 보다 굴절률이 매우 낮음을 확인할 수 있다.
본 명세서의 실시상태에 따른 수지를 광학 렌즈와 같은 성형품에 적절하게 적용하기 위해서는 높은 굴절률이 우선적으로 요구되며, 비교예 1 및 2의 수지의 경우 실시예 1 내지 64의 수지 보다 아베수가 높더라도 굴절률이 매우 낮으므로, 실시예 1 내지 64의 수지가 비교예 1 및 2의 수지 보다 광학 재료로서 더 우수함을 확인할 수 있었다.

Claims (13)

  1. 하기 화학식 1의 단위를 포함하는 수지:
    [화학식 1]

    상기 화학식 1에 있어서,
    X1 내지 X4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 O 또는 S이고,
    R1 및 R2은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 단환 또는 다환의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이고,
    R3 및 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
    R11은 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고,
    R12는 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
    Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
    L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고,
    a 및 b은 각각 0 또는 1이고,
    R5는 -La1-Ar1-La2-; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
    La1 및 La2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
    Ar1은 -O-; -S-; -S(O2)-; -C(RR')-; -N(R")-; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
    R, R' 및 R"는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
    *은 수지의 주쇄에 연결되는 부위를 의미한다.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-1인 것인 수지:
    [화학식 1-1]

    상기 화학식 1-1에 있어서,
    *, X1, X2, R1 내지 R5, R11, R12, Y1, 및 Y2는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 동일하다.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-2인 것인 수지:
    [화학식 1-2]

    상기 화학식 1-2에 있어서,
    *, X1 내지 X4, R1 내지 R5, R11, R12, L1, L2, Y1, 및 Y2는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 동일하다.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이며,
    상기 Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고,
    상기 R1 및 R2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 10 내지 30의 다환의 아릴기; 또는 탄소수 2 내지 30의 단환 또는 다환의 헤테로아릴기 이며,
    상기 R3 및 R4는 수소이며,
    상기 R11은 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고,
    상기 R12는 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴기로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴기이며,
    상기 R5는 -La1-Ar1-La2-; 또는 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴렌기이며,
    상기 La1 및 La2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴렌기이며,
    상기 Ar1은 -O-; -S-; -S(O2)-; 또는 탄소수 6 내지 30의 단환 또는 다환의 아릴렌기인 것인 수지.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 수지의 중량평균 분자량(Mw)은 5,000 g/mol 내지 200,000g/mol인 것인 수지.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 수지의 파장 589nm에서 측정된 굴절률은 1.65 내지 1.80인 것인 수지.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 구조 중 어느 하나인 것인 수지:
    Figure pat00062

    Figure pat00063

    Figure pat00064

    Figure pat00065

    Figure pat00066

    Figure pat00067

    Figure pat00068

    Figure pat00069
  8. 하기 화학식 1a의 화합물:
    [화학식 1a]

    상기 화학식 1a에 있어서,
    X1 내지 X4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 O 또는 S이고,
    R1 및 R2은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 다환의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 단환 또는 다환의 헤테로아릴기이고,
    R3 및 R4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
    Y1 및 Y2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
    L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 알킬렌기이고,
    R11은 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 시클로알킬기이고,
    R12는 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
    a 및 b은 각각 0 또는 1이다.
  9. 청구항 8에 있어서, 상기 화학식 1a는 하기 구조 중에서 선택되는 것인 화합물:
    Figure pat00071

    Figure pat00072
  10. 하기 화학식 1a의 화합물; 및
    폴리아릴렌티오에테르 전구체를 포함하는 수지 제조용 조성물을 중합하는 단계를 포함하는 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 따른 수지의 제조방법:
    [화학식 1a]

    상기 화학식 1a에 있어서,
    *, X1 내지 X4, R1 내지 R4, R11, R12, L1, L2, Y1, Y2, a 및 b는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 동일하다.
  11. 청구항 10에 있어서, 상기 폴리아릴렌티오에테르 전구체는 하기 화학식 A인 것인 수지의 제조방법:
    [화학식 A]

    상기 화학식 A에 있어서,
    R5는 -La1-Ar1-La2-; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
    La1 및 La2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
    Ar1은 -O-; -S-; -S(O2)-; -C(RR')-; -N(R")-; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이며,
    R, R' 및 R"는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
  12. 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 따른 수지를 포함하는 수지 조성물.
  13. 청구항 12에 따른 수지 조성물을 포함하는 성형품.
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